CN112601616A - 层叠体及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种在具有防污层的层叠体中容易维持良好的防污性的层叠体及其制造方法。层叠体依次层叠有基材层、底漆层和防污层。层叠体中，防污层中的与底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下，防污层中的与底漆层侧相反的一侧的表面的水接触角为105°以上。

Description

层叠体及其制造方法
技术领域
本发明涉及层叠体及其制造方法。
背景技术
智能手机、平板终端等便携式电子设备中，为了保护触控面板，在触控面板表面贴合保护膜。已知由于对这样的保护膜要求不易附着指纹、污垢的性质、即便附着了指纹、污垢也容易擦拭的性质等防污性而在保护膜的最外表面设置防污层(例如，专利文献1、2等)。
专利文献1和2中记载了利用对防污剂进行真空蒸镀的方法、进行湿式涂布的方法而形成防污层。真空蒸镀由于通常在真空室内进行，因此会以分批的方式进行生产，存在生产效率降低的趋势。认为由于利用湿式涂布等湿式法形成防污层时能够连续生产，因此能够提高生产效率。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5468167号公报
专利文献2：日本特开2017－52901号公报
发明内容
本发明的目的在于提供在具有防污层的层叠体中容易维持良好的防污性的层叠体及其制造方法。
本发明提供以下的层叠体及其制造方法。
〔1〕一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，
上述防污层中的与上述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下，
上述防污层中的与上述底漆层侧相反的一侧的表面的水接触角为105°以上。
〔2〕一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，
上述底漆层中的上述防污层侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下。
〔3〕根据〔2〕所述的层叠体，其中，上述防污层中的与上述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下。
〔4〕根据〔2〕或〔3〕所述的层叠体，其中，上述算术平均粗糙度Ra1与上述基材层中的上述底漆层侧的表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值为5nm以下。
〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的层叠体，其中，上述基材层在上述底漆层侧具有硬涂层。
〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项所述的层叠体，其中，上述基材层为透明基材。
〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项所述的层叠体，其中，上述基材层中的上述底漆层侧的表面的算术平均粗糙度Ra2为6nm以下。
〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项所述的层叠体，其中，上述防污层的厚度为20nm以下。
〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项所述的层叠体，其中，上述基材层的与上述底漆层相反的一侧的表面具有粘合剂层。
〔10〕一种层叠体的制造方法，所述层叠体依次层叠有基材层、底漆层和防污层，所述制造方法包含如下工序：
在上述基材层上涂布用于形成上述底漆层的底漆层形成用组合物的工序，以及在上述底漆层上涂布用于形成上述防污层的防污层形成用组合物的工序；
上述底漆层形成用组合物包含含有至少1种有机溶剂的溶剂，
上述溶剂的温度25℃的蒸气压为2.0kPa～4.0kPa。
〔11〕根据〔10〕所述的层叠体的制造方法，其中，上述溶剂含有2种以上的有机溶剂。
〔12〕根据〔10〕或〔11〕所述的层叠体的制造方法，其中，利用喷涂来进行涂布上述底漆层形成用组合物的工序。
〔13〕根据〔10〕～〔12〕中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，利用喷涂来进行涂布上述防污层形成用组合物的工序。
〔14〕根据〔13〕所述的层叠体的制造方法，其中，涂布上述防污层形成用组合物的工序以上述防污层形成用组合物的每单位面积的喷射量为4.5cc/m2～60.5cc/m2的方式涂布防污层形成用组合物。
根据本发明，能够提供一种容易维持良好的防污性的层叠体。
附图说明
图1是表示本发明的层叠体的一个例子的示意截面图。
图2是表示本发明的层叠体的另一个例子的示意截面图。
图3是表示本发明的层叠体的又一个例子的示意截面图。
图4中的(a)和(b)是表示本发明的层叠体的制造工序的一个例子的示意截面图。
图5中的(a)和(b)是示出对以往的层叠体的防污层表面进行观察的显微镜照片的图。
具体实施方式
以下，参照附图，对本发明的层叠体及其制造方法所优选的实施方式进行说明。应予说明，本发明的范围不限定于在此说明的实施方式，可以在不损害本发明的主旨的范围内进行各种变更。例如，以下示出的各实施方式和变形例可以任意组合。
[实施方式1]
(层叠体)
图1～图3是分别表示本实施方式的层叠体的一个例子的示意截面图。图5中的(a)和(b)是示出表示以往的层叠体的防污层表面的一个例子的显微镜照片的图。本实施方式的层叠体1依次层叠有基材层11、底漆层21和防污层31，底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下。算术平均粗糙度Ra1优选为5.5nm以下，更优选为5.0nm以下，进一步优选为4.5nm以下，更进一步优选为4.0nm以下。算术平均粗糙度Ra1可以为0nm以上，也可以为0.5nm以上，还可以为1.0nm以上。算术平均粗糙度Ra1可以通过后述的实施例所记载的方法进行测定。
