CN112269488B - 触控基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种触控基板及其制备方法、显示装置。该触控基板包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述***区域包括基底、形成于所述基底之上的限定层、形成于所述限定层中的隔离槽以及形成于所述隔离槽之上的触控引线，所述***区域还包括形成于所述隔离槽中的平坦层，所述触控引线形成于所述平坦层之上。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种触控基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)为主动发光显示器件，具有自发光、广视角、高对比度、较低耗电、反应速度快等优点。随着显示技术的不断发展，OLED技术越来越多的应用各种显示装置中，特别是手机和平板电脑等智能终端产品中。
OLED触控基板包括显示区域以及围绕显示区域四周的***区域，显示区域包括触控电极，***区域包括与触控电极连接的触控走线。OLED触控基板的生产中，触控走线经常会因曝光不充分导致光刻胶无法曝开，发生短路，从而影响产品触控功能的正常使用，降低产品良率。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种触控基板及其制备方法、显示装置，以改善触控走线短路现象，提高产品良率。
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种触控基板，包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述***区域包括基底、形成于所述基底之上的限定层、形成于所述限定层中的隔离槽以及形成于所述隔离槽之上的触控引线，所述***区域还包括形成于所述隔离槽中的平坦层，所述触控引线形成于所述平坦层之上。
在示例性实施方式中，所述***区域还包括形成于所述平坦层与所述限定层之间的隔离层，所述隔离层将所述平坦层与所述限定层隔离。
在示例性实施方式中，所述平坦层远离所述基底一侧的表面不高于所述限定层远离所述基底一侧的表面。
在示例性实施方式中，所述***区域还包括形成于所述平坦层之上的封装层，所述封装层之上形成所述触控引线。
在示例性实施方式中，所述封装层包括形成于所述平坦层之上的第一无机封装层、形成于所述第一无机封装层之上的有机封装层以及形成于所述有机封装层之上的第二无机封装层。
在示例性实施方式中，所述隔离槽围绕所述显示区域的四周设置。
在示例性实施方式中，所述限定层包括形成于所述基底之上的第一有机层以及形成于所述第一有机层之上的第二有机层，所述第一有机层中开设有第一开孔，所述第二有机层中开设有与所述第一开孔连通的第二开孔，所述第二开孔的开孔面积大于所述第一开孔的开孔面积，所述第一开孔和所述第二开孔形成呈阶梯状的所述隔离槽。
在示例性实施方式中，所述***区域还包括形成于所述触控引线之上的保护层。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前面任一所述的触控基板。
本发明实施例还提供了一种触控基板的制备方法，所述触控基板包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述触控基板的制备方法包括：
在所述***区域形成设置在基底上的限定层；
在所述限定层中开设隔离槽；
在所述隔离槽之上形成平坦层；
在所述平坦层之上形成触控引线。
本发明提供了一种触控基板及其制备方法、显示装置，通过在隔离槽中形成平坦层，以减小隔离槽产生的断差，从而有效保证隔离槽之上触控走线的形成，避免触控走线在隔离槽处，由于断差导致曝光不充分，使光刻胶无法曝开，发生触控走线之间短路的不良情况发生。
当然，实施本发明的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。本发明的其它特征和优点将在随后的说明书实施例中阐述，并且，部分地从说明书实施例中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明实施例的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
图1为一种触控基板中***区域的结构示意图；
图2为图1中A-A方向的剖视图；
图3为本发明实施例触控基板的结构示意图；
图4为图3中a处的放大图；
图5为图4中B-B方向的剖视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
