CN112015057A - 像印设备及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明要求保护一种像印设备及其制造方法。像印设备包括显示器和滤光片组件,显示器设有阵列光源,滤光片组件包括堆叠设置的第一基板、覆盖在第一基板的第一侧的光刻胶层和位于第一光刻胶层上的彩膜层,其中,第一光刻胶层包括与阵列光源对应的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵,彩膜层包括多个一一对应于各透光区域的色阻单元,以及与第一黑矩阵在堆叠方向上对应的第二黑矩阵,如此则可遮挡由邻近区域传播出的光线,使光线分别通过滤光片组件的各透光区域中发射出来,避免了混光现象,从而可以提高照片成像质量。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种像印设备及其制造方法。
背景技术
现有的像印设备例如即可拍相机或像印机,其内部包括有显示器。像印设备在进行照片曝光时,是由显示器发出色光,并通过光纤传递至相纸以形成图像。
通常,由显示器发出的色光光线会泄露至邻近区域,从而发生混光现象,导致曝光的照片成像质量较差。
发明内容
基于此,有必要提供一种像印设备及其制造方法,以克服发出的色光光线泄露至邻近区域的问题。
一种像印设备,包括显示器和滤光片组件,所述显示器设有阵列光源,所述滤光片组件包括堆叠设置的:
第一基板;
第一光刻胶层,设置在第一基板的第一侧,第一光刻胶层包括与所述阵列光源对应的的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵;
彩膜层,位于第一光刻胶层背离第一基板的一侧,彩膜层包括:
多个色阻单元,各色阻单元在堆叠方向分别与各透光区域一一对应设置;
第二黑矩阵,第二黑矩阵和第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
在一个实施例中,第一光刻胶层为多层复合结构,且在第一光刻胶层的每一层内部均设有第一黑矩阵,各第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
在一个实施例中,色阻单元包括:
多个间隔设置的色阻,各所述色阻与所述阵列光源对应;
第三黑矩阵,
各色阻由第三黑矩阵分隔开,且相邻两个色阻间的第三黑矩阵的宽度小于相邻两个色阻单元间的第二黑矩阵的宽度。
在一个实施例中,第一光刻胶层内部还设有第四黑矩阵,其中,第四黑矩阵与第三黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
在一个实施例中,像印设备还包括:
第二光刻胶层,设置在第一基板的第二侧,第二侧与第一侧相背设置,第二光刻胶层内部设有第五黑矩阵,
第五黑矩阵与第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
在一个实施例中,像印设备还包括:
第三光刻胶层,设置在第一基板的第二侧,第二侧与第一侧相背设置,第三光刻胶层内部形成有第五黑矩阵和第六黑矩阵,
第五黑矩阵与第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置;
第六黑矩阵与第四黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
在一个实施例中,像印设备还包括:
第二基板,设置在第一光刻胶层和彩膜层之间,且彩膜层覆盖在第二基板的第一侧;
第四光刻胶层,覆盖在第二基板的第二侧,第二基板的第二侧与第二基板的第一侧相背离,且第四光刻胶层内部设有第七黑矩阵,第七黑矩阵与第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
在一个实施例中,第七黑矩阵的宽度大于第一黑矩阵和第二黑矩阵中任一者的宽度。
在一个实施例中,像印设备还包括封装结构,用于对显示器和滤光片组件进行封装。
一种像印设备制造方法,包括:
提供显示器,所述显示器设有阵列光源;
提供第一基板,第一基板的第一侧具有呈阵列排布的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵区域;
在第一黑矩阵区域内形成第一黑矩阵;
在第一基板的第一侧形成第一光刻胶层;
在第一光刻胶层背离第一基板的一侧形成第二黑矩阵,其中,第二黑矩阵和第一黑矩阵在堆叠方向上对应;
分别在由第二黑矩阵围设而成的多个区域内形成色阻单元,以形成彩膜层,其中,各色阻单元与各透光区域对应。
