CN112364760A - 一种显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了了一种显示装置，用以减小显示产品的厚度。本申请实施例提供的一种显示装置，包括：显示模组，以及位于显示模组显示面的相对侧的纹路识别模组；显示模组包括：基材与缓冲层交替堆叠的基底，以及位于基底背离纹路识别模组一侧的像素电路各膜层；纹路识别模组包括纹路识别器件，纹路识别器件具有感光区；显示装置还包括：位于纹路识别器件的入光侧的准直结构；准直结构包括至少两层遮光层；各遮光层具有多个透光孔，各遮光层中的透光孔一一对应且在基底的正投影至少部分重合；每个指纹识别器件的感光区在基底的正投影至少完全覆盖一个透光孔的正投影；基底包括至少一个遮光层。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置。
背景技术
随着信息行业的高速发展，生物识别技术受到了越来越广泛的应用，特别地，由于不同用户的指纹不同，便于进行用户身份确认，因此，指纹识别技术已经广泛应用在移动终端、智能家居等多个领域，为用户信息提供安全保障。
光学式指纹识别是实现指纹识别的手段之一。光学式指纹识别的原理如下：当手指置于显示产品上方时，显示产品所含光源的发射光线照射到手指的谷和脊的位置，并经手指的谷和脊的反射后再入射到显示产品所含光学式指纹识别器件。由于谷和脊的位置反射的光强不同，指纹识别器件根据上述反射光强的差异生成不同电信号，实现指纹识别。现有技术中，光学式指纹识别方案，通常需要设置光路准直层，影响显示产品的厚度。
发明内容
本申请实施例提供了一种显示装置，用以减小显示产品的厚度。
本申请实施例提供的一种显示装置，所述显示装置包括：显示模组，以及位于所述显示模组显示面的相对侧的纹路识别模组；
所述显示模组包括：基材与缓冲层交替堆叠的基底，以及位于所述基底背离所述纹路识别模组一侧的像素电路各膜层；
所述纹路识别模组包括纹路识别器件，所述纹路识别器件具有感光区；
所述显示装置还包括：位于所述纹路识别器件的入光侧的准直结构；
所述准直结构包括至少两层遮光层；各所述遮光层具有多个透光孔，各所述遮光层中的透光孔一一对应且在所述基底的正投影至少部分重合；每个所述指纹识别器件的所述感光区在所述基底的正投影至少完全覆盖一个所述透光孔的正投影；
所述基底包括至少一层所述遮光层。
在一些实施例中，所述基底具体包括：第一基材，位于所述第一基材面向所述纹路识别模组一侧的第一缓冲层，位于所述第一基材背离所述纹路识别模组一侧的第二缓冲层，以及位于所述第一缓冲层背离所述第一基材一侧的第二基材；
所述遮光层位于所述第一缓冲层和所述第二基材之间，和/或，所述遮光层位于所述第二基材背离所述第一缓冲层的一侧。
在一些实施例中，所述显示装置还包括在所述基底靠近所述纹路识别模组一侧贴付的散热层；
当所述遮光层位于所述第二基材背离所述第一缓冲层的一侧时，所述散热层复用为所述遮光层。
在一些实施例中，所述基底、所述像素电路各膜层、所述纹路识别模组中均包括至少一层所述遮光层。
在一些实施例中，所述纹路识别模组还包括：在所述纹路识别器件靠近所述基底一侧的至少一层保护层；
所述遮光层位于至少一层所述保护层背离所述纹路识别器件一侧。
在一些实施例中，所述纹路识别模组还包括：位于所述遮光层靠近所述基底一侧的支撑层，位于所述支撑层靠近所述基底一侧的聚光部；
所述聚光部在所述基底的正投影覆盖所述透光孔在所述基底的正投影。
在一些实施例中，所述纹路识别模组还包括：滤光层；所述滤光层位于所述遮光层背离所述纹路识别器件的一侧；所述滤光层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
在一些实施例中，所述像素电路各膜层包括：
在所述基底背离所述纹路识别模组一侧依次设置的导电遮光层、第三缓冲层、有源层、第一栅绝缘层、第一栅极层、第二栅绝缘层、第二栅极层、层间绝缘层、源漏电极层、平坦化层、像素定义层；
所述导电遮光层复用为所述遮光层；
和/或，所述平坦化层复用为所述遮光层；
和/或，所述像素定义层复用为所述遮光层；
和/或，所述遮光层包括：所述第一栅极层、所述第二栅极层以及所述源漏电极层，所述第一栅极层、所述第二栅极层以及所述源漏电极层均互不交叠的区域形成所述透光孔。
在一些实施例中，所述平坦化层包括：遮光平坦化层，以及位于所述遮光平坦化层靠近所述基底一侧的滤光平坦化层；
所述遮光平坦化层复用为所述遮光层；
所述滤光平坦化层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
在一些实施例中，所述像素定义层包括：遮光像素定义层，以及位于所述遮光像素定义层背离所述基底一侧的滤光像素定义层；
所述遮光像素定义层用为所述遮光层；
