CN112054017A - 一种显示面板、制备方法及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示面板、制备方法及显示装置。该显示面板包括:阵列基板以及设置于阵列基板一侧的微型发光二极管和指纹识别单元,阵列基板包括像素驱动电路,像素驱动电路用于驱动微型发光二极管发光;遮光层,位于指纹识别单元远离阵列基板的一侧;遮光层设置有第一通孔和第二通孔,第一通孔与微型发光二极管交叠,第二通孔暴露指纹识别单元。本发明实施例提供的技术方案可以减小显示面板的厚度,实现显示面板的薄型化。
Description
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板、制备方法及显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展,Micro-LED(微发光二极管)显示面板凭借亮度高、发光效率好,易实现透明显示等优点,成为显示领域的研究热点。
目前,为丰富Micro-LED显示面板的功能,通常将指纹识别模组设置在Micro-LED显示面板的背光侧,以实现指纹识别功能,但是,会导致具有指纹识别功能的显示面板的厚度较厚,不美观。
发明内容
本发明提供一种显示面板、制备方法及显示装置,以减薄显示面板的厚度。
第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,包括:
阵列基板以及设置于所述阵列基板一侧的微型发光二极管和指纹识别单元,所述阵列基板包括像素驱动电路,所述像素驱动电路用于驱动所述微型发光二极管发光;
遮光层,位于所述指纹识别单元远离阵列基板的一侧;
所述遮光层设置有第一通孔和第二通孔,所述第一通孔与所述微型发光二极管交叠,所述第二通孔暴露所述指纹识别单元。
第二方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,该装置包括第一方面所述的显示面板。
第三方面,本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法,包括:
制备阵列基板;
形成指纹识别单元;
转运微型发光二极管至所述阵列基板以及形成遮光层;
所述阵列基板包括像素驱动电路,所述像素驱动电路用于驱动所述微型发光二极管发光;
所述微型发光二极管和所述指纹识别单元位于所述阵列基板一侧;所述遮光层位于所述指纹识别单元远离阵列基板的一侧;
所述遮光层设置有第一通孔和第二通孔,所述第一通孔与所述微型发光二极管交叠,所述第二通孔暴露所述指纹识别单元。
本发明实施例提供的显示面板,通过将指纹识别单元和微型发光二极管设置在阵列基板的同一侧,使得指纹识别单元集成在显示面板中,而不是外挂在显示面板外。解决现有技术中由于指纹识别模组外挂在显示面板外导致厚度较厚问题,实现减薄显示面板厚度的效果。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图2是图1中沿AA’方向的截面图;
图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图4是图3中沿CC’方向的一种截面图;
图5是图3中沿CC’方向的另一种截面图;
图6是图3沿CC’方向的又一种截面图;
图7是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;
图8是图7中沿DD’方向的截面图;
图9是图1中沿BB’方向的一种截面图;
图10是图1中沿BB’方向的另一种截面图;
图11是图1中沿BB’方向的又一种截面图;
图12是本发明实施例提供的再一种显示面板的结构示意图;
图13是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图;
图14是本发明实施例提供的一种形成阵列基板后的结构示意图;
图15是本发明实施例提供的一种转运指纹识别单元至阵列基板后的结构示意图;
图16是本发明实施例提供的另一种形成阵列基板后的结构示意图;
图17是本发明实施例提供的另一种转运指纹识别单元至阵列基板后的结构示意图;
图18是本发明实施例提供的又一种形成阵列基板后的结构示意图;
图19是本发明实施例提供的一种沉积形成指纹识别单元后的结构示意图;
图20是本发明实施例提供的一种转运型发光二极管后的结构示意图;
图21是本发明实施例提供的一种形成遮光层后的结构示意图;
图22是本发明实施例提供的一种形成第一通孔和第二通孔后的结构示意图
图23是本发明实施例提供的一种形成遮光层后的结构示意图;
图24是本发明实施例提供的另一种形成第一通孔和第二通孔后的结构示意图;
图25是本发明实施例提供的另一种转运型发光二极管后的结构示意图;