如后所述，利用涂布法来形成防污层31时，为了提高基材层11与防污层31的密合性，有时利用涂布法在基材层11上形成底漆层21，并在该底漆层21上形成防污层31。利用涂布法来形成底漆层21和防污层31时，例如，如果进行后述的耐磨损性试验，则有时会出现层叠体中的防污性降低。对其原因进行了研究，结果发现：在出现防污性降低的以往的层叠体的防污层的表面，如图5(a)和(b)中的白色线状部分所示，明显呈现出线状不均。认为图5(a)和(b)中所示的白色线状部分为受到底漆层的凹凸形状的影响而在防污层31也明显产生凹凸的部分。另外，对于防污性降低的层叠体，确认了产生防污层剥离等损伤，确认了这样的损伤容易在上述明显呈现线状不均的防污层中产生。推测由此容易产生防污层从底漆层的凹凸形状大的部分剥离等损伤，在底漆层的防污层侧的表面的算术平均粗糙度Ra1大时容易产生防污层的损伤。
因此，本实施方式的层叠体1中，使底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下，使底漆层的凹凸形状变小。因此，在该底漆层21上形成了防污层31的层叠体1在用手指触摸防污层31、或者用手指在防污层31上滑动、或者用布等擦拭附着于防污层31的污垢而继续使用的情况下也容易维持良好的防污性。认为这是由于底漆层21的凹凸形状较小，因此，当用手指触摸防污层31或者用手指在防污层31上滑动时能够抑制防污层31剥离等损伤产生，防污层31的耐磨损性变得不易降低。
层叠体1也有时根据用途而暴露于醇等化学试剂。如本实施方式的层叠体1那样，通过使底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下，从而在附着醇等化学试剂的条件下继续使用时也容易维持良好的防污性。认为这是由于底漆层21的凹凸形状较小，因此当化学试剂附着于防污层31、或者用手指在附着有化学试剂的防污层31上滑动、或者用附着有化学试剂的布等擦拭防污层31的污垢时也能够抑制防污层31剥离等损伤产生，在化学试剂的存在下耐磨损性也变得不易降低。
此外，如上所述，通过使底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下，能够使在基材层11上形成了底漆层21的带有底漆层的基材层的雾度为例如0.6％以下。这样，通过使算术平均粗糙度Ra1为6nm以下，还能够抑制带有底漆层的基材层产生不均等而使雾度变大。带有底漆层的基材层的雾度优选为0.6％以下，更优选为0.5％以下，进一步优选为0.4％以下。雾度可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。
另外，层叠体1中，基材层11中的底漆层21侧的表面的算术平均粗糙度Ra2优选为6nm以下。算术平均粗糙度Ra2更优选为5.7nm以下，进一步优选为5.5nm以下，也可以为5.0nm以下。算术平均粗糙度Ra2可以为0nm以上，也可以为1nm以上，还可以为2nm以上。另外，层叠体1中，算术平均粗糙度Ra1与算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值优选为5nm以下，更优选为4nm以下，进一步优选小于3.5nm，更进一步优选为3.2nm以下。算术平均粗糙度Ra1与算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值可以为0nm以上，也可以为0.5nm以上。算术平均粗糙度Ra2可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。
通过使基材层11中的底漆层21侧的表面的算术平均粗糙度Ra2为6nm以下，容易使底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1形成为6nm以下，因此容易减小层叠体1的防污层31侧的表面的凹凸形状。由此，容易提供一种易于维持良好的防污性的层叠体1。另外，通过使算术平均粗糙度Ra1与算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值为5nm以下，也与上述同样，容易减少层叠体1的防污层31侧的表面的凹凸形状，因此容易提供一种易于维持良好的防污性的层叠体1。
另外，层叠体1的防污层31侧的表面(防污层31的与底漆层21侧相反的一侧的表面)的算术平均粗糙度Ra3优选为8nm以下，更优选为7.5nm以下，进一步优选为7nm以下，可以为5.5nm以下，也可以为5.0nm以下，还可以为4.5nm以下，还可以为4.0nm以下。算术平均粗糙度Ra3可以为0nm以上，也可以为0.5nm以上，还可以为1.0nm以上。如上所述，通过将底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1形成6nm以下，从而容易形成防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下的层叠体1。另外，通过使防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下，能够提供一种耐磨损性不易降低、在化学试剂的存在下的耐磨损性也不易降低的层叠体。认为由此在层叠体1中易于维持良好的防污性。算术平均粗糙度Ra3可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。
层叠体1的防污层31侧的表面上的水接触角优选为105°以上，更优选为110°以上，进一步优选为115°以上，通常为150°以下。这里所说的水接触角是指进行耐磨损性试验、耐化学品性试验之前的水接触角(初期水接触角)。水接触角可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。通过使层叠体1的防污层31侧的表面(防污层31的与底漆层21相反的一侧的表面)的水接触角在上述范围，能够对层叠体1赋予良好的防污性。
[实施方式2]
在本实施方式中，对与上述实施方式中说明的部件相同的部件标以相同的符号，省略其说明。
本实施方式的层叠体1与之前的实施方式同样，依次层叠有基材层11、底漆层21和防污层31。对于本实施方式的层叠体1，在防污层31中的与底漆层21侧相反的一侧的表面，该表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下，该表面的水接触角为105°以上。这里所说的水接触角为进行耐磨损性试验、耐化学品性试验之前的水接触角(初期水接触角)。水接触角可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。另外，算术平均粗糙度Ra2可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。
