CN112582458A - 显示面板及其制备方法、显示设备 - Google Patents
显示面板及其制备方法、显示设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112582458A CN112582458A CN202011453307.9A CN202011453307A CN112582458A CN 112582458 A CN112582458 A CN 112582458A CN 202011453307 A CN202011453307 A CN 202011453307A CN 112582458 A CN112582458 A CN 112582458A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- signal line
- substrate
- insulating layer
- display panel
- interlayer insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 179
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000000306 component Substances 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
- H10K59/1315—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals comprising structures specially adapted for lowering the resistance
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本申请实施例提供了显示面板及其制备方法、显示设备,显示面板包括显示区域和非显示区域,非显示区域包括依次层叠设置的衬底、辅助信号线、层间绝缘层、负压信号线,其中辅助信号线经由设置在层间绝缘层上的过孔与负压信号线电连接。本申请实施例能够解决显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题,提升显示面板的显示效果。
Description
技术领域
本申请属于半导体技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示设备。
背景技术
随着科技和经济的发展,显示面板作为显示设备的核心部件,在人们生产和生活中的应用越来越广泛,例如小到手表、手机,大至电脑、电视,都会出现显示面板的身影。
然而,经本申请的发明人发现,在一些窄边框的显示设备中,显示面板存在显示时亮度不均一、显示异常的问题,严重影响了显示面板的显示效果和用户体验。
发明内容
本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示设备,能够解决显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题。
第一方面,本申请实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域包括依次层叠设置的衬底、辅助信号线、层间绝缘层、负压信号线,其中辅助信号线经由设置在所述层间绝缘层上的过孔与所述负压信号线电连接。
在一些实施例中,所述负压信号线在所述衬底上的正投影覆盖所述辅助信号线在所述衬底上的正投影。
在一些实施例中,所述显示面板在所述非显示区域还包括:栅绝缘层,位于所述衬底与所述层间绝缘层之间;以及电容介质层,位于所述栅绝缘层与所述层间绝缘层之间,其中,所述辅助信号线延伸于所述栅绝缘层与所述电容介质层之间,所述辅助信号线经由设置在所述电容介质层及所述层间绝缘层上的过孔与所述负压信号线电连接;或者所述辅助信号线延伸于所述电容介质层与所述层间绝缘层之间。
在一些实施例中,所述显示面板在所述非显示区域还包括:栅绝缘层,位于所述衬底与所述层间绝缘层之间;以及电容介质层,位于所述栅绝缘层与所述层间绝缘层之间,其中,所述辅助信号线包括第一导线部和第二导线部,所述第一导线部延伸于所述栅绝缘层与所述电容介质层之间,所述第二导线部延伸于所述电容介质层与所述层间绝缘层之间,所述第一导线部在所述衬底上的正投影与所述第二导线部在所述衬底上的正投影交叠,所述第一导线部经由设置在所述电容介质层上的过孔与所述第二导线部电连接。
所述显示面板在所述非显示区域还包括:挡墙结构,所述挡墙结构围绕所述显示区设置且位于所述负压信号线远离所述衬底的一侧;所述辅助信号线在衬底上的正投影与所述挡墙结构在所述衬底上的正投影交叠。
在一些实施例中,所述挡墙结构包括彼此间隔的至少两个子挡墙,每个所述子挡墙围绕所述显示区设置,所述辅助信号线包括至少两条子辅助信号线,所述子辅助信号线的数量小于等于所述子挡墙的数量,每条所述子辅助信号线在衬底上的正投影与一个所述子挡墙在所述衬底上的正投影交叠。
在一些实施例中,所述辅助信号线的总线宽为所述负压信号线的总线宽的20%至75%。
在一些实施例中,所述负压信号线包括第三导线部和第四导线部,所述第三导线部位于所述层间绝缘层背离所述衬底一侧,所述第四导线部位于所述第三导线部背离所述衬底一侧,所述第三导线部在衬底上的正投影与所述第四导线部在所述衬底上的正投影交叠。
在一些实施例中,所述显示面板还包括:
发光元件层,位于所述层间绝缘层背离所述衬底一侧,所述发光元件层包括多个发光元件,每个所述发光元件包括在远离所述衬底方向依次设置的第一电极、有机发光层以及第二电极,所述负压信号线与所述多个发光元件的所述第二电极电连接。