本发明实施例提供一种像印设备及其制造方法,像印设备包括显示器和滤光片组件,显示器设有阵列光源,滤光片组件包括堆叠设置的第一基板、覆盖在第一基板的第一侧的光刻胶层和位于第一光刻胶层上的彩膜层,其中,第一光刻胶层包括与阵列光源对应的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵,彩膜层包括多个一一对应于各透光区域的色阻单元,以及与第一黑矩阵在堆叠方向上对应的第二黑矩阵,如此则可遮挡由邻近区域传播出的光线,使光线分别通过滤光片组件的各透光区域中发射出来,避免了混光现象,从而可以提高照片成像质量。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案,下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一实施例的像印设备的结构示意图;
图2为本发明另一实施例的像印设备的结构示意图;
图3为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图4为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图5为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图6为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图7(a)为对单个色阻单元点亮后由第一基板投射出的光影;
图7(b)为对相邻两个色阻单元点亮后第一基板投射出的光影
图8为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图9为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图10为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图11为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图12(a)为对单个色阻单元点亮后由第一基板投射出的光影;
图12(b)为对相邻两个色阻单元点亮后第一基板投射出的光影;
图13为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图14为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图15(a)为对单个色阻单元点亮后由第二光刻胶层投射出的光影;
图15(b)为对相邻两个色阻单元点亮后第二光刻胶层投射出的光影;
图15(c)为对两列相邻两个色阻单元点亮后第二光刻胶层投射出的光影;
图16为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图17为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图18为本发明另一实施例的像印设备的正视图;
图19为本发明另一实施例的像印设备的侧视图;
图20为本发明一实施例的显示器的结构示意图;
图21为本发明一实施例的像印设备制造方法的流程图;
图22(a)-图22(e)为本发明一实施例的像印设备的制程示意图。
附图标记说明:
101第一基板;102第一光刻胶层;103彩膜层;104第一黑矩阵;105色阻单元;106第二黑矩阵;107色阻;108色阻;109色阻;110第三黑矩阵;111第四黑矩阵;112第二光刻胶层;113第五黑矩阵;114第三光刻胶层;115第五黑矩阵;116第六黑矩阵;117第二基板;118第四光刻胶层;119第七黑矩阵;120显示器;121阵列光源;122封装结构。
具体实施方式
为了便于理解本申请,下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的实施例。但是,本申请可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使本申请的公开内容更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请。
可以理解,本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件,但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。举例来说,在不脱离本申请的范围的情况下,可以将第一黑矩阵称为第二黑矩阵,且类似地,可将第二黑矩阵称为第一黑矩阵。第一黑矩阵和第二黑矩阵两者都是黑矩阵,但其不是同一黑矩阵。