图26是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
有鉴于背景技术中提到的问题,本发明实施例提供了一种显示面板,该显示面板包括:
阵列基板以及设置于阵列基板一侧的微型发光二极管和指纹识别单元,阵列基板包括像素驱动电路,像素驱动电路用于驱动微型发光二极管发光;
遮光层,位于指纹识别单元远离阵列基板的一侧;
遮光层设置有第一通孔和第二通孔,第一通孔与微型发光二极管交叠,第二通孔暴露指纹识别单元。
以上是本申请的核心思想,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下,所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。参见图1,该显示面板包括:阵列基板10以及设置于阵列基板10一侧的微型发光二极管20和指纹识别单元30,阵列基板10包括像素驱动电路110,像素驱动电路110用于驱动微型发光二极管20发光;遮光层40,位于指纹识别单元30远离阵列基板10的一侧;遮光层40设置有第一通孔410和第二通孔420,第一通孔410与微型发光二极管20交叠,第二通孔420暴露指纹识别单元30。
具体的,微型发光二极管20是指尺寸小于100微米的发光二极管,其具体结构有多种,本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定。可选的,微型发光二极管20包括层叠体210、第一电极220和第二电极230,层叠体210包括层叠设置的第一型半导体、有源层和第二型半导体,有源层位于第一型半导体和第二型半导体之间。在第一型半导体、有源层和第二型半导体的层叠方向上,第一电极220和第二电极230位于层叠体210的同一侧(如图2所示),或者,第一电极220位于第一型半导体背离有源层的一侧,第二电极230位于第二型半导体背离有源层的一侧。为便于描述,下文中将以第一电极220和第二电极230位于层叠体210的同一侧进行说明。需要说明的是,微型发光二极管20的设置密度,本领域技术人员可根据显示面板的像素密度要求进行设置,此处不作限定。示例性的,相邻微型发光二极管20之间的距离可以在50um-70um之间。
具体的,像素驱动电路110与微型发光二极管20电连接,用于产生驱动电流,以驱动微型发光二极管20发光。像素驱动电路110的具体实现形式有多种,本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定。示例性的,像素驱动电路110可以包括“2T1C”或者“7T1C”型像素驱动电路。
具体的,指纹识别单元30用于进行指纹识别,微型发光二极管20发出的光照射到手指后,被手指反射至指纹识别单元30,指纹识别单元30根据反射光的光强即可进行识别出指纹脊和指纹谷。指纹识别单元30中具体包括的器件将在下文中进行详述,此处先不作限定。需要说明的是,图1中仅示例性示出了在全屏设置指纹识别单元30,以实现全屏指纹识别,但并非对本申请的限定,例如,在其它实施方式中还可以在尺寸小于显示区尺寸的一指纹识别区域内设置指纹识别单元30。并且,指纹识别单元30的设置密度,本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定,示例性的,相邻两指纹识别单元30之间的距离可以在3mm-4mm之间。
具体的,遮光层40用于遮光,其材料本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定,示例性的,遮光层40的材料可选用黑色树脂。遮光层40上开设有第一通孔410,第一通孔410在阵列基板10上的正投影与微型发光二极管20在阵列基板10上的正投影交叠,以使第一通孔410至少部分裸露出微型发光二极管20,进而使得微型发光二极管20发出的光中的至少部分可以被人眼接收到。需要说明的是,图1中仅示例性示出了每个微型发光二极管20与一个第一通孔410对应,但并非对本申请的限定,本领域技术人员可根据实际情况设置每个微型发光二极管20对应的第一通孔410的数量。
具体的,遮光层40上还开设有第二通孔420,第二通孔420在阵列基板10上的正投影与指纹识别单元30在阵列基板10上的正投影交叠,以使第二通孔420至少部分裸露出指纹识别单元30,进而使得手指反射回的光可以被指纹识别单元30接收到,可以理解的是,第二通孔420还起到准直的作用,可防止相邻两指纹识别单元30之间光信号串扰。需要说明的是,图1中仅示例性示出了每个指纹识别单元30与一个第二通孔420对应,但并非对本申请的限定,本领域技术人员可根据实际情况设置每个指纹识别单元30对应的第二通孔420的数量。