第二方面,本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法,所述方法包括:提供一衬底;在所述衬底上形成辅助信号线;在所述辅助信号线上形成层间绝缘层,并在所述层间绝缘层上形成过孔;在所述层间绝缘层上形成负压信号线,所述负压信号线经由设置所述层间绝缘层上的过孔与所述辅助信号线电连接。
第三方面,本申请实施例提供了一种显示设备,其特征在于,包括如第一方面中的任一实施例所述的显示面板。
本申请实施例的显示面板及其制备方法、显示设备,显示面板包括显示区域和非显示区域,非显示区域包括依次层叠设置的衬底、辅助信号线、层间绝缘层、负压信号线,其中辅助信号线经由设置在层间绝缘层上的过孔与负压信号线电连接。由此,本申请实施例通过在显示面板的非显示区域增设辅助信号线与负压信号线电连接,使得负压信号线在原有横截面积的基础上增加了辅助信号线的横截面积,从而降低了负压信号线的电阻,进而减小了显示面板两端的电阻压降,减弱甚至消除了因电阻压降导致的显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题,提升了显示面板的显示效果和用户体验。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单的介绍,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的显示面板的俯视图;
图2是本申请第一实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图3是本申请实施例提供的显示面板的显示区域的截面示意图;
图4是本申请第二实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图5是本申请第三实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图6是本申请第四实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图7是本申请第五实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图8是本申请第六实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图9是本申请第七实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图10是本申请第八实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图11是本申请第九实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图;
图12是根据本申请一种实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本申请进行进一步详细描述。应理解,此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请,而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说,本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
应当理解,在描述部件的结构时,当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时,可以指的是直接位于另一层、另一个区域上面,或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且,如果将部件翻转,该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
如背景技术中所述的,在一些窄边框的显示设备中,显示面板存在显示时亮度不均一、显示异常的问题。
经本申请的发明人发现,窄边框的显示设备中之所以会出现显示面板显示时亮度不均一、显示异常的问题,主要是因为窄边框的限制,使得位于窄边框中的负压信号线(简称:ELVSS线)布线空间不足,导致布设的负压信号线宽度较窄,负压信号线的电阻增大,进而导致显示面板两端的电阻压降(IR-drop)增大,出现显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题。
基于上述发现,本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示设备,以解决显示面板存在的显示时亮度不均一、显示异常的技术问题。
本申请实施例的技术构思在于:在显示面板的非显示区域增设辅助信号线与负压信号线电连接,使得负压信号线在原有横截面积的基础上增加了辅助信号线的横截面积,从而降低了负压信号线的电阻,进而减小了显示面板两端的电阻压降,减弱甚至消除了因电阻压降导致的显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题,提升了显示面板的显示效果和用户体验。
下面首先对本申请实施例所提供的显示面板进行介绍。
图1是本申请实施例提供的显示面板的俯视图。如图1所示,显示面板100包括显示区域100a和围绕显示区域100a的非显示区域100b。
图2是本申请第一实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。如图2所示,非显示区域100b包括依次层叠设置的衬底110、辅助信号线120、层间绝缘层130、负压信号线140,其中辅助信号线120经由设置在层间绝缘层130上的过孔121与负压信号线140电连接。
在本申请实施例中,衬底110例如可以采用聚酰亚胺(PI)制成,当然也可以采用其他有机材料制成,本申请不限于此。