算术平均粗糙度Ra3更优选为7.5nm以下，进一步优选为7nm以下，可以为5.5nm以下，也可以为5.0nm以下，还可以为4.5nm以下，还可以为4.0nm以下。算术平均粗糙度Ra3可以为0nm以上，也可以为0.5nm以上，还可以为1.0nm以上。通过使层叠体1的防污层31侧的表面(防污层31的与底漆层21相反的一侧的表面)的算术平均粗糙度Ra3在上述的范围，能够提供一种耐磨损性不易降低、化学试剂的存在下的耐磨损性也不易降低的层叠体。认为由此层叠体1容易维持良好的防污性。
防污层31中的与底漆层21侧相反的一侧的表面的水接触角优选为110°以上，更优选为115°以上，通常为150°以下。通过使层叠体1的防污层31侧的表面(防污层31的与底漆层21相反的一侧的表面)的水接触角在上述的范围，能够对层叠体1赋予良好的防污性。
本实施方式的层叠体1中，底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1也可以为6nm以下。算术平均粗糙度Ra1优选为5.5nm以下，更优选为5.0nm以下，进一步优选为4.5nm以下，更进一步优选为4.0nm以下。算术平均粗糙度Ra1可以为0nm以上，也可以为0.5nm以上，还可以为1.0nm以上。算术平均粗糙度Ra1可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。由此，如之前的实施方式所说明的那样，由于容易减小层叠体1的防污层31侧的表面的凹凸形状，因此容易提供一种耐磨损性不易降低、化学试剂的存在下的耐磨损性也不易降低的层叠体。另外，可以使在基材层11上形成了底漆层21的带有底漆层的基材层的雾度为例如0.6％以下。
本实施方式的层叠体1中，基材层11中的底漆层21侧的表面的算术平均粗糙度Ra2优选为6nm以下。算术平均粗糙度Ra2更优选为5.7nm以下，进一步优选为5.5nm以下，可以为5.0nm以下。算术平均粗糙度Ra2可以为0nm以上，也可以为1nm以上，还可以为2nm以上。另外，层叠体1中，算术平均粗糙度Ra1与算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值优选为5nm以下，更优选为4nm以下，进一步优选为小于3.5nm，更进一步优选为3.2nm以下。算术平均粗糙度Ra1与算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值可以为0nm以上，也可以为0.5nm以上。算术平均粗糙度Ra2可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。
通过使基材层11中的底漆层21侧的表面的算术平均粗糙度Ra2在上述的范围内，从而如之前的实施方式所说明的那样，容易使底漆层21中的防污层31侧的表面的算术平均粗糙度Ra1形成为6nm以下，因此容易减少层叠体1的防污层31侧的表面的凹凸形状。由此，容易提供一种易于维持良好的防污性的层叠体1。另外，通过使算术平均粗糙度Ra1与算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值在上述的范围内，也与上述同样，容易减小层叠体1的防污层31侧的表面的凹凸形状，因此容易提供一种易于维持良好的防污性的层叠体1。
以下，对上述所有实施方式中通用的各事项进行详细说明。
(层叠体的变形例)
层叠体1不限于具有图1所示的结构的层叠体，例如，可以为具有图2所示的结构的层叠体2，也可以为具有图3所示的结构的层叠体3。图2所示的层叠体2在具有基材层12代替基材层11这点上与图1所示的层叠体1不同，层叠体2的基材层12如图2所示，具有树脂层12a并在树脂层12a的底漆层21侧具有硬涂层12b。树脂层12a和硬涂层12b可以如图2所示以直接相接的方式设置，也可以在树脂层12a与硬涂层12b之间具有用于形成硬涂层的底漆层。另外，也可以在树脂层12a的与硬涂层12b相反的一侧具有硬涂层，该情况下，可以在树脂层12a与硬涂层12b之间具有用于形成硬涂层的底漆层。
图3所示的层叠体3在基材层11的与底漆层21相反的一侧具有粘合剂层41。粘合剂层41可以用于将层叠体3贴合于要求防污性的物品。例如，层叠体3可以介由粘合剂层41贴合于偏光板、触控面板传感器。另外，如上所述，层叠体的基材层可以具有树脂层和硬涂层，硬涂层可以设置于树脂层的两面。层叠体具有粘合剂层且在与防污层相反的一侧的树脂层设置有硬涂层时，硬涂层可以设置于树脂层与粘合剂层41之间。另外，如上所述，在树脂层与硬涂层之间可以具有用于形成硬涂层的底漆层。此外，图3所示的层叠体3可以具有被覆粘合剂层41的表面的隔离件。
(层叠体的用途)
作为应用层叠体1～3的物品，只要是要求防污性的物品，就没有特别限定。例如，除了图像显示装置、光学元件、半导体元件、建筑材料、纳米压印技术、太阳能电池、汽车和建筑物的窗玻璃、炊具等金属制品、餐具等陶瓷制品、塑料制的汽车部件以外，还能够用于厨房、浴室、洗手盆、镜子、卫生间周边的各部件、护目镜、眼镜等。特别是，通过使基材层11、12为透明基材，能够适用于光学用途。作为光学用途，例如，可以举出触控面板显示器；智能手机、平板终端，音乐播放器、笔记本电脑等便携式电子设备；液晶显示器、有机EL显示器等图像显示装置；CD、DVD、蓝光盘等光记录介质等。作为基材层11使用树脂材料时、如图2所示使用具有树脂层12a和硬涂层12b的基材层12时，可以将层叠体1～3弯曲或制成卷状物，由此能够将层叠体1～3适当地应用于具有曲面形状的部件、挠性显示器等可弯曲的部件。例如，层叠体1～3可以用作成为挠性显示器等图像显示装置的最外表面的部件(例如，前面板)。
(层叠体的制造方法)
图4中的(a)和(b)为表示实施方式的层叠体的制造工序的一个例子的示意截面图。本实施方式的层叠体1的制造方法包含如下工序：
在基材层11上涂布用于形成底漆层21的底漆层形成用组合物22的工序，以及在底漆层21上涂布用于形成防污层31的防污层形成用组合物32的工序；
底漆层形成用组合物22包含含有至少1种有机溶剂的溶剂，
上述溶剂的温度25℃的蒸气压为2.0kPa～4.0kPa。