图1为一种触控基板中***区域的结构示意图；图2为图1中A-A方向的剖视图。如图1和图2所示，该触控基板包括显示区域100以及围绕显示区域100四周的***区域200，显示区域100包括设置在基底10上的显示器件1、形成于显示器件1之上的封装层2以及形成于封装层2之上的触控电极5。***区域200包括设置在基底10上的隔离槽3、形成于隔离槽3之上的封装层2以及形成于封装层2之上的触控走线6。隔离槽3围绕显示区域100的四周设置，用于隔绝水汽入侵，以保护显示区域100。上述触控基板生产中，由于隔离槽3位置断差较大，在隔离槽3之上形成触控走线6时，经常会因曝光不充分导致光刻胶无法曝开，使触控走线6之间发生短路，从而影响产品触控功能的正常使用，降低产品良率。
本发明实施例提供一种触控基板，包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述***区域包括基底、形成于所述基底之上的限定层、形成于所述限定层中的隔离槽以及形成于所述隔离槽之上的触控引线，所述***区域还包括形成于所述隔离槽中的平坦层，所述触控引线形成于所述平坦层之上。
本发明实施例的触控基板通过在隔离槽中形成平坦层，以减小隔离槽产生的断差，从而有效保证隔离槽之上触控走线的形成，避免触控走线在隔离槽处，由于断差导致曝光不充分，使光刻胶无法曝开，发生触控走线之间短路的不良情况发生。
图3为本发明实施例触控基板的结构示意图；图4为图3中a处的放大图；图5为图4中B-B方向的剖视图。如图3、图4和图5所示，在平行于触控基板的平面上，显示区域100包括阵列分布的多个发光单元以及围绕发光单元四周的触控电极5。每个发光单元作为一个子像素，3个出射不同颜色光(如红绿蓝)的发光单元或4个出射不同颜色光(如红绿蓝白)的发光单元组成一个像素单元。
在垂直于触控基板的平面上，显示区域包括设置于基底10上的显示器件1、形成于显示器件1之上的封装层2以及形成于封装层2之上的触控电极5。显示器件1包括设置在基底10上的驱动结构层以及设置在驱动结构层上的发光结构层，驱动结构层主要包括多个薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)，发光结构层主要包括阳极、有机发光层和阴极。触控电极5具体类型不限，可以为自电容式触控电极，也可以为互电容式触控电极。
在平行于触控基板的平面上，***区域200包括设置在基底10上的多条触控走线6。触控走线6与显示区域100上的触控电极5连接，从而能够传输触控信号。
在垂直于触控基板的平面上，***区域200包括基底10、设置在基底10上的限定层4、形成于限定层4中的隔离槽3、形成于隔离槽3中的平坦层8以及形成于平坦层8之上的触控走线6。隔离槽3围绕显示区域100的四周设置，用于隔绝水汽入侵，以保护显示区域100。平坦层8的材料可以采用有机材料。其中，平坦层8可以为单层和多层结构，厚度小于等于限定层4厚度之和，平坦层8可以单独工艺制备，也可与其他显示器件1的有机层同层制备。基底10可以为单层和多层结构，多层结构可以由有机膜层和无机膜层复合构成。
本发明实施例中触控走线6的制备方法为：在平坦层8之上沉淀一层金属薄膜，然后在金属薄膜上涂敷一层光刻胶；之后采用掩模板通过紫外光曝光；显影后只在触控走线6位置保留光刻胶图案；之后通过刻蚀工艺去除光刻胶图案以外区域的金属薄膜；最后剥离剩余的光刻胶，形成触控走线6图案。
在上述触控走线6的制备过程中，本发明实施例通过在隔离槽3中形成平坦层8，以减小隔离槽3产生的断差，从而有效保证隔离槽3之上触控走线6的形成，避免触控走线6在隔离槽3处，由于断差导致曝光不充分，使光刻胶无法曝开，发生触控走线6之间短路的不良情况发生。
在示例性实施方式中，***区域200还包括形成于平坦层8与限定层4之间的隔离层12，隔离层12将平坦层8与限定层4隔离，使平坦层8无法形成水汽入侵的通道，保证了对水汽入侵隔绝。隔离层12和平坦层8均位于隔离槽3处，隔离层12覆盖整个隔离槽3以及位于隔离槽3两侧的部分限定层4。平坦层8设置在隔离层12之上，通过隔离层12不与限定层4相连接。其中，隔离层12的材料可以采用无机材料。隔离层12可以为单层和多层结构，隔离层12可以单独工艺制备，也可和其他显示器件1的绝缘无机层同层制备。
在示例性实施方式中，平坦层8的厚度不小于限定层4，使平坦层8远离基底10一侧的表面不高于限定层4远离基底10一侧的表面，进而使平坦层8可以有效减小隔离槽3产生的断差。
在示例性实施方式中，限定层4包括形成于基底10之上的第一有机层11以及形成于第一有机层11之上的第二有机层13，第一有机层11中开设有第一开孔，第二有机层13中开设有与第一开孔连通的第二开孔。第二开孔的开孔面积大于第一开孔的开孔面积，第一开孔和第二开孔形成呈阶梯状的隔离槽3。其中，平坦层8的厚度大于于第一有机层11的厚度，小于等于第一有机层11厚度与第二有机层13厚度之和，从而可以有效减小隔离槽3产生的断差。
在示例性实施方式中，显示器件1还包括无机绝缘层18，无机绝缘层18位于第一有机层11和第二有机层13之间，通过化学气相沉积生成。隔离层12可以和无机绝缘层18采用同一张掩膜板，在制备无机绝缘层18的同时制备出隔离层12，不用额外增加一张掩膜板，实现节约生产成本。