层间绝缘层130例如可以采用氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)材料制成,当然也可以采用其他材料制成,本申请不限于此。在显示区域100a,层间绝缘层130主要用于稳定被层间绝缘层130覆盖的晶体管的特性,例如改善晶体管的漏电流问题等。
本申请实施例通过在显示面板的非显示区域增设辅助信号线与负压信号线电连接,使得负压信号线在原有横截面积的基础上增加了辅助信号线的横截面积,从而降低了负压信号线的电阻,进而减小了显示面板两端的电阻压降,减弱甚至消除了因电阻压降导致的显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题,提升了显示面板的显示效果和用户体验。
在本申请实施例中,负压信号线与位于显示区域100a的发光元件的阴极连接,主要用于为各个发光元件提供负向电压。
图3是本申请实施例提供的显示面板的显示区域的截面示意图。如图3所示,显示区域100a包括:依次层叠设置的衬底110、栅绝缘层150、电容介质层160、层间绝缘层130,以及位于衬底110与层间绝缘层130之间的晶体管170和电容第二极金属层180。其中,晶体管170由栅极金属层1701、源漏极金属层1702和有源层1703构成。位于电容第二极金属层180下方的栅极金属层1701又称作电容第一极金属层,与电容第二极金属层180一同构成电容。
显示区域100a还包括:
平坦化层190,位于层间绝缘层130背离衬底110的一侧;
第一电极层2001,位于平坦化层190背离衬底110的一侧,并经由设置在平坦化层190上的过孔与源漏极金属层1702电连接;
像素限定层210,位于平坦化层190背离衬底110的一侧,像素限定层210包括多个像素开口,第一电极层2001与像素开口对应;
有机发光层2002,位于第一电极层2001背离衬底110的一侧,并与第一电极层2001电连接,有机发光层2002的至少部分设置在像素开口中;
支撑柱220,位于像素限定层210背离衬底110的一侧;
第二电极层2003,位于像素限定层210背离衬底110的一侧,并与有机发光层2002电连接。
其中,第一电极层2001、有机发光层2002和第二电极层2003构成发光元件层200。在显示区域100a中,发光元件层200可以包括多个发光元件,每个发光元件包括在远离衬底110方向依次设置的第一电极(位于第一电极层2001)、有机发光层(位于有机发光层2002)以及第二电极(位于第二电极层2003)。其中,多个发光元件的第二电极为公共电极,又称共阴极。在本申请实施例中,负压信号线与共阴极电连接,即负压信号线与第二电极层2003电连接。
图4是本申请第二实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。如图4所示,与图3对应地,显示区域100b还可以包括:
栅绝缘层150,位于衬底110与层间绝缘层130之间;以及
电容介质层160,位于栅绝缘层150与层间绝缘层130之间。
如图4所示,在一些实施例中,辅助信号线120可以延伸于栅绝缘层150与电容介质层160之间,辅助信号线120经由设置在电容介质层160及层间绝缘层130上的过孔与负压信号线140电连接。
图5是本申请第三实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。如图5所示,在一些实施例中,辅助信号线120也可以是延伸于电容介质层160与层间绝缘层130之间,辅助信号线120经由设置在层间绝缘层130上的过孔与负压信号线140电连接。
图6是本申请第四实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。如图6所示,为了进一步降低负压信号线140的电阻,减小显示面板两端的电阻压降,提升显示效果,在一些实施例中,辅助信号线120包括上下双层。具体地,辅助信号线120可以包括第一导线部120a和第二导线部120b,第一导线部120a延伸于栅绝缘层150与电容介质层160之间,第二导线部120b延伸于电容介质层160与层间绝缘层130之间,第一导线部120a在衬底110上的正投影与第二导线部120b在衬底110上的正投影交叠,第一导线部120a经由设置在电容介质层160上的过孔与第二导线部120b电连接,第二导线部120b经由设置在层间绝缘层130上的过孔与负压信号线140电连接。
由于辅助信号线120为上下双层,所以进一步增加了负压信号线的横截面积,从而进一步降低了负压信号线的电阻,进一步减小了显示面板两端的电阻压降,提升了显示效果。
图7是本申请第五实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。
为了进一步提高显示面板的封装效果,防止水汽沿封装层入侵显示面板,如图7所示,在一些实施例中,非显示区域100b还可以包括:
挡墙结构161,又称堤坝结构,挡墙结构161围绕显示区域100a设置,挡墙结构161位于负压信号线140远离衬底110的一侧。
在通过喷墨打印有机材料形成封装层的过程中,挡墙结构可以阻挡有机材料溢流到挡墙结构的外侧,阻挡有机材料的外溢,避免因有机材料溢流造成的水汽入侵导致的封装失效,从而提升封装效果。
为了进一步阻挡有机材料的溢流,如图7所示,辅助信号线120在衬底110上的正投影与挡墙结构161在衬底110上的正投影交叠,即至少辅助信号线120的部分区域位于挡墙结构161的正下方。由此,由于辅助信号线的至少部分区域位于挡墙结构的正下方,因而增加了挡墙结构的高度,提高了挡墙结构阻挡有机材料溢流的能力,减小了溢流的风险,提升了封装的可靠性。
图8是本申请第六实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。