涂布底漆层形成用组合物22的工序中，在基材层11上涂布底漆层形成用组合物22而形成底漆层21(图1)。涂布底漆层形成用组合物22的工序中，如图4(a)所示，使用例如喷涂机等涂布装置将底漆层形成用组合物22涂布于配置在工作台51上的基材层11。使用喷涂机作为涂布装置时，例如在图4(a)中如箭头所示，优选一边使工作台51与喷涂机的喷嘴52相对移动，一边将底漆层形成用组合物22涂布在基材层11上。应予说明，作为涂布底漆层形成用组合物22的方法，不限于喷涂法，也可以使用浸涂法、辊涂法、棒涂法、旋涂法、模涂法、凹版涂布法等。
在涂布底漆层形成用组合物22的工序中，为了提高基材层11与底漆层21的密合性，可以利用等离子体处理、电晕处理、紫外线处理等对基材层11的底漆层21侧的表面进行表面处理。
底漆层形成用组合物22是将底漆成分与含有至少1种有机溶剂的溶剂混合而得的。底漆层形成用组合物22中使用的溶剂可以仅含有1种有机溶剂，优选含有2种以上的有机溶剂。
底漆层形成用组合物22中使用的溶剂在温度25℃的蒸气压为2.0kPa～4.0kPa。温度25℃的蒸气压优选为2.3kPa以上，也可以为2.5kPa以上，另外，优选为3.8kPa以下，更优选为3.5kPa以下，也可以为3.0kPa以下。底漆层形成用组合物22中使用的溶剂的温度25℃的蒸气压小于2.0kPa时、超过4.0kPa时，存在所得到的底漆层21的形成防污层31的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra1容易变为大于6nm的值的趋势，其结果，存在层叠体1难以维持良好的防污性的趋势。另外，存在带有底漆层的基材层容易产生线状不均、或者带有底漆层的基材层的雾度变大的趋势。
在溶剂由1种有机溶剂构成的情况下，本说明书中的蒸气压可以为由文献等明确的该有机溶剂的温度25℃的蒸气压。溶剂为2种以上的有机溶剂的混合溶剂时，可以由根据文献等明确的各有机溶剂的温度25℃的蒸气压和混合溶剂中的各有机溶剂的摩尔分率来确定。具体而言，溶剂为有机溶剂A和有机溶剂B的混合溶剂时，可以如下计算：混合溶剂的蒸气压[kPa]＝(有机溶剂A的摩尔分率×有机溶剂A的温度25℃的蒸气压)+(有机溶剂B的摩尔分率×有机溶剂A的温度25℃的蒸气压)。
作为可用于底漆层形成用组合物22的溶剂，只要用单一溶剂或者混合2种以上的溶剂能够在温度25℃下调整为上述的蒸气压，就没有特别限定，例如，可以使用醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯溶剂、醚酯溶剂、烃系溶剂、酰胺溶剂等。
作为醇溶剂，可举出甲醇、乙醇(EtOH)、丙醇、丁醇、己醇、环己醇、乙二醇、丙二醇和甘油等。
作为酮溶剂，可举出甲乙酮(MEK)、甲基异丁基酮、4－羟基－4－甲基－2－戊酮、丙酮、2－丁酮、2－庚酮、3－庚酮、4－庚酮、4－甲基－2－戊酮、环戊酮、2－乙酰基环戊酮、环己酮、2－乙酰基环己酮和异佛尔酮等。
作为醚溶剂，可举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丙基醚、乙二醇单丁基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丁基醚、丙二醇单甲基醚(PGME)、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚(PP)、丙二醇单丁基醚、3－甲氧基－1－丁醇、3－甲氧基－3－甲基丁醇、四氢呋喃、四氢吡喃、1,4－二
Figure BDA0002952184650000101
烷、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚(EDM)、二乙二醇二丙基醚、二乙二醇二丁基醚、苯甲醚、苯***、甲基苯甲醚、甲氧基环己烷、二丙基醚等。
作为酯溶剂，可举出乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、2－羟基异丁酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酸环己酯、乙酸2－甲基环己酯、丙酸环己酯、乙酸顺式3,3,5－三甲基环己酯、乙酸4－叔丁基环己酯、丁酸环己酯、环己烷甲酸异丙酯和γ－丁内酯等。
作为醚酯溶剂，可举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丙基醚、乙二醇单丁基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丁基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚、丙二醇单丁基醚、3－甲氧基－1－丁醇、3－甲氧基－3－甲基丁醇、四氢呋喃、四氢吡喃、1,4－二
Figure BDA0002952184650000102
烷、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二丙基醚、二乙二醇二丁基醚、苯甲醚、苯***、甲基苯甲醚、甲氧基环己烷等。
作为烃系溶剂，可举出脂肪族烃系溶剂、脂环式烃系溶剂、芳香族烃系溶剂等。作为脂肪族烃系溶剂，可举出戊烷、己烷等。作为脂环式烃系溶剂，可举出环己烷等。作为芳香族烃溶剂，可举出苯、甲苯、二甲苯和均三甲苯等。作为酰胺溶剂，可举出N,N－二甲基甲酰胺、N,N－二甲基乙酰胺和N－甲基吡咯烷酮等。
其中，作为溶剂，优选使用醇溶剂、酮溶剂、醚溶剂，优选使用醇溶剂、醚溶剂。
涂布底漆层形成用组合物22的工序例如优选在温度20℃～28℃、相对湿度40％RH～60％RH的条件下进行。通过将在涂布底漆层形成用组合物22的工序中在基材层11上涂布底漆层形成用组合物22所形成的涂布层以例如温度22℃～26℃干燥10秒～60秒，可以形成底漆层21。上述的干燥优选在不使用加热器等加热装置的情况下进行，也可以使用加热装置进行。
在如上所述形成于基材层11上的底漆层21上涂布用于形成防污层31的防污层形成用组合物32而形成防污层31。在涂布防污层形成用组合物32的工序中，如图4(b)所示，使用例如喷涂机等涂布装置在载置于工作台51上的基材层11上的底漆层21上涂布防污层形成用组合物32。使用喷涂机作为涂布装置的情况下，例如在图4(b)中如箭头所示，优选一边使工作台51与喷涂机的喷嘴53相对移动，一边在底漆层21上涂布防污层形成用组合物32。应予说明，作为涂布防污层形成用组合物32的方法，不限于喷涂法，也可以使用浸涂法、辊涂法、棒涂法、旋涂法、模涂法、凹版涂布法等。