可以理解,以下实施例中的“连接”,如果被连接的电路、模块、单元等相互之间具有电信号或数据的传递,则应理解为“电连接”、“通信连接”等。
在此使用时,单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也可以包括复数形式,除非上下文清楚指出另外的方式。还应当理解的是,术语“包括/包含”或“具有”等指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的存在,但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的可能性。同时,在本说明书中使用的术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
图1为一实施例中像印设备的结构图,该像印设备包括显示器120和滤光片组件,显示器120设有阵列光源121,滤光片组件包括堆叠设置的第一基板101、第一光刻胶层102和彩膜层103,第一光刻胶层102设置在第一基板101的第一侧,第一光刻胶层102包括与阵列光源121对应的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵104;彩膜层103位于第一光刻胶层102背离第一基板101的一侧,彩膜层103包括多个色阻单元105和第二黑矩阵106,其中,各色阻单元105在堆叠方向分别与各透光区域一一对应设置,第二黑矩阵106和第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置。
其中,显示器120发出的光照射在滤光片组件上,由彩膜层103一侧射向第一基板101,射向第二黑矩阵106的光会被遮挡,其余部分的光会依次通过色阻单元105射出。由于色阻单元105呈阵列设置,每个色阻单元105之间由第二黑矩阵106分隔,从而避免了各色阻单元105之间产生混光。可以理解,彩膜层103中的色阻单元105用于产生多个颜色通道,光透过该多个颜色通道可形成像素单元,光透过色阻单元105时,各通道的颜色叠加,从而能够产生人类视力所能感知的各种颜色。
进一步的,光透过色阻单元105进入第一光刻胶层102,第一光刻胶层102中设有第一黑矩阵104,该第一黑矩阵104用于防止射入第一光刻胶层102的光向临近区域散射,使得光仅通过透光区域而射向第一基板101。由于第一光刻胶层102的透光区域与阵列光源121对应,即透光区域也呈阵列排布,因此第一光刻胶层102向第一基板101射出的也是呈阵列排布的多路光。第一黑矩阵104和第二黑矩阵106在堆叠方向上是对应设置的,由此实现多层过滤效果,以进一步改善混光缺陷,减少相邻像素之间的相互干扰,使图像更为清晰。
第一基板101作为第一光刻胶层102的支撑结构,可采用透明材料,以此透射由第一光刻胶层102射出的各路光。经第一基板101透射出的光可直接映射至相纸上,而无需采用多组光纤材料形成多条光纤路径,以分别对由第一基板101透射出的各路光进行输出,节省了光纤材料,同时也避免了需将光纤与各路光对准以保证光线的输出质量。
本发明实施例提供一种像印设备,像印设备中的滤光片组件包括第一基板、覆盖在第一基板的第一侧的光刻胶层和位于第一光刻胶层上的彩膜层,第一光刻胶层包括与阵列光源121对应的的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵,彩膜层包括多个一一对应于各透光区域的色阻单元,以及与第一黑矩阵在堆叠方向上对应的第二黑矩阵106,如此则可遮挡由邻近区域传播出的光线,使光线分别通过滤光片组件的各透光区域中发射出来,避免了混光现象,从而可以提高照片成像质量。
图2为本发明另一实施例的像印设备的结构示意图,如图2所示,在该像印设备中,滤光片组件中的第一光刻胶层102为多层复合结构,且在第一光刻胶层102的每一层内部均设有第一黑矩阵104,各第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置。
可以理解,各层第一光刻胶层102中的第一黑矩阵104均会阻挡光线从侧面散射,从而达到多层过滤的作用,使得光仅从第一光刻胶层102中的透光区域射出。其中,第一光刻胶层102由光刻胶材料制成,可增加透光率。
其中图2仅用于示例性示出第一光刻胶层102为多层复合结构时的堆叠形态,而不用于限制其具体层数为两层,实际上其至少不少于2层。