为了进一步阻挡有机材料的溢流,如图8所示,挡墙结构161可以包括彼此间隔的至少两个子挡墙,例如子挡墙161a和子挡墙161b,每个子挡墙在非显示区域围绕显示区域设置。同时,为了进一步降低负压信号线的电阻,辅助信号线120可以包括至少两条子辅助信号线,例如子辅助信号线120c和子辅助信号线120d,其中子辅助信号线的数量小于等于子挡墙的数量。作为一种示例,每条子辅助信号线在衬底110上的正投影与一个子挡墙在衬底110上的正投影交叠。由此,由于每条子辅助信号线的至少部分区域位于每个子挡墙的正下方,因而增加了每个子挡墙的高度,提高了每个子挡墙阻挡有机材料溢流的能力,减小了溢流的风险,提升了封装的可靠性。
在一些实施例中,为了满足不同宽度的窄边框的设计要求,辅助信号线120的总线宽可以根据负压信号线的总线宽而确定。或者说,辅助信号线120的总线宽可以根据第一边界与挡墙结构之间的距离而确定,其中,第一边界为显示区域100a与非显示区域100b之间的边界。
具体地,如图8所示,第一导线部120a和第二导线部120b的线宽可以根据负压信号线的总线宽而确定,例如,随着负压信号线的总线宽越小,第一导线部120a和第二导线部120b的线宽越大,使得负压信号线的电阻维持在预设范围内,保证显示面板两端的电阻压降不会太大,提升显示效果。同样地,子辅助信号线的数量也可以根据负压信号线的总线宽灵活设定,本申请不限于此。
在一些实施例中,负压信号线140在衬底110上的正投影覆盖辅助信号线120在衬底110上的正投影,即负压信号线140的总线宽可以大于辅助信号线120的总线宽。作为一种示例,辅助信号线的总线宽可以为负压信号线的总线宽的20%至75%,即辅助信号线的总线宽可以在负压信号线的总线宽的20%至75%这一范围内灵活调整。随着辅助信号线的总线宽的增大,可以减小负压信号线的总线宽,有利于缩小第一边界与挡墙结构之间的距离,从而更加有利于窄边框的设计。
图9是本申请第七实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。
如图9所示,在一些实施例中,非显示区域100b还可以包括:
位于负压信号线140与挡墙结构161之间的平坦化层190和第一电极层2001,其中,平坦化层190位于负压信号线140背离衬底110的一侧,并覆盖第一电极层2001。
图10是本申请第八实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。
如图10所示,在一些实施例中,挡墙结构161可以包括上下双层。第一层的材料可以与图3中像素限定层210的材料相同,例如均为聚酰亚胺。第二层的材料可以与图3中支撑柱220的材料相同,例如均为聚酰亚胺。容易理解的是,非显示区域100b的挡墙结构161的第一层可以与显示区域100a中的像素限定层210一同制备,第二层可以与显示区域100a中的支撑柱220一同制备。
图11是本申请第九实施例提供的显示面板的B1-B2处非显示区域的截面示意图。
如图11所示,在一些实施例中,负压信号线140包括第三导线部140a和第四导线部140b,第三导线部140a位于层间绝缘层130背离衬底110一侧,第四导线部140b位于第三导线部140a背离衬底110一侧,第三导线部140a在衬底110上的正投影与第四导线部140b在衬底110上的正投影交叠。
本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法,其可以用于制作前述实施方式的显示面板。以下将以前述第一实施例的显示面板100的制作过程对显示面板的制备方法进行说明。
图12是根据本申请一种实施例提供的显示面板的制备方法的流程图,该显示面板的制备方法包括步骤S110至步骤S140。
在步骤S110中,提供一衬底。
在步骤S120中,在衬底上形成辅助信号线。
在步骤S130中,在辅助信号线上形成层间绝缘层,并在层间绝缘层上形成过孔。
在步骤S140中,在层间绝缘层上形成负压信号线,其中,负压信号线经由设置层间绝缘层上的过孔与辅助信号线电连接。
根据本申请实施例的显示面板的制备方法制备的显示面板,在显示面板的非显示区域增设辅助信号线与负压信号线电连接,使得负压信号线在原有横截面积的基础上增加了辅助信号线的横截面积,从而降低了负压信号线的电阻,进而减小了显示面板两端的电阻压降,减弱甚至消除了因电阻压降导致的显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题,提升了显示面板的显示效果和用户体验。
在一些实施例中,辅助信号线可以与显示面板的显示区域的栅极金属层和/或电容第二极金属层一同制备。
在一些实施例中,负压信号线在衬底上的正投影覆盖辅助信号线在衬底上的正投影。
在一些实施例中,在步骤S120之前,显示面板的制备方法还可以包括:
在衬底上形成栅绝缘层;
在栅绝缘层上形成电容介质层;
在一些实施例中,辅助信号线延伸于栅绝缘层与电容介质层之间,辅助信号线经由设置在电容介质层及层间绝缘层上的过孔与负压信号线电连接。在一些实施例中,辅助信号线延伸于电容介质层与层间绝缘层之间。
在一些实施例中,辅助信号线包括第一导线部和第二导线部,第一导线部延伸于栅绝缘层与电容介质层之间,第二导线部延伸于电容介质层与层间绝缘层之间,第一导线部在衬底上的正投影与第二导线部在衬底上的正投影交叠,第一导线部经由设置在电容介质层上的过孔与第二导线部电连接。
在一些实施例中,显示面板的制备方法还可以包括:
在位于负压信号线远离衬底的一侧围绕显示区域设置挡墙结构,其中,辅助信号线在衬底上的正投影与挡墙结构在衬底上的正投影交叠。
在一些实施例中,挡墙结构包括彼此间隔的至少两个子挡墙,每个子挡墙在非显示区域围绕显示区域设置,辅助信号线包括至少两条子辅助信号线,子辅助信号线的数量小于等于子挡墙的数量,每条子辅助信号线在衬底上的正投影与一个子挡墙在衬底上的正投影交叠。