所述滤光像素定义层覆盖所述遮光层的透光孔，且所述滤光像素定义层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
在一些实施例中，不同所述遮光层的透光孔在所述基底的正投影的中心重合。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的另一种显示装置的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图4为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图5为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图6为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图7为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图8为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图9为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图10为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图11为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；
图12为本申请实施例提供的一种显示装置纹路成像的示意图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例的附图，对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本申请的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
除非另外定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。
需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本申请内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
本申请实施例提供了一种显示装置，如图1所示，所述显示装置包括：显示模组1，以及位于所述显示模组1显示面的相对侧的纹路识别模组2；
所述显示模组1包括：基材4与缓冲层5交替堆叠的基底3，以及位于所述基底3背离所述纹路识别模组2一侧的像素电路各膜层15；
所述纹路识别模组2包括纹路识别器件11，所述纹路识别器件具有感光区；
所述显示装置还包括：位于所述纹路识别器件11的入光侧的准直结构；
所述准直结构包括至少两层遮光层10；各所述遮光层10具有多个透光孔16，各所述遮光层10中的透光孔16一一对应且在所述基底3的正投影至少部分重合；每个所述指纹识别器件11的所述感光区在所述基底3的正投影至少完全覆盖一个所述透光孔16的正投影；
所述基底3包括至少一层所述遮光层10。
需要说明是，本申请实施例提供的显示装置可以进行指纹识别、掌纹识别等，以指纹识别为例，在进行指纹识别时，当手指触摸到显示模组的显示面时，遮光层对应的透光孔共同形成准直结构，从而各遮光层对应的透光孔可将小角度的光线近于准直化的筛选出，使其到达下方纹路识别器件的感光区，纹路识别器件可以探测取出光线的强度，由谷与脊向下漫反射光的能量不同，多个纹路识别器件探测得到的光强不同，由此获取指纹信息，实现大面积指纹识别。
本申请实施例提供的显示装置，至少两层具有透光孔的遮光层作为准直结构，显示模组的基底包括具有透光孔的遮光层，即本申请遮光层至少集成于基底内，从而无需额外设置独立于显示模组和纹路识别模组的光路准直层，可以减小显示装置的厚度。
在一些实施例中，各遮光层中的透光孔数量相同，各遮光层中的透光孔构成一一对应关系。
在制作时，各遮光层在同一位置处的透光孔之间在基底的正投影中心尽可能的完全重叠，但是根据实际制作工艺的对位误差，各遮光层在同一位置处的透光孔之间会存在一定的偏移，并不能保证完全重叠，即可能存在部分重叠的情况。
在一些实施例中，不同所述遮光层的透光孔在所述基底的正投影的中心重合。
即各遮光层在同一位置的透光孔在基底的正投影中心完全重合时，在同一位置的个透光孔之间构成套孔结构，可以起到对入射至该位置的各个角度的光线进行准直的作用，使得与垂直于准直结构表面的法线呈在一定范围角度的光线可以通过该套孔结构，超过该范围角度的光线被截止。在一些实施例中，纹路识别器件的透光区与套孔结构一一对应。当然，在一些实施例中，也可以是纹路识别器件的透光区对应多个套孔结构。在一些实施例中，透光孔的孔型可以是圆形也可以是方形，在此不做限定。