本发明实施例中的第一光刻胶层可为多层复合结构,以此对散射至邻近区域的光线进行多层过滤,以使光线仅通过各透光区域发出,避免了混光现象,从而可以提高照片成像质量。
图3和图4分别为另一实施例中像印设备的正视图和侧视图,本实施例与图1实施例相比,区别在于色阻单元105可包括多个间隔设置的色阻以及第三黑矩阵110,其中,各色阻与阵列光源121对应,阵列光源121中的每一光源与各色阻一一对应,以对各色阻进行分别点亮其中光源的种类可为LCD、OLED或MicroLED。
色阻的数量可为三个,如图3中的色阻107、色阻108和色阻109,各色阻由第三黑矩阵110分隔开,且相邻两个色阻间的第三黑矩阵110的宽度小于相邻两个色阻单元105间的第二黑矩阵106的宽度。
可以理解,各色阻可分别为R(红色)色阻、G(绿色)色阻、B(蓝色)色阻,与色阻对应的阵列光源121发出的光穿透各色阻后,在堆叠方向上形成多束相应颜色的光,各种颜色光组合叠加则可形产生人类视力所能感知的各种颜色。
其中,各色阻由第三黑矩阵110分隔开,可避免各色阻相隔距离过近产生混光,而相邻两个色阻间的第三黑矩阵110的宽度小于相邻两个色阻单元间的第二黑矩阵106的宽度,可保证各种颜色光能够叠加,以产生特定颜色的光。
其中,第一光刻胶层102可为多层复合结构,在第一光刻胶层102的每一层内部均设有第一黑矩阵104,各第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置,如图5至图6所示。多层复合结构的第一光刻胶层102可实现多层过滤效果,以进一步改善混光缺陷,减少相邻像素之间的相互干扰,使图像更为清晰。
其中图5至图6实施例仅用于示例性示出第一光刻胶层102为多层复合结构时的堆叠形态,而不用于限制其具体层数为两层,实际上其至少不少于2层。
图7(a)-(b)为基于图5至图6实施例中的像印设备模拟得到的影像,其中,图7(a)为对单个色阻单元点亮后由第一基板101投射出的光影,图7(b)为对相邻两个色阻单元点亮后第一基板101投射出的光影,从中可看出,光影的轮廓以及各色光的层次都较为清晰,本发明实施例中的像印设备能够产生较好的显示效果。
本发明实施例中的色阻单元设有多个色阻,各色阻与阵列光源对应,以通过阵列光源中的每一光源进行点亮,从而增强显示效果;各色阻用于通过叠加组合产生各种颜色光,其中各色阻间隔设置且由第三黑矩阵分隔开,以避免产生混光现象。另外,相邻两个所述色阻间的第三黑矩阵的宽度小于相邻两个所述色阻单元间的第二黑矩阵的宽度,以保证各种颜色光能够叠加,从而产生特定颜色的光。
图8和图9分别为另一实施例中像印设备的正视图和侧视图,本实施例与图3至图4的实施例相比,区别在于,第一光刻胶层102内部还设有第四黑矩阵111,其中,第四黑矩阵111与第三黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
可以理解,光穿过各色阻进入第一光刻胶层102后,由于第一光刻胶层102内部还设有第四黑矩阵111,因此可避免相邻色阻产生混光,从而提高照片成像质量。
在一个实施例中,第一光刻胶层102可为多层复合结构,且在第一光刻胶层102的每一层内部均设有第四黑矩阵111,各第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置。如图10至图11所示。多层复合结构的第一光刻胶层102可实现多层过滤效果,以进一步改善混光缺陷,减少相邻像素之间的相互干扰,使图像更为清晰。
其中图10至图11实施例仅用于示例性示出第一光刻胶层102为多层复合结构时的堆叠形态,而不用于限制其具体层数为两层,实际上其至少不少于2层。
图12(a)-(b)为基于图5至图6实施例中的像印设备模拟得到的影像,其中,图12(a)为对单个色阻单元点亮后由第一基板101投射出的光影,图12(b)为对相邻两个色阻单元点亮后第一基板101投射出的光影,从中可看出,光影的轮廓以及各色光的层次都较为清晰,本发明实施例中的像印设备能够产生较好的显示效果。
本发明实施例通过在第一光刻胶层内部与第三黑矩阵在堆叠方向上对应设置第四黑矩阵,从而可避免相邻色阻产生混光,提高照片成像质量。
图13-图14分别为另一实施例中像印设备的正视图和侧视图,本实施例与图3至图4的实施例相比,区别在于,滤光片组件还包括第二光刻胶层112,设置在第一基板101的第二侧,第一基板101的第二侧与第一侧相背设置,第二光刻胶层112内部设有第五黑矩阵113,第五黑矩阵113与第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置。