在一些实施例中,辅助信号线的总线宽可以为负压信号线的总线宽的20%至75%。
在一些实施例中,负压信号线包括第三导线部和第四导线部,第三导线部位于层间绝缘层背离衬底一侧,第四导线部位于第三导线部背离衬底一侧,第三导线部在衬底上的正投影与第四导线部在衬底上的正投影交叠。
在一些实施例中,显示面板的制备方法还可以包括:
在制备显示区域时,在层间绝缘层背离衬底一侧形成发光元件层。其中,发光元件层包括多个发光元件,每个发光元件包括在远离衬底方向依次设置的第一电极、有机发光层以及第二电极。在本申请实施例中,负压信号线与多个发光元件的第二电极电连接。
本申请实施例还提供一种显示设备,该显示设备例如是手机、平板电脑等具有图像显示功能的设备,该显示设备包括上述任一实施方式的显示面板100。
根据本申请实施例的显示设备,该显示设备的显示面板的非显示区域增设有辅助信号线与负压信号线电连接,使得负压信号线在原有横截面积的基础上增加了辅助信号线的横截面积,从而降低了负压信号线的电阻,进而减小了显示面板两端的电阻压降,减弱甚至消除了因电阻压降导致的显示面板在显示时亮度不均一、显示异常的技术问题,提升了显示面板的显示效果和用户体验。
依照本发明如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域包括依次层叠设置的衬底、辅助信号线、层间绝缘层、负压信号线,其中辅助信号线经由设置在所述层间绝缘层上的过孔与所述负压信号线电连接。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述负压信号线在所述衬底上的正投影覆盖所述辅助信号线在所述衬底上的正投影。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区域还包括:
栅绝缘层,位于所述衬底与所述层间绝缘层之间;以及
电容介质层,位于所述栅绝缘层与所述层间绝缘层之间,
其中,所述辅助信号线延伸于所述栅绝缘层与所述电容介质层之间,所述辅助信号线经由设置在所述电容介质层及所述层间绝缘层上的过孔与所述负压信号线电连接;或者
所述辅助信号线延伸于所述电容介质层与所述层间绝缘层之间。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区域还包括:
栅绝缘层,位于所述衬底与所述层间绝缘层之间;以及
电容介质层,位于所述栅绝缘层与所述层间绝缘层之间,
其中,所述辅助信号线包括第一导线部和第二导线部,所述第一导线部延伸于所述栅绝缘层与所述电容介质层之间,所述第二导线部延伸于所述电容介质层与所述层间绝缘层之间,所述第一导线部在所述衬底上的正投影与所述第二导线部在所述衬底上的正投影交叠,所述第一导线部经由设置在所述电容介质层上的过孔与所述第二导线部电连接。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区域还包括:
挡墙结构,所述挡墙结构围绕所述显示区域设置且位于所述负压信号线远离所述衬底的一侧;
所述辅助信号线在衬底上的正投影与所述挡墙结构在所述衬底上的正投影交叠。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述挡墙结构包括彼此间隔的至少两个子挡墙,每个所述子挡墙围绕所述显示区域设置,所述辅助信号线包括至少两条子辅助信号线,所述子辅助信号线的数量小于等于所述子挡墙的数量,每条所述子辅助信号线在衬底上的正投影与一个所述子挡墙在所述衬底上的正投影交叠。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述负压信号线包括第三导线部和第四导线部,所述第三导线部位于所述层间绝缘层背离所述衬底一侧,所述第四导线部位于所述第三导线部背离所述衬底一侧,所述第三导线部在衬底上的正投影与所述第四导线部在所述衬底上的正投影交叠。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
发光元件层,位于所述层间绝缘层背离所述衬底一侧,所述发光元件层包括多个发光元件,每个所述发光元件包括在远离所述衬底方向依次设置的第一电极、有机发光层以及第二电极,所述负压信号线与所述多个发光元件的所述第二电极电连接。
9.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一衬底;
在所述衬底上形成辅助信号线;
在所述辅助信号线上形成层间绝缘层,并在所述层间绝缘层上形成过孔;
在所述层间绝缘层上形成负压信号线,所述负压信号线经由设置所述层间绝缘层上的过孔与所述辅助信号线电连接。
10.一种显示设备,其特征在于,包括如权利要求1至8中任一项所述的显示面板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011453307.9A CN112582458B (zh) | 2020-12-11 | 2020-12-11 | 显示面板及其制备方法、显示设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011453307.9A CN112582458B (zh) | 2020-12-11 | 2020-12-11 | 显示面板及其制备方法、显示设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112582458A true CN112582458A (zh) | 2021-03-30 |
CN112582458B CN112582458B (zh) | 2023-06-30 |
Family