在一些实施例中，如图1所示，纹路识别模组2与显示模组1之间通过光学胶(OCA)14贴合。
在一些实施例中，如图1所示，所述基底3、所述像素电路各膜层15、所述纹路识别模组2中均包括至少一层所述遮光层10。
即本申请实施例提供的显示装置的准直结构，至少包括三层遮光层，准直结构的遮光层集成于显示模组和纹路识别模组内，从而无需额外设置独立于显示模组和纹路识别模组的光路准直层，可以减小显示装置的厚度，并且，基底、像素电路各膜层、纹路识别模组中均包括至少一层遮光层，从而可以保证各遮光层之间的距离，保证准直结构的准直透光效果。
图1中以基底、像素电路各膜层、纹路识别模组中均包括一层遮光层为例进行举例说明。如图1所示，基底3包括第一遮光层17，像素电路各膜层包括第二遮光层18，纹路识别模组包括第三遮光层19。
在一些实施例中，如图1所示，所述基底具体包括：第一基材6，位于所述第一基材6面向所述纹路识别模组2一侧的第一缓冲层7，位于所述第一基材6背离所述纹路识别模组2一侧的第二缓冲层8，以及位于所述第一缓冲层7背离所述第一基材6一侧的第二基材9。
在一些实施例中，基材的材料例如包括聚酰亚胺类、聚酯类材料，例如聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚合物；在一些实施例中，基材也可以是玻璃，玻璃的厚度≤100微米(μm)。
在一些实施例中，缓冲层的材料包括氮化硅或氧化硅。
在一些实施例中，当基底包括遮光层时，所述遮光层位于所述第一缓冲层和所述第二基材之间；和/或，所述遮光层位于所述第二基材背离所述第一缓冲层的一侧。
在一些实施例中，如图1、图2所示，基底3包括第一遮光层17。
在一些实施例中，如图1所示，第一遮光层17位于第一缓冲层7和第二基材9之间。
在具体实施时，例如可以在第一基材上形成第一缓冲层，在第一缓冲层上形成遮光层，从而遮光层与第一缓冲层之间贴合性较好，可以避免遮光层脱落。
或者，在一些实施例中，如图2所示，第一遮光层17位于第二基材9背离第一缓冲层7的一侧。
图1、图2以基底包括一层遮光层为例进行举例说明，当然，在一些实施例中，当基底包括遮光层时，也可以包括两层遮光层。在一些实施例中，如图3所示，基底3包括：位于第一缓冲层7和第二基材9之间的第一遮光层17，以及位于第二基材9背离第一缓冲层7的一侧的第四遮光层20。
在具体实施时，基底包括的遮光层的材料例如可以是显示领域常用的黑矩阵材料。遮光层的材料还可以包括聚合物材料。
在一些实施例中，所述显示装置还包括在所述基底靠近所述纹路识别模组一侧贴付的散热层；
当所述遮光层位于所述第二基材背离所述第一缓冲层的一侧时，所述散热层复用为所述遮光层。
本申请实施例提供的显示装置，散热层复用为遮光层，即在散热层设置透光孔，可以简化显示装置制备流程，节省成本。
在一些实施例中，散热层的材料包括石墨、金属、或金属氧化物。金属例如可以是铜、钼、或钛/铝/钛叠层，金属氧化物例如可以是氧化钼。
在一些实施例中，当纹路识别模组包括遮光层时，如图1所示，所述纹路识别模组还包括：在所述纹路识别器件靠近所述基底一侧的至少一层保护层13；
所述遮光层10位于至少一层所述保护层背离所述纹路识别器件一侧。
在一些实施例中，纹路识别模组包括一层遮光层，如图1所示，纹路识别模组2包括第二遮光层18。
当然，在具体实施时，纹路识别模组也可以包括更多遮光层。如图4所示，纹路识别模组2包括第二遮光层18以及第五遮光层21。图4中，纹路识别模组包括两层保护层13，第二遮光层18位于两层保护层13之间，第五遮光层21位于上层保护层13背离纹路识别器件11一侧。在具体实施时，当纹路识别模组需要设置多层遮光层时，还可以设置多层保护层，遮光层与保护层交替设置。
在一些实施例中，显示装置还包括滤光层，滤光层用于滤除环境光，避免环境光对纹路识别造成干扰。在具体实施时，滤光层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。滤光层可以设置于纹路识别模组，也可以设置与显示模组。
在一些实施例中，如图5所示，所述纹路识别模组还包括：滤光层25；所述滤光层25位于所述遮光层10背离所述纹路识别器件11的一侧；所述滤光层25用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
在一些实施例中，滤光层的材料包括聚合物材料。具体实施时，可以采用旋涂工艺形成滤光层。
在一些实施例中，如图6所示，所述纹路识别模组还包括：位于所述遮光层10靠近所述基底一侧的支撑层22，位于所述支撑层22靠近所述基底一侧的聚光部23；
所述聚光部23在所述基底的正投影覆盖所述透光孔16在所述基底的正投影。