可以理解,光通过第一光刻胶层102并透过第一基板101射入第二光刻胶层112后,由于第二光刻胶层112内部设有第五黑矩阵113,可避免透过相邻色阻的光线产生混光。其中第二光刻胶层112由光刻胶材料制成,其可透光率高,使得光线在传播过程中损失小。
第二光刻胶层112与第一光刻胶层102相对于第一基板101对称,其制备方法与制备第一光刻胶层102的方法类似。
在一个实施例中,第一光刻胶层102和第二光刻胶层112可为多层复合结构,以产生多层过滤效果,提高影像质量。
图15(a)-(c)分别为基于图13至图14实施例中的像印设备模拟得到的影像,其中,图15(a)为对单个色阻单元点亮后由第二光刻胶层112投射出的光影,图15(b)为对相邻两个色阻单元点亮后第二光刻胶层112投射出的光影,图15(c)为对两列相邻两个色阻单元点亮后第二光刻胶层112投射出的光影,从中可看出,光影的轮廓以及各色光的层次都较为清晰,本发明实施例中的像印设备能够产生较好的显示效果。
本发明实施例像印设备中的滤光片组件还包括第二光刻胶层,设置在第一基板的第二侧,其中第一基板的第二侧与第一侧相背设置,第二光刻胶层内部设有第五黑矩阵,第五黑矩阵与第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置,由此第二光刻胶层中的第五黑矩阵能够进一步避免透过相邻色阻的光线产生混光。
图16至图17分别为另一实施例中像印设备的正视图和侧视图,本实施例与图8至图9的实施例相比,区别在于,滤光片组件还包括第三光刻胶层114,设置在第一基板101的第二侧,第二侧与第一侧相背设置,第三光刻胶层114内部形成有第五黑矩阵115和第六黑矩阵116,第五黑矩阵115与第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置;第六黑矩阵116与第四黑矩阵111在堆叠方向上对应设置。
其中,光透过各色阻并由第一基板101射出后,会进一步射入第三光刻胶层114中,由于第三光刻胶层114中设有第五黑矩阵115和第六黑矩阵116,因此可进一步避免透过相邻色阻的光线产生混光。
在与第一基板101的第一侧相背的第二侧设置第三光刻胶层114,一方面能够增加滤光片组件的厚度,满足产品需求,另一方面由于第三光刻胶层内部设置有第五黑矩阵115和第六黑矩阵116,从而能够避免各色阻之间产生混光,提高了影像质量。
在一个实施例中,第一光刻胶层102和第三光刻胶层114可为多层复合结构,以进一步产生多层过滤效果,提高影像质量。
本发明实施例的像印设备还包括第三光刻胶层,设置在第一基板的第二侧,其中,第二侧与第一侧相背设置,该第三光刻胶层能够增加滤光片组件的厚度以满足产品需求;第三光刻胶层内部形成有第五黑矩阵和第六黑矩阵,第五黑矩阵与第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置;第六黑矩阵与第四黑矩阵在堆叠方向上对应设置,从而能够避免各色阻之间产生混光,提高了影像质量。
图18至图19分别为另一实施例中像印设备的正视图和侧视图,本实施例与图3至图4的实施例相比,区别在于,滤光片组件还包括第二基板117和第四光刻胶层118。其中,第二基板117设置在第一光刻胶层102和彩膜层103之间,且彩膜层103覆盖在第二基板117的第一侧;第四光刻胶层118覆盖在第二基板117的第二侧,第二基板117的第二侧与第二基板117的第一侧相背离,且第四光刻胶层118内部设有第七黑矩阵119,第七黑矩阵119与第一黑矩阵104在堆叠方向上对应设置。
其中,第二基板117和第四光刻胶层118构成的整体结构与第一基板101和第一光刻胶层102构成的整体结构对称,因此在制备该滤光片组件时,可制备两组一模一样的第一基板101和第一光刻胶层102构成的整体结构,并将其中一组作为第二基板117和第四光刻胶层118构成的整体结构,进一步堆叠、涂覆色阻和第二黑矩阵106,最终即可形成本实施例中的滤光片组件。
可以理解,第二基板117和第四光刻胶层118在整体上增加了滤光片组件的厚度,满足了产品需求,另外,第四光刻胶层118由光刻胶材料制成,可增加透光率,且由于第四光刻胶层118内部设有第七黑矩阵119,从而能够避免各色阻之间产生混光,提高了影像质量。
在一个实施例中,第七黑矩阵119的宽度可大于第一黑矩阵104和第二黑矩阵106中任一者的宽度。
可以理解,第一黑矩阵104和第二黑矩阵106相对设置,其面积相等,第七黑矩阵119的宽度大于第一黑矩阵104和第二黑矩阵106中任一者的宽度,即第七黑矩阵119的宽度大于第一黑矩阵104和第二黑矩阵106的宽度,如此第七黑矩阵119进一步增加了遮光范围,使得滤光作用增强,以提高影像质量。