可以理解的是,对于阵列基板10而言,除去第一通孔410和第二通孔420对应位置处,其它位置均被遮光层40遮盖,遮光层40可吸收外界光,避免阵列基板10中的金属层(金属层用于形成像素驱动电路110、阳极和阴极等)反射外界的光,如此,可提高显示面板的对比度,进而提高显示质量。
本发明实施例提供的显示面板,通过将指纹识别单元和微型发光二极管设置在阵列基板的同一侧,使得指纹识别单元集成在显示面板中,而不是外挂在显示面板外。解决现有技术中由于指纹识别模组外挂在显示面板外导致厚度较厚问题,实现减薄显示面板厚度的效果。
具体的,第一通孔410与微型发光二极管20交叠的具体实现情况有多种,下面就典型示例进行说明,但并不构成对本申请的限定。
图2是图1中沿AA’方向的截面图。参见图2,可选的,微型发光二极管20位于遮光层40与阵列基板10之间,第一通孔410暴露微型发光二极管20。
具体的,在阵列基板10制备完成之后,可以先转运微型发光二极管20,然后在微型发光二极管20背离阵列基板10的一侧形成遮光层40,最后,在遮光层40上开设第一通孔410和第二通孔420。可以理解的是,在形成遮光层40之前先转运微型发光二极管20,可使微型发光二极管20的转运不受遮光层40的限制或阻挡,微型发光二极管20的转运相对自由,有利于降低微型发光二极管20的转运难度。
继续参见图2,可选的,阵列基板10包括第一连接端子120,微型发光二极管20与第一连接端子120电连接;遮光层40覆盖第一连接端子120,且第一通孔410暴露微型发光二极管20的部分上发光面211,其中,上发光面211为微型发光二极管20中背离阵列基板10一侧的发光面。
具体的,微型发光二极管20包括相互连接的上发光面211和侧发光面212,因此,微型发光二极管20能够向四面八方出光。通过在遮光层40上开设第一通孔410将部分上发光面211裸露出来,可使人眼接收到裸露出的上发光面211出射的光;同时,通过遮光层40遮盖侧发光面212来吸收侧发光面212出射的光,可避免侧发光面212出射的光对相邻发光二极管产生干扰,并且,还可以避免侧发光面212出射的光直接照射在指纹识别单元30上产生干扰,如此,可提高指纹识别精度。
图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。图4是图3中沿CC’方向的一种截面图。图5是图3中沿CC’方向的另一种截面图。参见图3-图5,可选的,微型发光二极管20至少部分嵌入第一通孔410内。
具体的,在阵列基板10制备完成之后,可以先形成遮光层40,然后在遮光层40上开设第一通孔410和第二通孔420,最后,转运微型发光二极管20,以使微型发光二极管20嵌入第一通孔410内。如此,易于将微型发光二极管20的上发光面211完全裸露出来,有利于提高微型发光二极管20的光线利用率。并且,可灵活设置微型发光二极管20嵌入第一通孔410的程度,例如,可设置微型发光二极管20部分嵌入第一通孔410内,即微型发光二极管20的远离阵列基板10的表面所在平面和阵列基板10之间的距离大于遮光层40的远离阵列基板10的表面所在平面和阵列基板10之间的距离;还可以设置微型发光二极管20完全嵌入第一通孔410内(如图4、图5以及后续的图6和图8所示)。
需要说明的是,图3中示例性示出了每个指纹识别单元30正上方开设8个第二通孔420,但并非对本申请的限定,本领域技术人员可根据实际情况设置每个指纹识别单元30正上方开设的第二通孔420的数量以及每个第二通孔420的尺寸。并且,图1和图3中示例性示出了一个指纹识别单元30对应三个微型发光二极管20,但并非对本申请的限定,本领域技术人员可根据实际情况设置指纹识别单元30的分布密度,例如,在其它实施方式中,还可以设置一个指纹识别单元30对应一个微型发光二极管20。还需要说明的是,图1和图3中示例性示出了指纹识别单元30设置在相邻两行微型发光二极管20之间,但并非对本申请的限定,例如,在其它实施方式中,在设置指纹识别单元30位于相邻两行微型发光二极管20之间的同时,还可以设置指纹识别单元30位于相邻两列微型发光二极管20之间。
继续参见图4和图5,可选的,阵列基板10包括第一连接端子120,微型发光二极管20与第一连接端子120电连接;第一通孔410至少部分暴露第一连接端子120。
具体的,第一通孔410可以部分暴露第一连接端子120,如图4所示;第一通孔410还可以将第一端子全部暴露出来,如图5所示,本领域技术人员可根据实际情况设置第一通孔410暴露第一连接端子120的程度。微型发光二极管20通过与第一连接端子120裸露出来的部分连接,实现与像素驱动电路110的电连接。
继续参见图4和图5,可选的,微型发光二极管20在阵列基板10上的垂直投影落在阵列基板10被第一通孔410裸露出的区域内。如此,可使第一通孔410的结构简单,有利于降低形成第一通孔410的难度。