涂布防污层形成用组合物32的工序例如优选在温度20℃～28℃、湿度40％RH～60％RH的条件下进行。通过将在涂布防污层形成用组合物32的工序中在底漆层21上涂布将防污层形成用组合物32所形成的涂布层以例如温度50～200℃加热1分钟～45分钟，可以形成防污层31。由此，能够得到图1所示的层叠体1。
利用喷雾涂布进行涂布防污层形成用组合物32的工序时，防污层形成用组合物32的每单位面积的喷射量例如优选为4.5cc/m2以上，更优选为9.0cc/m2以上，进一步优选为14.0cc/m2以上，更进一步优选为18.5cc/m2以上，另外，优选为60.5cc/m2以下，更优选为55.5cc/m2以下，进一步优选为51.0cc/m2以下，更进一步优选为46.0cc/m2以下。
通过使防污层形成用组合物32的每单位面积的喷射量在上述的范围内，从而容易形成防污层31的与底漆层21侧相反的一侧的表面(层叠体1的防污层31侧的表面)的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下、而且该表面的水接触角(初期水接触角)为105°以上的层叠体。与此相对，防污层形成用组合物32的每单位面积的喷射量小于上述范围时，底漆层21表面不易被防污层形成用组合物32充分被覆，存在防污层31的与底漆层21侧相反的一侧的表面的水接触角变小的趋势。另外，防污层形成用组合物32的每单位面积的喷射量大于上述的范围时，存在防污层31的与底漆层21侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3变大的趋势。此外，防污层形成用组合物32的每单位面积的喷射量变大时，防污层31所含有的防污性成分中的未与底漆层21所含有的底漆成分的官能团键合的成分的比例增加，因此容易产生防污层31剥离等损伤，不易维持良好的防污性。
在得到图2所示的层叠体2的情况下，可以使用基材层12来代替基材层11。基材层12例如可以通过在树脂层12a上涂布硬涂层形成用组合物的、利用化学蒸镀、物理蒸镀等进行蒸镀等而形成。另外，得到图3所示的层叠体3的情况下，可以在得到图1所示的层叠体1后，通过将粘合剂层41涂布或转印到基材层11的与底漆层21相反的一侧而形成。
以下，对形成层叠体1～3的各层的材料等进行详述。
(基材层)
基材层只要能够形成防污层，就没有特别限定，优选为透明基材。透明基材是指具有可透射光、特别是可见光程度的透明性的基材。这里，透明性是指对在波长380～780nm的光线的透过率为80％以上的特性。作为基材层，可以为玻璃基材、树脂基材中的任一者，优选为树脂基材。作为树脂基材，可以没有特别限制地使用，例如，可举出由三乙酰纤维素、乙酰基纤维素丁酸酯、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰基丙酰基纤维素、聚酯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚丙烯酸、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯等高分子形成的膜。这些高分子可以单独使用或混合2种以上使用。基材层的厚度例如可以为10μm～300μm，优选为30μm～100μm。
如图2所示，基材层可以具有树脂层12a和硬涂层12b。在树脂层12a上设置有硬涂层12b的情况下，为了改善树脂层12a与硬涂层12b的密合力，可以对树脂层12a的形成硬涂层12b的一侧的表面利用等离子体处理、电晕处理、紫外线处理等进行表面处理，也可以进行底漆处理。
作为树脂层12a，可以使用在可使于基材层的树脂基材中举出的材料。树脂层12a的厚度例如可以为10μm～250μm，优选为20μm～120μm。
硬涂层12b是为了对层叠体赋予耐磨损性的目的等而设置的层，优选铅笔硬度为2H以上。硬涂层12b可以为单层结构，也可以为多层结构。硬涂层12b可以由涂布法形成，也可以由化学蒸镀、物理蒸镀等蒸镀法形成。硬涂层12b的厚度例如可以为1μm～30μm，优选为1μm～10μm。在树脂层的两面形成硬涂层时，硬涂层的厚度可以彼此相同，也可以彼此不同。
利用涂布法形成硬涂层12b时，优选使用树脂材料。树脂材料没有特别限定，例如，可以举出(甲基)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、聚氨酯系树脂、乙烯基苄基氯系树脂、乙烯基系树脂或有机硅系树脂或这些的混合树脂层的紫外线固化型、电子束固化型等活性能量线固化型的树脂。作为形成硬涂层12b的树脂，优选活性能量线固化型的(甲基)丙烯酸系树脂，可以在分子内具有1个或2个以上的(甲基)丙烯酰基，也可以为具有树枝状结构的多官能(甲基)丙烯酸酯。由涂布法形成的硬涂层12b可以含有各种添加剂。作为添加剂，为了提高硬涂层12b的耐磨损性、耐刮擦性、铅笔硬度等机械特性，可以含有粒径为1nm～100nm的无机纳米粒子、紫外线吸收剂、热稳定剂、流平剂等。
由涂布法形成的硬涂层12b例如可以通过将包含上述树脂材料的硬涂层形成用组合物涂布在图2(a)所示的树脂层12a上而形成。为了提高树脂层12a与硬涂层12b的密合性，可以对树脂层12a的形成硬涂层12b的一侧的表面利用等离子体处理、电晕处理、紫外线处理等进行表面处理，另外，还可以在树脂层12a的形成硬涂层12b的一侧的表面设置硬涂层用的底漆层。在树脂层12a上涂布硬涂层形成用组合物后，根据需要进行干燥处理、利用活性能量线照射等的固化处理等，由此能够形成硬涂层12b。
利用蒸镀法形成硬涂层12b时，例如可以利用等离子体CVD法等而形成含有碳的氧化硅的膜。
(底漆层)
作为用于形成构成层叠体1～3的底漆层21的底漆成分，可以举出环氧系化合物、聚酰胺酸、有机硅化合物等，其中，优选使用有机硅化合物。作为有机硅化合物，例如，优选使用下述式(c1)表示的化合物。
Figure BDA0002952184650000131
上述式(c1)中，
Rx1、Rx2、Rx3和Rx4各自独立地为氢原子或碳原子数1～4的烷基，Rx1存在多个时多个Rx1可以各自不同，Rx2存在多个时多个Rx2可以各自不同，Rx3存在多个时多个Rx3可以各自不同，Rx4存在多个时多个Rx4可以各自不同，
Rfx1、Rfx2、Rfx3和Rfx4各自独立地为1个以上的氢原子被取代为氟原子的碳原子数1～20的烷基或氟原子，Rfx1存在多个时多个Rfx1可以各自不同，Rfx2存在多个时多个Rfx2可以各自不同，Rfx3存在多个时多个Rfx3可以各自不同，Rfx4存在多个时多个Rfx4可以各自不同，
Rx5为碳原子数1～20的烷基，Rx5存在多个时多个Rx5可以各自不同，
X为水解性基团，X存在多个时多个X可以各自不同，
Y为－NH－或－S－，Y存在多个时多个Y可以各自不同，
Z为乙烯基、α－甲基乙烯基、苯乙烯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、氨基、异氰酸酯基、异氰脲酸酯基、环氧基、脲基或巯基，
p1为1～20的整数，p2、p3和p4各自独立地为0～10的整数，p5为1～10的整数，
p6为1～3的整数，
Z－、－Si(X)p6(Rx5)3－p6、p1个－{C(Rx1)(Rx2)}－、p2个的－{C(Rfx1)(Rfx2)}－、p3个的－{Si(Rx3)(Rx4)}－、p4个的－{C(Rfx3)(Rfx4)}－和p5个的－Y－只要Z－和－Si(X)p6(Rx5)3－p6为末端，－O－不与－O－连接，就以任意顺序排列键合。
优选使用如下的化合物：上述式(c1)中，Rx1和Rx2均氢原子，Y为－NH－，X为烷氧基(特别是甲氧基或乙氧基)，Z为氨基或巯基，p1为1～10，p2、p3和p4均为0，p5为1～5(特别是1～3)，p6为3的化合物。
上述的式(c1)表示的有机硅化合物中，优选下述式(c2)表示的化合物。
Z1-CqH2q-Y1-CrH2r-Si(X1)p61(Rx51)3-p61…(c2)
上述式(c2)中，
X1为水解性基团，X1存在多个时多个X1可以各自不同，
Y1为－NH－，
Z1为氨基或巯基，
Rx51为碳原子数1～20的烷基，Rx51存在多个时多个Rx51可以各自不同，
p61为1～3的整数，q为2～5的整数，r为0～5的整数。
上述的底漆成分可以与上述溶剂混合而形成底漆层形成用组合物。底漆层形成用组合物100质量份中含有的底漆成分(例如，上述有机硅化合物)的含量优选为0.05质量份以上，更优选为0.08质量份以上，进一步优选为0.1质量份以上，另外，优选为2质量份以下，更优选为1.5质量份以下，进一步优选为1.2质量份以下。
底漆层21的厚度例如可以为1nm～1μm。
(防污层)
作为用于形成构成层叠体1～3的防污层31的材料，优选具有来自氟化合物的结构。作为具有来自氟化合物的结构的材料，例如，可以为[i]来自具有全氟聚醚结构的1价基团和水解性基团键合于硅原子的第1氟化合物的化合物，也可以为[ii]含有来自第1氟化合物的结构和来自与第1氟化合物不同的第2氟化合物的结构的化合物。
用于形成防污层31的材料的化合物为上述[i]时，由于第1氟化合物具有水解性基团，因此具有第1氟化合物彼此脱水缩合而得的缩合结构。另外，用于形成防污层31的材料的化合物为上述[ii]时，如果第1氟化合物和第2氟化合物分别具有水解性基团，则包含这些水解性基团形成水解缩合物的缩合结构。另外，如果第1氟化合物具有水解性基团，第2氟化合物不具有水解性基团，则包含第1氟化合物彼此脱水缩合的缩合结构和第2氟化合物。
作为上述第1氟化合物，例如，优选使用下述所示的式(a3)、式(a4)表示的化合物，可以仅含有它们中的1种，也可以含有2种以上。
Figure BDA0002952184650000151
上述式(a3)中，R30为碳原子数2～6的全氟烷基，R31和R32均为碳原子数2～6的全氟亚烷基，R33为碳原子数2～6的3价饱和烃基，R34为碳原子数1～3的烷基。R30、R31、R32、R33的碳原子数各自独立地优选为2～4，更优选为2～3。h1为5～70，h2为1～5，h3为1～10。h1优选为10～60，更优选为20～50，h2优选为1～4，更优选为1～3，h3优选为1～8，更优选为1～6。
Figure BDA0002952184650000161
上述式(a4)中，R40为碳原子数2～5的全氟烷基，R41为碳原子数2～5的全氟亚烷基，R42为碳原子数2～5的亚烷基的氢原子的一部分被取代为氟的氟亚烷基，R43、R44各自独立地为碳原子数2～5的亚烷基，R45为甲基或乙基。k1、k2、k3各自独立地为1～5的整数。
第1氟化合物的数均分子量优选为2000以上，更优选为4000以上，进一步优选为6000以上，特别优选为7000以上，另外，优选为50000以下，更优选为40000以下，进一步优选为20000以下，更进一步优选为15000以下。
第2氟化合物优选使用例如下述所示的式(b2)、式(b3)表示的化合物，可以仅含有它们中的1种，也可以含有2种以上。
R60-R61-Si(OR62)3…(b2)
上述式(b2)中，R60为碳原子数3～8的全氟烷基，R61为碳原子数1～5的亚烷基，R62为碳原子数1～3的烷基。作为式(b2)表示的化合物，优选使用沸点为100℃以上(优选300℃以下)的化合物。
Figure BDA0002952184650000162
上述式(b3)中，R70为1个以上的氢原子可被氟原子取代的碳原子数1～16的烷基或氢原子，R71为1个以上的氢原子可被氟原子取代的碳原子数1～16的烷氧基或OH基，m1个的－(OC4F8)－、m2个的－(OC3F6)－、m3个的－(OC2F4)－、m4个的－(OCF2)－只要R70、R71成为末端，则以任意顺序排列，m1～m4是以第2氟化合物在常压下成为液体的方式所确定的值。上述式(b3)表示的化合物的数均分子量例如为8000～15000，优选为9000～13000。
防污层31的厚度例如可以为6nm～30nm，优选为超过8nm，更优选为10nm以上，另外，优选为25nm以下，更优选为20nm以下，进一步优选为15nm以下。
(粘合剂层)
作为用于形成粘合剂层的粘合剂，可以使用例如(甲基)丙烯酸系粘合剂、苯乙烯系粘合剂、有机硅系粘合剂、橡胶系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、聚酯系粘合剂、环氧系共聚物粘合剂等。
实施例
以下，示出实施例和比较例对本发明进行更具体的说明，但本发明不限定于这些例子。应予说明，实施例、比较例中的“％”和“份”只要没有特别说明，就为质量％和质量份。
[算术平均粗糙度(Ra)的测定]
使用干涉显微镜(Bruker公司制，Contour GT)，对作为对象的样品的测定表面的依据JIS B0601：2013的算术平均粗糙度(Ra)进行测定。
[水接触角的测定]
向作为对象的样品的测定表面滴加1.7μL的水滴，使用接触角测定装置(协和界面科学株式会社制，portable contact angle mete RPCA-1)，利用液滴法(利用解析方法：θ/2法在滴加水滴1000ms后进行测定)，测定温度23℃、相对湿度50％的水接触角。应予说明，水接触角的测定是在形成于基材层上的防污层表面中对于进行后述的耐磨损性试验、耐化学试剂试验的范围在进行这些试验的前后进行的。
[耐磨损性试验]
使用具备将橡皮(minoan公司制，Rubbing test stick(拉伸强度：11.91kgf/cm2，硬度(Durometer A Type)：81))安装于夹具并以与样品的表面相接的一侧变为平滑的方式使用刀具切断的用具)的摩耗试验机(Daesung公司制，5连耐磨损试验机)，对实施例和比较例中得到的层叠体的防污层侧的表面(防污层的与底漆层相反的一侧的表面)以橡皮与防污层表面相接的状态施加负荷1000g。其后，使橡皮以速度40rpm、移动距离20mm在防污层表面往返3000次。
[耐化学品性试验]
在橡皮往复移动的防污层表面的区域，每500次往复次数滴加1cc的乙醇，除此以外，与耐磨损性试验同样地进行。
[雾度的测定]
使用依据JIS K 7136：2000“塑料－透明材料的雾度的求解方法”的雾度计(Murakami公司制，HM150)，对在基材层上形成了底漆层的样品测定雾度。
〔实施例1〕
(底漆层形成用组合物的制备)
作为溶剂，使用混合了乙醇(EtOH)15份和二乙二醇单甲基醚(EDM)105份的混合溶剂，将该混合溶剂120份与底漆原液P1(Ceko公司制，WNP1(乙醇基底(乙醇浓度99.5％))30份混合来制备底漆层形成用组合物。应予说明，使用的各溶剂的蒸气压如表1所示，底漆层形成用组合物中含有的溶剂的蒸气压根据上述的计算混合溶剂的蒸气压的公式而算出，其值如表2所示。
(防污层形成用组合物的制备)
使用含有下述式(1)所示的化合物的氟系的防水防油性的防污层形成用组合物。
Figure BDA0002952184650000181
上述式(1)表示的化合物是利用日本特开2014－15609号公报的合成例1、2中记载的方法而合成的，r为43，s为1～6的整数，数均分子量约为8000。
(层叠体的制造)
按照日本特开2017－21336号公报的实施例1的步骤，准备在透明的树脂层上具有硬涂层的基材层。树脂层为聚酰亚胺膜。对使用的基材层的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra2进行测定。将其结果示于表3。
对该基材层的硬涂层表面进行等离子体处理(处理条件：功率400W，使用Ar气体(流量18LPM)和N2气体(流量10sccm)，基材层的输送速度6mm/s，基材层与电极的距离3.1mm)后，将上述制备的底漆层形成用组合物在温度24℃、相对湿度50％RH的条件下喷雾涂布(涂布条件：底漆层形成用组合物的流量1.2cc/min，喷射空气量12LPM，喷嘴的Z轴的长度30mm，喷嘴速度600mm/s，喷嘴间距3mm)，形成厚度10nm的底漆层。上述等离子体处理和喷雾涂布使用UCT公司制的Spray Coating装备Model-UTC1300(Plasma处理UNIT-SprayCoating Unit-干燥机Unit构成)而进行。测定在基材层上形成了底漆层的样品的底漆层表面(底漆层的与基材层相反的一侧的表面)的算术平均粗糙度Ra1，进行该样品的雾度的测定。另外，算出该算术平均粗糙度Ra1与基材层的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值。将它们的结果示于表3。
将上述制备的防污层形成用组合物在温度24℃、相对湿度50％RH的条件下喷雾涂布到形成于基材层上的底漆层上(涂布条件：防污层形成用组合物的每单位面积的喷射量37.0cc/m2，喷射空气量12LPM，喷嘴的Z轴的长度30mm，喷嘴速度600mm/s，喷嘴间距3mm)，以温度120℃干燥30分钟，形成厚度15nm的防污层而得到层叠体。对得到的层叠体的防污层的算术平均粗糙度Ra3进行测定，将其结果示于表3。上述底漆层、防污层的厚度例如可以通过利用S－TEM(扫描式透射电子显微镜)来测定未产生线状不均的部分(例如，图5的(a)和(b)中除白色线状部分以外的部分)的厚度而决定。
将得到的层叠体的防污层侧的表面的水接触角作为初期水接触角θi而进行测定。
另外，对得到的层叠体的防污层侧的表面分别测定进行耐磨损性试验后的水接触角θw和进行耐化学品性试验后的水接触角θc。根据下式而算出由耐磨损性试验和耐化学品性试验所致的水接触角的降低率。
由耐磨损性试验所致的水接触角的降低率[％]
＝{(θw[°]－θi[°])/θi[°]}×100
由耐化学品性试验所致的水接触角的降低率[％]
＝{(θc[°]－θi[°])/θi[°]}×100
将它们的结果示于表3。
〔实施例2～4、比较例1和2〕
作为用于制备底漆形成用组合物的溶剂，使用表2中示出的溶剂，使用硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra2为表3和表4所示的值的基材层，除此以外，与实施例1同样地制作层叠体。
针对在层叠体的制造过程中得到的在基材层上形成有底漆层的样品，测定底漆层表面的算术平均粗糙度Ra1，进行该样品的雾度的测定。应予说明，比较例1中，由于在基材层上形成有底漆层的样品中看到了线状不均，因此不进行雾度测定。另外，算出该算术平均粗糙度Ra1与基材层的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值。将它们的结果示于表3和表4。另外，将得到的层叠体的防污层侧的表面的水接触角作为初期水接触角而测定，对得到的层叠体的防污层侧的表面分别测定进行耐磨损性试验和耐化学品性试验后的水接触角，算出水接触角的降低率。水接触角的降低率根据上述式而算出。将它们的结果示于表3和表4。测定所得到的层叠体的防污层的算术平均粗糙度Ra3，将其结果示于表3和表4。
〔实施例5和6、比较例3和4〕
作为用于制备底漆层形成用组合物的底漆原液，使用底漆原液P2(Extol公司制，EXP5125(乙醇浓度99.5％))代替底漆原液P1，除此以外，与实施例1和3、比较例1和2同样地制作层叠体。
针对在层叠体的制作过程中得到的在基材层上形成有底漆层的样品，测定底漆层表面的算术平均粗糙度Ra1，进行该样品的雾度的测定。应予说明，比较例3中，由于在基材层上形成有底漆层的样品中看到了线状不均，因此不进行雾度测定。另外，算出该算术平均粗糙度Ra1与基材层的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值。将它们的结果示于表3和表4。另外，将得到的层叠体的防污层侧的表面的水接触角作为初期水接触角而测定，对得到的层叠体的防污层侧的表面分别测定进行耐磨损性试验和耐化学品性试验后的水接触角，算出水接触角的降低率。水接触角的降低率根据上述式而算出。将它们的结果示于表3和表4。测定所得到的层叠体的防污层的算术平均粗糙度Ra3，将其结果示于表3和表4。
〔实施例7～11〕
将防污层形成用组合物的涂布条件中的防污层形成用组合物的每单位面积的喷射量示于表5，除此以外，与实施例4同样地制作层叠体。
针对在层叠体的制作过程中得到的在基材层上形成有底漆层的样品，测定底漆层表面的算术平均粗糙度Ra1，进行该样品的雾度的测定。另外，算出该算术平均粗糙度Ra1与基材层的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值。将它们的结果示于表5。另外，将得到的层叠体的防污层侧的表面的水接触角作为初期水接触角而测定，对得到的层叠体的防污层侧的表面分别测定进行耐磨损性试验和耐化学品性试验后的水接触角，算出水接触角的降低率。水接触角的降低率根据上述式而算出。将它们的结果示于表5。测定所得到的层叠体的防污层的算术平均粗糙度Ra3，将其结果示于表5。
[表1]
表1
溶剂 25℃的蒸气压[kPa] 分子量
EtOH 4.83 46
PGME 1.67 90
PP 0.25 118
EDM 0.027 120
EtOH：乙醇
PGME：丙二醇单甲基醚
PP：丙二醇单丙基醚
EDM：二乙二醇单甲基醚
[表2]
表2
Figure BDA0002952184650000211
[表3]
表3
Figure BDA0002952184650000221
[表4]
表4
Figure BDA0002952184650000231
[表5]
表5
Figure BDA0002952184650000241
表3所示的实施例1～6中，耐磨损性试验后和耐化学品性试验后的水接触角为与初期水接触角的值相近的值，可知层叠体容易维持良好的防污性。另外，表5所示的实施例7～11中，耐磨损性试验后和耐化学品性试验后的水接触角为与初期水接触角的值相近的值，可知层叠体容易维持良好的防污性。与此相对，表4所示的比较例1～4中，耐磨损性试验后和耐化学品性试验后的水接触角为比初期水接触角的值小的值，可知层叠体的防污性容易降低，不易维持良好的防污性。
符号说明
1～3 层叠体，11、12 基材层，12a 树脂层，12b 硬涂层，21 底漆层，22 底漆层形成用组合物，31 防污层，32 防污层形成用组合物，42 粘合剂层，51 工作台，52、53 喷嘴。

Claims (14)

1.一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，
所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下，
所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的水接触角为105°以上。
2.一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，
所述底漆层中的所述防污层侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下。
3.根据权利要求2所述的层叠体，其中，所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下。
4.根据权利要求2或3所述的层叠体，其中，所述算术平均粗糙度Ra1与所述基材层中的所述底漆层侧的表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值为5nm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层在所述底漆层侧具有硬涂层。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层为透明基材。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层中的所述底漆层侧的表面的算术平均粗糙度Ra2为6nm以下。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的层叠体，其中，所述防污层的厚度为20nm以下。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层的与所述底漆层相反的一侧的表面具有粘合剂层。
10.一种层叠体的制造方法，所述层叠体依次层叠有基材层、底漆层和防污层，所述制造方法包含如下工序：
在所述基材层上涂布用于形成所述底漆层的底漆层形成用组合物的工序，以及
在所述底漆层上涂布用于形成所述防污层的防污层形成用组合物的工序；
所述底漆层形成用组合物包含含有至少1种有机溶剂的溶剂，
所述溶剂的温度25℃的蒸气压为2.0kPa～4.0kPa。
11.根据权利要求10所述的层叠体的制造方法，其中，所述溶剂含有2种以上有机溶剂。
12.根据权利要求10或11所述的层叠体的制造方法，其中，利用喷涂来进行涂布所述底漆层形成用组合物的工序。
13.根据权利要求10～12中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，利用喷涂来进行涂布所述防污层形成用组合物的工序。
14.根据权利要求13所述的层叠体的制造方法，其中，涂布所述防污层形成用组合物的工序以所述防污层形成用组合物的每单位面积的喷射量为4.5cc/m2～60.5cc/m2的方式涂布防污层形成用组合物。
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