本发明实施例像印设备中的滤光片组件还包括第二基板和第四光刻胶层。其中,第二基板设置在第一光刻胶层和彩膜层之间,第四光刻胶层覆盖在第二基板的第二侧,由此在整体上增加了滤光片组件的厚度,满足产品需求;且第四光刻胶层内部设有第七黑矩阵,从而能够避免各色阻之间产生混光,提高了影像质量;另外,由于第七黑矩阵的宽度大于第一黑矩阵和第二黑矩阵106中任一者的宽度,使得滤光作用进一步增强。
在一个实施例中,像印设备还可包括封装结构122,用于对显示器120和滤光片组件进行封装。
具体的,以图1实施例的像印设备为例,滤光片组件和显示器120分别与封装结构122固定连接,以形成整合结构。
本发明实施例中的像印设备还包括封装结构,用于对滤光片组件和显示器进行封装,从而形成稳定的整合结构,便于复制和推广。
图21为一实施例的像印设备制造方法的流程图,该制造方法包括步骤S210至步骤S214。结合图22(a)-(e)所示,该制造方法的具体步骤如下:
步骤S210,提供显示器。
其中,显示器设有阵列光源。
步骤S211,提供第一基板。
图22(a)为显示器120和第一基板101的示意图,其中,第一基板101的第一侧具有与阵列光源121对应的透光区域和围绕透光区域的第一黑矩阵区域。具体的,可根据产品设计图预先划分出透光区域和第一黑矩阵区域。第一基板101可为透明材质的玻璃基板。
步骤S212,在第一黑矩阵区域内形成第一黑矩阵。
如图22(b)所示,第一基板101用于起到支撑的作用,在第一基板101的第一黑矩阵区域内涂覆遮光材料以形成第一黑矩阵104,其中,第一黑矩阵104的厚度可为5μm。
步骤S213,在第一基板的第一侧形成第一光刻胶层。
具体的,完成第一黑矩阵104的设置后,在第一基板101的第一侧涂覆光刻胶材料,以覆盖第一基板101和第一黑矩阵104,如图22(c)所示,从而在第一基板101上形成具有第一黑矩阵104的第一光刻胶层102,其中第一光刻胶层102的厚度可为15μm。
步骤S214,在第一光刻胶层背离第一基板的一侧形成第二黑矩阵。
如图22(d)所示,可在第一光刻胶层102上涂覆遮光材料以形成第二黑矩阵106,其中,第二黑矩阵106和第一黑矩阵104在堆叠方向上对应,而在堆叠方向上,除第二黑矩阵106和第一黑矩阵104以外的部分能够形成透光路径。
步骤S215,分别在由第二黑矩阵围设而成的多个区域内形成色阻单元,以形成彩膜层。
如图22(e)所示,在形成第二黑矩阵106后,再在第一光刻胶层102上除第二黑矩阵106以外的部分涂覆色阻以形成色阻单元105,其中,各色阻单元105与各透光区域对应。
利用本发明实施例提供的像印设备制造方法制得的像印设备,由于设有第一黑矩阵和第二黑矩阵,可遮挡由邻近区域传播出的光线,使光线分别通过像印设备的各透光区域中发射出来,避免了混光现象,从而可以提高照片成像质量。
在本说明书的描述中,参考术语“有些实施例”、“其他实施例”、“理想实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特征包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性描述不一定指的是相同的实施例或示例。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种像印设备,其特征在于,包括显示器和滤光片组件,所述显示器设有阵列光源,所述滤光片组件包括堆叠设置的:
第一基板;
第一光刻胶层,设置在所述第一基板的第一侧,所述第一光刻胶层包括与所述阵列光源对应的透光区域和围绕所述透光区域的第一黑矩阵;
彩膜层,位于所述第一光刻胶层背离所述第一基板的一侧,所述彩膜层包括:
多个色阻单元,各所述色阻单元在堆叠方向分别与各所述透光区域一一对应设置;
第二黑矩阵,所述第二黑矩阵和所述第一黑矩阵在所述堆叠方向上对应设置。
2.根据权利要求1所述的像印设备,其特征在于,所述第一光刻胶层为多层复合结构,且在所述第一光刻胶层的每一层内部均设有所述第一黑矩阵,各所述第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
3.根据权利要求1所述的像印设备,其特征在于,所述色阻单元包括:
多个间隔设置的色阻,各所述色阻与所述阵列光源对应;
第三黑矩阵,
各所述色阻由所述第三黑矩阵分隔开,且相邻两个所述色阻间的第三黑矩阵的宽度小于相邻两个所述色阻单元间的第二黑矩阵的宽度。