图6是图3沿CC’方向的又一种截面图。参见图6,可选的,第一通孔410包括相互连通的两个第一子通孔,两个第一子通孔之间由遮光层40间隔,且排列方向与阵列基板10所在平面平行;第一子通孔至少部分暴露第一连接端子120;微型发光二极管20的第一电极220和第二电极230完全嵌入第一子通孔内,微型发光二极管20的层叠体210搭置于两个第一子通孔之间的遮光层40上。如此,两个第一子通孔之间的遮光层40可以对微型发光二极管20提供支撑作用,有利于提高微型发光二极管20的安装稳定性,进而提高显示面板的抗震能力。
图7是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。图8是图7中沿DD’方向的截面图。参见图7和图8,可选的,第一通孔410包括相互连通且呈台阶状层叠的第二子通孔411和第三子通孔412,第三子通孔412位于第二子通411孔背离阵列基板10的一侧,且第三子通孔412的开口大于第二子通孔411的开口;微型发光二极管20的第一电极220和第二电极230嵌入第二子通孔411内,微型发光二极管20的层叠体210搭置于第二子通孔411和第三子通孔412的交接面上,且至少部分嵌入第三子通孔413内。如此,第二子通孔411和第三子通孔412的交接面可以对微型发光二极管20提供支撑作用,有利于提高微型发光二极管20的安装稳定性,进而提高显示面板的抗震能力。
继续参见图4-图6以及图8,可选的,微型发光二极管20位于第一通孔410内,且微型发光二极管20的上发光面211所在平面与阵列基板10之间的距离h小于遮光层40的远离阵列基板10的表面所在平面与阵列基板10之间的距离H。
具体的,遮光层40可以吸收微型发光二极管20的侧发光面212出射的光,防止相邻微型发光二极管20的串扰以及防止对指纹识别产生干扰。可以理解的是,一方面,遮光层40可以起到防止相邻微型发光二极管20的串扰的作用,另一方面,遮光层40还可以起到承载具有准直作用的第二通孔420的作用,即遮光层40一层膜层起到了双重作用,相比于设置一层膜层防止相邻微型发光二极管20的串扰,并额外设置另外一层膜层承载第二通孔420,本发明实施例的方案有利于减少显示面板内总膜层数量,进而实现显示面板的薄型化。需要说明的是,H和h的具体值本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定。
继续参见图4-图6以及图8,可选的,阵列基板10包括第一连接端子120,第一连接端子120包括第一连接电极121和第二连接电极122;微型发光二极管20包括层叠体210、第一电极220和第二电极230,层叠体210包括层叠设置的第一型半导体、有源层和第二型半导体,有源层位于第一型半导体和第二型半导体之间,在第一型半导体、有源层和第二型半导体的层叠方向上,第一电极220和第二电极230位于层叠体210的同一侧;第一电极220与第一连接电极121连接,第二电极230与第二连接电极122连接。
具体的,第一连接电极121和第二连接电极122的材料本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定。示例性的,第一连接电极121和第二连接电极122的材料可以选用铜、钛、氧化铟锡等导电材料。
可以理解的是,通过倒装的方式转运微型发光二极管20,可同时完成第一电极220与第一连接电极121的连接以及第二电极230与第二连接电极122的连接,提高微型发光二极管20的转运速度。
具体的,指纹识别单元30的具体实现形式有多种,下面就典型示例进行说明,但并非对本申请的限定。
图9是图1中沿BB’方向的一种截面图。参见图9,可选的,阵列基板10包括第二连接端子140;指纹识别单元30包括光学传感器310以及指纹识别驱动电路130,指纹识别驱动电路130用于驱动光学传感器310;指纹识别单元30通过第二连接端子140与阵列基板10电连接。
具体的,第二连接端子140包括至少一个第三连接电极141,指纹识别单元30包括至少一个第三电极320,第三电极320和第三连接电极141一一对应连接,第三电极320和第三连接电极141的数量本领域技术人员可根据指纹识别驱动电路130的具体实现形式设置,此处不作限定。其中,阵列基板10通过第三连接电极141向指纹识别驱动单元30提供指纹识别驱动单元30正常工作所需的信号,例如指纹识别电源电压、指纹识别扫描信号等,指纹识别驱动单元30还通过第三连接电极141向阵列基板10发送携带指纹信息的指纹识别信号。
图10是图1中沿BB’方向的另一种截面图。参见图10,可选的,阵列基板10包括第二连接端子140和指纹识别驱动电路130;指纹识别单元30包括光学传感器310,光学传感器310通过第二连接端子140与指纹识别驱动电路130连接。