在示例性实施方式中，平坦层8可以和第二有机层13采用同一张掩膜板，在制备第二有机层13的同时，制备出平坦层8，进一步节约生产成本。
在示例性实施方式中，***区域200还包括形成于平坦层8之上的封装层2，封装层2之上形成触控引线6。封装层2覆盖显示区域100以及***区域200中的整个隔离槽3。封装层2和隔离槽3用于对显示器件1进行封装保护，使驱动结构层以及发光结构层与环境中水汽，氧气等有效隔离。封装层2可以为单层或多层结构，通常是两层无机膜层包裹一层有机层的多层结构。具体地，封装层2包括形成于平坦层8之上的第一无机封装层14、形成于第一无机封装层14之上的有机封装层15以及形成于有机封装层15之上的第二无机封装层16，第一无机封装层14和第二无机封装层16采用化学气相沉积生成，有机封装层15由喷墨打印工艺制备。
在示例性实施方式中，***区域200还包括形成于触控引线6之上的保护层17。保护层17覆盖显示区域100上的触控电极5以及***区域200上的触控走线6，隔离外界环境，起到保护作用。
本发明实施例中，触控电极5、触控走线6以及其上的保护层17，位于封装层2之上，共同构成触控单元，实现触控功能。触控电极5可以是自容式和互容式两种触控形式的触控电极，由导电金属网格构成。触控走线6由金属线沿封装隔离槽3平行排列构成，与触控电极5相连接，实现信号传输。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述实施例的触控基板。显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本发明实施例还提供了一种触控基板的制备方法，所述触控基板包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述触控基板的制备方法包括：
在所述***区域形成设置在基底上的限定层；
在所述限定层中开设隔离槽；
在所述隔离槽之上形成平坦层；
在所述平坦层之上形成触控引线。
在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (9)
1.一种触控基板，其特征在于，包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述***区域包括基底、形成于所述基底之上的限定层、形成于所述限定层中的隔离槽以及形成于所述隔离槽之上的触控引线，所述***区域还包括形成于所述隔离槽中的平坦层，所述触控引线形成于所述平坦层之上；所述限定层包括形成于所述基底之上的第一有机层以及形成于所述第一有机层之上的第二有机层，所述第一有机层中开设有第一开孔，所述第二有机层中开设有与所述第一开孔连通的第二开孔，所述第二开孔的开孔面积大于所述第一开孔的开孔面积，所述第一开孔和所述第二开孔形成呈阶梯状的所述隔离槽。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述***区域还包括形成于所述平坦层与所述限定层之间的隔离层，所述隔离层将所述平坦层与所述限定层隔离。
3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述平坦层远离所述基底一侧的表面不高于所述限定层远离所述基底一侧的表面。
4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述***区域还包括形成于所述平坦层之上的封装层，所述封装层之上形成所述触控引线。
5.根据权利要求4所述的触控基板，其特征在于，所述封装层包括形成于所述平坦层之上的第一无机封装层、形成于所述第一无机封装层之上的有机封装层以及形成于所述有机封装层之上的第二无机封装层。
6.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述隔离槽围绕所述显示区域的四周设置。
7.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述***区域还包括形成于所述触控引线之上的保护层。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～7任一所述的触控基板。
9.一种如权利要求1～7任一所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控基板包括显示区域以及围绕所述显示区域四周的***区域，所述触控基板的制备方法包括：
在所述***区域形成设置在基底上的限定层；所述限定层包括形成于所述基底之上的第一有机层以及形成于所述第一有机层之上的第二有机层，所述第一有机层中开设有第一开孔，所述第二有机层中开设有与所述第一开孔连通的第二开孔，所述第二开孔的开孔面积大于所述第一开孔的开孔面积，所述第一开孔和所述第二开孔形成呈阶梯状的所述隔离槽；
在所述限定层中开设隔离槽；
在所述隔离槽之上形成平坦层；
在所述平坦层之上形成触控引线。
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