本申请实施例提供的显示装置，在纹路识别器件的入光侧设置聚光部，聚光部可以起到聚集光束的作用，可以提高纹路识别器件感光区的入光量，从而可以提高光利用率。
在一些实施例中，如图6所示，聚光部23为透镜结构。
在一些实施例中，如图6所示，纹路识别模组还包括：位于聚光部背离支撑层22一侧的平坦保护层24。
在一些实施例中，如图6所示，纹路识别模组还包括：衬底基板12、驱动电路层27、第三栅极绝缘层28、第一钝化层29、侧壁保护层30、树脂层31、第二钝化层32、偏压线33、缓冲绝缘层34、遮光部35、第三钝化层36、屏蔽层37；指纹识别器件11包括层叠设置的第一电极38、光电转换层39和第二电极40。
图6中以纹路识别器件的透光区对应两个透光孔为例进行举例说明。
在一些实施例中，当纹路识别模组设置滤光层时，还可以用聚合物材料替换树脂层的树脂，作为滤光层。
在一些实施例中，衬底基板为玻璃基板，驱动电路层包括薄膜晶体管。
在一些实施例中，如图7～图9所示，所述像素电路各膜层包括：
在所述基底3背离所述纹路识别模组一侧依次设置的导电遮光层41、第三缓冲层42、有源层43、第一栅绝缘层44、第一栅极层45、第二栅绝缘层46、第二栅极层47、层间绝缘层48、源漏电极层49、平坦化层50、像素定义层51。
在一些实施例中，当像素电路各膜层中包括遮光层时，所述导电遮光层复用为所述遮光层；
和/或，所述平坦化层复用为所述遮光层；
和/或，所述像素定义层复用为所述遮光层；
和/或，所述遮光层包括：所述第一栅极层、所述第二栅极层以及所述源漏电极层，所述第一栅极层、所述第二栅极层以及所述源漏电极层均互不交叠的区域形成所述透光孔。
具体实施时，如图7～图9所示，像素定义层具有像素开口区57，像素开口区57与透光孔16所在区域在基底的正投影互不交叠。
在一些实施例中，如图7～图9所示，显示模组还包括：位于像素定义层上的支撑隔垫物52，在像素开口区位于平坦化层之上的阳极53，位于阳极53之上的发光功能层54，位于发光功能层54之上的阴极55，位于阴极55之上的封装层56。
接下来以像素电路各膜层包括一层遮光层为例，对显示模组的结构进行具体介绍。如图7所示，导电遮光层41复用为遮光层10。如图8所示，平坦化层50复用为遮光层10。如图9所示，像素定义层51复用为遮光层10。
在一些实施例中，显示模组还包括滤光层。
在一些实施例中，如图10所示，所述平坦化层50包括：遮光平坦化层58，以及位于所述遮光平坦化层58靠近所述基底3一侧的滤光平坦化层59；
所述遮光平坦化层58复用为所述遮光层10；
所述滤光平坦化层59用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
即遮光平坦化层作为遮光层，滤光平坦化层作为滤光层。
在一些实施例中，如图11所示，所述像素定义层51包括：遮光像素定义层60，以及位于所述遮光像素定义层60背离所述基底3一侧的滤光像素定义层61；
所述遮光像素定义层60复用为所述遮光层10；
所述滤光像素定义层61覆盖所述遮光层的透光孔，且所述滤光像素定义层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
在具体实施时，导电遮光层的材料例如包括金属。遮光平坦化层和遮光像素定义层的材料例如包括遮光聚合物。滤光平坦化层和滤光像素定义层包括滤除波长大于600纳米的光的聚合物。
在一些实施例中，当基底、像素电路层、纹路识别模组均包括具有透光孔的遮光层时，以基底、像素电路层、纹路识别模组均包括一层遮光层为例，如图12所示，指纹A与显示装置的显示面62接触，第一遮光层17与第二遮光层18之间的距离为h1，第一遮光层17与第三遮光层19之间的距离为h2，第一遮光层17的透光孔的孔径为d1，第二遮光层18的透光孔的孔径为d2，第三遮光层19的透光孔的孔径为d3，准直收光角θ满足以下关系：tanθ＝d2/(h1+h2)。在具体实施时准直收光角的范围约为-10°～10°，进一步的准直收光角的范围也可以-4°～4°。在具体实施时，可以根据准直收光角的范围对各遮光层之间的距离、以及遮光层的透光孔尺寸进行设计。在具体实施时，不同遮光层中透光孔的尺寸可以相等。不同遮光层中透光孔的尺寸也可以不相等，例如，d1、d2、d3均不相等，也可以是d1、d2、d3中的两个相等。基底、像素电路层、纹路识别模组中任一结构包括多层遮光层时，同一结构中的遮光层的透光孔尺寸可以相等。在具体实施时，可以在各遮光层之间增设绝缘层来调节遮光层之间的距离，或者改变遮光层之间膜层的厚度来调节遮光层之间的距离，以使准直结构的准直收光角满足要求。
本申请实施例提供的显示装置为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本申请的限制。