具体的,第二连接端子140包括至少一个第三连接电极141,指纹识别单元30(即光学传感器310)包括至少一个电极,光学传感器310中的电极和第三连接电极141一一对应连接,光学传感器310中的电极和第三连接电极141的数量本领域技术人员可根据光学传感器310的具体实现形式设置,此处不作限定,而光学传感器310的具体类型本领域技术人员可根据实际情况选择,此处也不作限定。示例性的,当光学传感器310为光电二极管时,光学传感器310包括传感结构、第四电极和第五电极,传感结构用于实现光学传感,第二连接端子140包括两个第三连接电极141,第四电极与其中一个第三电极141连接,第五电极与另一个第三电极141连接,以实现光学传感器310与指纹识别驱动电路130的电连接。
可以理解的是,通过将指纹识别驱动电路130集成在阵列基板10中,可使用于形成指纹识别驱动电路130的膜层中的至少一层与形成像素驱动电路110的膜层中的至少一层同层设置,示例性的,指纹识别驱动电路130中的晶体管与像素驱动电路110中的晶体管同层设置,和/或,指纹识别驱动电路130中的电容与像素驱动电路110中的电容同层设置。如此,可减少显示面板的总膜层数量,实现显示面板的薄型化,并且,可简化显示面板的制备步骤,降低成本。
图11是图1中沿BB’方向的又一种截面图。参见图11,可选的,阵列基板10包括指纹识别驱动电路130;指纹识别单元30包括光学传感器310,光学传感器310通过过孔与指纹识别驱动电路130连接。
具体的,在阵列基板10制备完成之后,在阵列基板10的一侧通过沉积的方式形成光学传感器310,光学传感器310中的电极通过过孔与指纹识别驱动电路130连接,光学传感器310中的电极的数量本领域技术人员可根据光学传感器310的具体实现形式设置,此处不作限定,而光学传感器310的具体类型本领域技术人员可根据实际情况选择,此处也不作限定。示例性的,当光学传感器310为光电二极管时,光学传感器310包括传感结构、第四电极和第五电极,第四电极和第五电极通过过孔与指纹识别驱动电路130连接。
可以理解的是,在阵列基板10上直接沉积指纹识别单元30,可省去将指纹识别单元30转运至阵列基板10的操作过程,简化显示面板的制备过程。
需要说明的是,图9和图10中为作图方便将光学传感器310简化作图,并未体现出光学传感器310中的传感结构311、第四电极312和第五电极313的具体膜层设置关系,光学传感器310中各部分的具体膜层设置关系示例性的可以参见后续将介绍的图19,具体的,传感结构311可以位于第四电极312和第五电极313之间,并且第四电极312包括沿传感结构311、第四电极312和第五电极313层叠方向延伸的部分,以使第四电极312与第三连接电极141的连接部分和第五电极313与第三连接电极141的连接部分位于传感结构311的同一侧,但并不限于此,本领域技术人员可根据实际情况设置光学传感器310中传感结构311、第四电极312和第五电极313的具体膜层设置关系。
可选的,指纹识别单元30包括至少一个晶体管,晶体管包括TFT晶体管或CMOS晶体管。
具体的,当晶体管为TFT晶体管时,可以采用玻璃作为衬底基板,晶体管的沟道层的材料可以选用低温多晶硅(Low Temperature Ploy Silicon,LTPS)、非晶硅(简称A-si)、或者其它本领域技术人员可知的材料,此处不作限定。由于像素驱动电路110中的晶体管通常为TFT晶体管,因此,当指纹识别驱动电路130集成在阵列基板10中,可以通过同一工序同时制备出像素驱动电路110和指纹识别驱动电路130中的晶体管。
可选地,指纹识别驱动电路还可以集成在指纹识别单元30中,转运至阵列基板10上。当晶体管为CMOS晶体管时,可以采用硅做为衬底,优选将指纹识别驱动电路130集成在指纹识别单元30中,转运至阵列基板10上,鉴于CMOS晶体管的制备工艺,指纹识别单元30的密度可以做的比较高,有利于提高指纹识别精度。
在上述技术方案的基础上,图12是本发明实施例提供的再一种显示面板的结构示意图。参见图12,可选的,阵列基板10还包括显示扫描线SCANX以及显示电源线VX;显示扫描线SCANX用于向像素驱动电路110提供显示扫描信号,显示电源线VX用于向像素驱动电路110提供显示电源电压;至少一条显示扫描线SCANX复用为指纹识别扫描线SCANZ,与指纹识别驱动电路电连接,用于向指纹识别电路提供指纹识别扫描信号;和/或;至少一条显示电源线VX复用为指纹识别电源线VZ,与指纹识别驱动电路电连接,用于向指纹识别电路提供指纹识别电源电压。