ID=75131308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011453307.9A Active CN112582458B (zh) | 2020-12-11 | 2020-12-11 | 显示面板及其制备方法、显示设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112582458B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023070404A1 (zh) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104465711A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-03-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | Amoled阵列基板及其制造方法、显示装置 |
CN104699349A (zh) * | 2015-04-01 | 2015-06-10 | 上海天马微电子有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示面板 |
CN107910352A (zh) * | 2017-11-20 | 2018-04-13 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种有机发光显示面板及显示装置 |
CN207303104U (zh) * | 2017-10-31 | 2018-05-01 | 昆山国显光电有限公司 | 显示面板 |
CN108962947A (zh) * | 2018-07-04 | 2018-12-07 | 上海天马微电子有限公司 | 一种柔性显示面板和显示装置 |
CN109103231A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-12-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制造方法、显示装置 |
CN110085648A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
CN110767738A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-02-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示装置、显示面板及其制造方法 |
CN111092108A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-01 | 上海天马微电子有限公司 | 显示面板和显示装置 |
CN111129093A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-08 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板和显示面板 |
CN111427202A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-07-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种窄边框显示面板及显示装置 |
CN111584610A (zh) * | 2020-06-10 | 2020-08-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及显示装置 |
-
2020
- 2020-12-11 CN CN202011453307.9A patent/CN112582458B/zh active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104465711A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-03-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | Amoled阵列基板及其制造方法、显示装置 |
CN104699349A (zh) * | 2015-04-01 | 2015-06-10 | 上海天马微电子有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示面板 |
CN207303104U (zh) * | 2017-10-31 | 2018-05-01 | 昆山国显光电有限公司 | 显示面板 |
CN107910352A (zh) * | 2017-11-20 | 2018-04-13 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种有机发光显示面板及显示装置 |
CN108962947A (zh) * | 2018-07-04 | 2018-12-07 | 上海天马微电子有限公司 | 一种柔性显示面板和显示装置 |
CN109103231A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-12-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制造方法、显示装置 |
CN110085648A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