4.根据权利要求3所述的像印设备,其特征在于,所述第一光刻胶层内部还设有第四黑矩阵,其中,所述第四黑矩阵与所述第三黑矩阵在所述堆叠方向上对应设置。
5.根据权利要求3所述的像印设备,其特征在于,所述滤光片组件还包括:
第二光刻胶层,设置在所述第一基板的第二侧,所述第二侧与所述第一侧相背设置,所述第二光刻胶层内部设有第五黑矩阵,
所述第五黑矩阵与所述第一黑矩阵在所述堆叠方向上对应设置。
6.根据权利要求4所述的像印设备,其特征在于,所述滤光片组件还包括:
第三光刻胶层,设置在所述第一基板的第二侧,所述第二侧与所述第一侧相背设置,所述第三光刻胶层内部形成有第五黑矩阵和第六黑矩阵,
所述第五黑矩阵与所述第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置;
所述第六黑矩阵与所述第四黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
7.根据权利要求3所述的像印设备,其特征在于,所述滤光片组件还包括:
第二基板,设置在所述第一光刻胶层和所述彩膜层之间,且所述彩膜层覆盖在所述第二基板的第一侧;
第四光刻胶层,覆盖在所述第二基板的第二侧,所述第二基板的第二侧与所述第二基板的第一侧相背离,且所述第四光刻胶层内部设有第七黑矩阵,所述第七黑矩阵与所述第一黑矩阵在堆叠方向上对应设置。
8.根据权利要求7所述的像印设备,其特征在于,所述第七黑矩阵的宽度大于所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵中任一者的宽度。
9.根据权利要求1所述的像印设备,其特征在于,所述像印设备还包括封装结构,用于对所述显示器和所述滤光片组件进行封装。
10.一种像印设备制造方法,其特征在于,包括:
提供显示器,所述显示器设有阵列光源;
提供第一基板,所述第一基板的第一侧具有与所述阵列光源对应的透光区域和围绕所述透光区域的第一黑矩阵区域;
在所述第一黑矩阵区域内形成第一黑矩阵;
在所述第一基板的第一侧形成第一光刻胶层;
在所述第一光刻胶层背离所述第一基板的一侧形成第二黑矩阵,其中,所述第二黑矩阵和所述第一黑矩阵在堆叠方向上对应;
分别在由所述第二黑矩阵围设而成的多个区域内形成色阻单元,以形成彩膜层,其中,各所述色阻单元与各所述透光区域对应。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010994892.7A CN112015057B (zh) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 像印设备及其制造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010994892.7A CN112015057B (zh) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 像印设备及其制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112015057A true CN112015057A (zh) | 2020-12-01 |
CN112015057B CN112015057B (zh) | 2023-03-17 |
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ID=73523060
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---|---|---|---|
CN202010994892.7A Active CN112015057B (zh) | 2020-09-21 | 2020-09-21 | 像印设备及其制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112015057B (zh) |
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2020
- 2020-09-21 CN CN202010994892.7A patent/CN112015057B/zh active Active
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PB01 | Publication | ||
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