具体的,显示扫描线SCANX用于向像素驱动电路110提供显示扫描信号,当显示扫描信号有效时,像素驱动电路110中的开关晶体管打开,外部输入的数据电压可以写入像素驱动电路110,进而使得像素驱动电路110根据数据电压产生驱动电流,驱动微型发光二极管20发光。显示电源线VX用于向像素驱动电路110提供电源电压,即为像素驱动电路110供电,以使其正常工作。指纹识别扫描线SCANZ用于向指纹识别驱动电路提供指纹识别扫描信号,当指纹识别扫描信号有效时,指纹识别驱动电路驱动光学传感器310将携带有指纹信号的光信号转换为电信号。指纹识别电源线VZ用于向指纹识别驱动电路提供电源电压,即为指纹识别驱动电路供电,以使其正常工作。
具体的,选用哪条显示电源线VX复用为指纹识别电源线VZ以及选用哪条显示扫描线SCANX复用为指纹识别扫描线SCANZ,本领域技术人员可根据实际情况设置,此处不作限定。可以理解的是,将显示电源线VX复用为指纹识别电源线VZ和/或将显示扫描线SCANX复用为指纹识别扫描线SCANZ,可减少阵列基板10内信号线的数量,有利于增大相邻信号线之间的间隙,降低短路的风险。
需要说明的是,阵列基板10上还包括其它与像素驱动电路110电连接的信号线,以及其它与指纹识别驱动电路电连接的信号线,本领域可根据现有技术设置,此处不再赘述。
可选的,微型发光二极管20的上发光面211所在平面位于光学传感器310的感光面所在平面背离阵列基板10的一侧。
如此,当先将指纹识别单元30转运至阵列基板10上时,指纹识别单元30不会对后续微型发光二极管20的准运产生阻碍,例如,通过倒装的方式转运微型发光二极管20时,最后需下压用于转运微型发光二极管20的转运基板(通常为平面型基板),以使微型发光二极管20与阵列基板10上的第一连接端子120紧密接触,由于指纹识别单元30较矮,因此,指纹识别单元30不会阻碍转运基板向下压。此外,光学传感器310的感光面越靠近阵列基板10,其与手指的距离越大,根据物距和像距的关系可知,光学传感器310的感光面与手指的距离越大,光学传感器310的分辨率越大,有利于降低指纹识别单元30的分布密度,进而降低成本。
基于同上的发明构思,本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法。图13是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图。参见图13,该方法具体包括如下步骤:
S110、制备阵列基板。
其中,阵列基板包括像素驱动电路,像素驱动电路用于驱动微型发光二极管发光。
S120、形成指纹识别单元。
S130、转运微型发光二极管至阵列基板以及形成遮光层。
其中,微型发光二极管和指纹识别单元位于阵列基板一侧;遮光层位于指纹识别单元远离阵列基板的一侧;遮光层设置有第一通孔和第二通孔,第一通孔与微型发光二极管交叠,第二通孔暴露指纹识别单元。
可选的,形成指纹识别单元包括:转运指纹识别单元至阵列基板。
示例性的,图14是本发明实施例提供的一种形成阵列基板后的结构示意图。图15是本发明实施例提供的一种转运指纹识别单元至阵列基板后的结构示意图。参见图14和图15,可选的,阵列基板10包括第二连接端子140;指纹识别单元30包括光学传感器310以及指纹识别驱动电路130,指纹识别驱动电路130用于驱动光学传感器310;指纹识别单元30通过第二连接端子140与阵列基板10电连接。“指纹识别单元30通过第二连接端子140与阵列基板10电连接”的具体实现请参照前文相关描述,此处不再赘述。具体的,形成阵列基板10具体可以包括:在衬底上依次形成有源层101、第一绝缘层、栅极金属层102、第二绝缘层、源漏金属层103、第三绝缘层以及连接端子层104,如此,像素驱动电路110中的薄膜晶体管为顶栅结构。阵列基板10中各膜层的形成方式均可为物理气相沉积、化学气相沉积、喷墨打印或本领域技术人员可知的其它成膜方法,此处,不对阵列基板10中各膜层的材料以及制备工艺进行限定。需要说明的是,图14中仅示例性示出了像素驱动电路110中的晶体管为顶栅结构,但并不限于此,例如,在其它实施方式中还可以设置像素驱动电路110中的晶体管为底栅结构。还需要说明的是,图14中仅示例性示出了阵列基板10中用于向指纹识别驱动单元提供信号的信号线位于源漏金属层103,但并不限于此,例如,在其它实施方式中还可以向指纹识别驱动单元提供信号的信号线位于栅极金属层101或者其它额外单独设置的金属膜层。
示例性的,图16是本发明实施例提供的另一种形成阵列基板后的结构示意图。图17是本发明实施例提供的另一种转运指纹识别单元至阵列基板后的结构示意图。参见图16和图17,可选的,阵列基板10包括第二连接端子140和指纹识别驱动电路;指纹识别单元30包括光学传感器310,光学传感器310通过第二连接端子140与指纹识别驱动电路连接。“光学传感器310通过第二连接端子140与指纹识别驱动电路连接”的具体实现请参照前文相关描述,此处不再赘述。
可选的,形成指纹识别单元包括:在阵列基板一侧沉积形成指纹识别单元。
示例性的,图18是本发明实施例提供的又一种形成阵列基板后的结构示意图。图19是本发明实施例提供的一种沉积形成指纹识别单元后的结构示意图。参见图18和图19,可选的,阵列基板10包括指纹识别驱动电路;指纹识别单元30包括光学传感器310,光学传感器310通过过孔与指纹识别驱动电路连接。“光学传感器310通过过孔与指纹识别驱动电路连接”的具体实现请参照前文相关描述,此处不再赘述。具体的,指纹识别单元30中各膜层的形成方式均可为物理气相沉积、化学气相沉积、喷墨打印或本领域技术人员可知的其它成膜方法,此处,不对指纹识别单元30中各膜层的材料以及制备工艺进行限定。图18中示例性示出了光学传感器310中的第四电极312位于连接端子层104,但并非对本申请的限定,在其它实施方式中,还可以设置第四电极312位于单独额外设置的金属膜层。
可选的,转运微型发光二极管至阵列基板以及形成遮光层包括:
S131、转运微型发光二极管至阵列基板。
示例性的,图20是本发明实施例提供的一种转运型发光二极管后的结构示意图。
S132、在微型发光二极管背离阵列基板的一侧形成遮光层。
示例性的,图21是本发明实施例提供的一种形成遮光层40后的结构示意图。
S133、在遮光层上开设第一通孔和第二通孔,以使第一通孔暴露微型发光二极管。
示例性的,图22是本发明实施例提供的一种形成第一通孔和第二通孔后的结构示意图。
需要说明的是,通过“先转运微型发光二极管后形成遮光层”形成的显示面板的情况并不限于图22所示的一种,示例性的,通过该方式形成的显示面板中的微型发光二极管的设置形式还可以如图4-图6或图8所示,并且,通过该方式形成的显示面板中的指纹识别单元的设置形式还可以如图10和图11所示。
可选的,转运微型发光二极管至阵列基板以及形成遮光层包括:
S134、在指纹识别单元背离阵列基板的一侧形成遮光层。
示例性的,图23是本发明实施例提供的一种形成遮光层后的结构示意图。
S135、在遮光层上开设第一通孔和第二通孔。
示例性的,图24是本发明实施例提供的另一种形成第一通孔和第二通孔后的结构示意图。
S136、转运微型发光二极管至阵列基板,以使微型发光二极管至少部分嵌入第一通孔内。
示例性的,图25是本发明实施例提供的另一种转运型发光二极管后的结构示意图。
需要说明的是,通过“先形成遮光层后转运微型发光二极管”形成的显示面板的情况并不限于图25所示的一种,示例性的,通过该方式形成的显示面板中的微型发光二极管的设置形式还可以如图2、图5、图6或图8所示,并且,通过该方式形成的显示面板中的指纹识别单元的设置形式还可以如图9和图11所示。
基于同上的发明构思,本发明实施例还提供了一种显示装置。该显示装置包括本发明任意实施所述的显示面板。因此该显示装置具备本发明实施例提供的显示面板的有益效果,相同之处可参照上文理解,此处不再赘述。
示例性的,图26是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图26所示,本发明实施例提供的显示装置200包括本发明实施例提供的显示面板100。显示装置200示例性的可以为触摸显示屏、手机、平板计算机、笔记本电脑或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (18)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板以及设置于所述阵列基板一侧的微型发光二极管和指纹识别单元,所述阵列基板包括像素驱动电路,所述像素驱动电路用于驱动所述微型发光二极管发光;
遮光层,位于所述指纹识别单元远离阵列基板的一侧;
所述遮光层设置有第一通孔和第二通孔,所述第一通孔与所述微型发光二极管交叠,所述第二通孔暴露所述指纹识别单元。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述微型发光二极管位于所述遮光层与所述阵列基板之间,所述第一通孔暴露所述微型发光二极管。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括第一连接端子,所述微型发光二极管与所述第一连接端子电连接;
所述遮光层覆盖所述第一连接端子,且所述第一通孔暴露所述微型发光二极管的部分上发光面,其中,所述上发光面为微型发光二极管中背离所述阵列基板一侧的发光面。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述微型发光二极管至少部分嵌入所述第一通孔内。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括第一连接端子,所述微型发光二极管与所述第一连接端子电连接;所述第一通孔至少部分暴露所述第一连接端子。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述微型发光二极管位于所述第一通孔内,且所述微型发光二极管的上发光面所在平面与所述阵列基板之间的距离小于所述遮光层的远离所述阵列基板的表面所在平面与所述阵列基板之间的距离;其中,所述上发光面为微型发光二极管中背离所述阵列基板一侧的发光面。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括第一连接端子,所述第一连接端子包括第一连接电极和第二连接电极;
所述微型发光二极管包括层叠体、第一电极和第二电极,所述层叠体包括层叠设置的第一型半导体、有源层和第二型半导体,所述有源层位于所述第一型半导体和所述第二型半导体之间,在所述第一型半导体、有源层和第二型半导体的层叠方向上,所述第一电极和所述第二电极位于所述层叠体的同一侧;
所述第一电极与所述第一连接电极连接,所述第二电极与所述第二连接电极连接。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括第二连接端子;所述指纹识别单元包括光学传感器以及指纹识别驱动电路,所述指纹识别驱动电路用于驱动所述光学传感器;
所述指纹识别单元通过所述第二连接端子与所述阵列基板电连接。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括第二连接端子和指纹识别驱动电路;所述指纹识别单元包括光学传感器,所述光学传感器通过所述第二连接端子与所述指纹识别驱动电路连接。
10.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括第指纹识别驱动电路;所述指纹识别单元包括光学传感器,所述光学传感器通过过孔与所述指纹识别驱动电路连接。
11.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述指纹识别单元包括至少一个晶体管,所述晶体管包括TFT晶体管或CMOS晶体管。
12.根据权利要求8-10任一项所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括显示扫描线以及显示电源线;所述显示扫描线用于向所述像素驱动电路提供显示扫描信号,所述显示电源线用于向所述像素驱动电路提供显示电源电压;
至少一条所述显示扫描线复用为指纹识别扫描线,与所述指纹识别驱动电路电连接,用于向所述指纹识别电路提供指纹识别扫描信号;和/或;
至少一条所述显示电源线复用为指纹识别电源线,与所述指纹识别驱动电路电连接,用于向所述指纹识别电路提供指纹识别电源电压。
13.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-12任一项所述的显示面板。
14.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
制备阵列基板;
形成指纹识别单元;
转运微型发光二极管至所述阵列基板以及形成遮光层;
所述阵列基板包括像素驱动电路,所述像素驱动电路用于驱动所述微型发光二极管发光;
所述微型发光二极管和所述指纹识别单元位于所述阵列基板一侧;所述遮光层位于所述指纹识别单元远离阵列基板的一侧;
所述遮光层设置有第一通孔和第二通孔,所述第一通孔与所述微型发光二极管交叠,所述第二通孔暴露所述指纹识别单元。
15.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,所述形成指纹识别单元包括:转运所述指纹识别单元至所述阵列基板。
16.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,所述形成指纹识别单元包括:在所述阵列基板一侧沉积形成所述指纹识别单元。
17.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,所述转运微型发光二极管至所述阵列基板以及形成遮光层包括:
转运所述微型发光二极管至所述阵列基板;
在所述微型发光二极管背离所述阵列基板的一侧形成遮光层;
在所述遮光层上开设所述第一通孔和所述第二通孔,以使所述第一通孔暴露所述微型发光二极管。
18.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,所述转运微型发光二极管至所述阵列基板以及形成遮光层包括:
在所述指纹识别单元背离所述阵列基板的一侧形成遮光层;
在所述遮光层上开设所述第一通孔和所述第二通孔;
转运所述微型发光二极管至所述阵列基板,以使所述微型发光二极管至少部分嵌入所述第一通孔内。
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