综上所述，本申请实施例提供的显示装置，至少两层具有透光孔的遮光层作为准直结构，显示模组的基底包括具有透光孔的遮光层，即本申请遮光层至少集成于基底内，从而无需额外设置独立于显示模组和纹路识别模组的光路准直层，可以减小显示装置的厚度。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：显示模组，以及位于所述显示模组显示面的相对侧的纹路识别模组；
所述显示模组包括：基材与缓冲层交替堆叠的基底，以及位于所述基底背离所述纹路识别模组一侧的像素电路各膜层；
所述纹路识别模组包括纹路识别器件，所述纹路识别器件具有感光区；
所述显示装置还包括：位于所述纹路识别器件的入光侧的准直结构；
所述准直结构包括至少两层遮光层；各所述遮光层具有多个透光孔，各所述遮光层中的透光孔一一对应且在所述基底的正投影至少部分重合；每个所述指纹识别器件的所述感光区在所述基底的正投影至少完全覆盖一个所述透光孔的正投影；
所述基底包括至少一层所述遮光层。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述基底具体包括：第一基材，位于所述第一基材面向所述纹路识别模组一侧的第一缓冲层，位于所述第一基材背离所述纹路识别模组一侧的第二缓冲层，以及位于所述第一缓冲层背离所述第一基材一侧的第二基材；
所述遮光层位于所述第一缓冲层和所述第二基材之间，和/或，所述遮光层位于所述第二基材背离所述第一缓冲层的一侧。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括在所述基底靠近所述纹路识别模组一侧贴付的散热层；
当所述遮光层位于所述第二基材背离所述第一缓冲层的一侧时，所述散热层复用为所述遮光层。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述基底、所述像素电路各膜层、所述纹路识别模组中均包括至少一层所述遮光层。
5.根据权利要求1或4所述的显示装置，其特征在于，所述纹路识别模组还包括：在所述纹路识别器件靠近所述基底一侧的至少一层保护层；
所述遮光层位于至少一层所述保护层背离所述纹路识别器件一侧。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述纹路识别模组还包括：位于所述遮光层靠近所述基底一侧的支撑层，位于所述支撑层靠近所述基底一侧的聚光部；
所述聚光部在所述基底的正投影覆盖所述透光孔在所述基底的正投影。
7.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述纹路识别模组还包括：滤光层；所述滤光层位于所述遮光层背离所述纹路识别器件的一侧；所述滤光层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
8.根据权利要求1或4所述的显示装置，其特征在于，所述像素电路各膜层包括：
在所述基底背离所述纹路识别模组一侧依次设置的导电遮光层、第三缓冲层、有源层、第一栅绝缘层、第一栅极层、第二栅绝缘层、第二栅极层、层间绝缘层、源漏电极层、平坦化层、像素定义层；
所述导电遮光层复用为所述遮光层；
和/或，所述平坦化层复用为所述遮光层；
和/或，所述像素定义层复用为所述遮光层；
和/或，所述遮光层包括：所述第一栅极层、所述第二栅极层以及所述源漏电极层，所述第一栅极层、所述第二栅极层以及所述源漏电极层均互不交叠的区域形成所述透光孔。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述平坦化层包括：遮光平坦化层，以及位于所述遮光平坦化层靠近所述基底一侧的滤光平坦化层；
所述遮光平坦化层复用为所述遮光层；
所述滤光平坦化层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述像素定义层包括：遮光像素定义层，以及位于所述遮光像素定义层背离所述基底一侧的滤光像素定义层；
所述遮光像素定义层用为所述遮光层；
所述滤光像素定义层覆盖所述遮光层的透光孔，且所述滤光像素定义层用于阻挡波长大于600纳米的光透过。
11.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，不同所述遮光层的透光孔在所述基底的正投影的中心重合。
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|---|---|---|---|
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Cited By (4)
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