CN110767738A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-02-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示装置、显示面板及其制造方法 |
CN111129093A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-08 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板和显示面板 |
CN111092108A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-01 | 上海天马微电子有限公司 | 显示面板和显示装置 |
CN111427202A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-07-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种窄边框显示面板及显示装置 |
CN111584610A (zh) * | 2020-06-10 | 2020-08-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及显示装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023070404A1 (zh) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112582458B (zh) | 2023-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111564458B (zh) | 显示面板 | |
US20210335931A1 (en) | Display panel, manufacturing method thereof, and display device | |
US10943984B2 (en) | Thin film transistor and manufacturing method thereof, display substrate and manufacturing method thereof, and display device | |
US20220262886A1 (en) | Display substrate and method for manufacturing the same, and display apparatus | |
CN113471257B (zh) | 显示面板及移动终端 | |
CN204257650U (zh) | 显示基板、显示面板和掩膜板 | |
US11450724B2 (en) | Display panel, method of manufacturing same, and display device comprising power lines | |
CN112599580B (zh) | 显示面板及显示装置 | |
CN111755462B (zh) | 阵列基板及其制造方法 | |
US20080048191A1 (en) | Organic light emitting display device and method of fabricating the same | |
US20240057447A1 (en) | Oled display panel and oled display device | |
KR101431655B1 (ko) | 전자 종이 능동 기판 및 전자 종이 능동 기판을 형성하는 방법 그리고 전자 종이 디스플레이 패널 | |
CN112582458B (zh) | 显示面板及其制备方法、显示设备 | |
CN110718572A (zh) | 一种有机电致发光显示基板及其制备方法和显示装置 | |
CN111834381B (zh) | 阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制作方法 | |
KR20140108791A (ko) | 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법 | |
CN111276492B (zh) | 显示装置及其oled面板、oled面板的制作方法 | |
CN113097266A (zh) | 显示面板及其制备方法 | |
US11417689B2 (en) | Display panel | |
US7208760B2 (en) | Active matrix electroluminescent display devices, and their manufacture | |
US11195900B2 (en) | Array substrate with protrusion patterns and method of fabricating same | |
CN109904201B (zh) | 阵列基板及其制作方法和显示装置 | |
CN113257836B (zh) | 阵列基板及显示面板 | |
US20240222398A1 (en) | Array substrate and method for manufacturing the same | |
US20240188348A1 (en) | Display panel and method for fabricating display panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |