CN111943971A - 一种硼酸衍生物的制备方法 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical class OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 46
- YDMRDHQUQIVWBE-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1O YDMRDHQUQIVWBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 28
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical group CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical group [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 16
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 claims description 12
- -1 methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy Chemical group 0.000 claims description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)C(Cl)=O DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N butyryl chloride Chemical compound CCCC(Cl)=O DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N propanoyl chloride Chemical compound CCC(Cl)=O RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 3
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 abstract description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- COIQUVGFTILYGA-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=C(O)C=C1 COIQUVGFTILYGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- WFWQWTPAPNEOFE-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxyphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC(O)=C1 WFWQWTPAPNEOFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- ROEQGIFOWRQYHD-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)boronic acid Chemical compound COC1=CC=CC=C1B(O)O ROEQGIFOWRQYHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOAAEKKFGLPLLU-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)boronic acid Chemical compound COC1=CC=C(B(O)O)C=C1 VOAAEKKFGLPLLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNOJRWOWILAHAV-UHFFFAOYSA-N 3-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC(Br)=C1 MNOJRWOWILAHAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical class [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 2
- RKKOMEIYHHASIN-UHFFFAOYSA-N hydroperoxyboronic acid Chemical compound OOB(O)O RKKOMEIYHHASIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- DGFCTCGCMKEILT-UHFFFAOYSA-N (2-ethoxyphenyl)boronic acid Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1B(O)O DGFCTCGCMKEILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNDLDUNQMTCL-UHFFFAOYSA-N (4-ethoxyphenyl)boronic acid Chemical compound CCOC1=CC=C(B(O)O)C=C1 WRQNDLDUNQMTCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUKIFYQKIZOYKT-UHFFFAOYSA-N 3-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenol Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C1=CC=CC(O)=C1 MUKIFYQKIZOYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- SGCLBIRCSTXTIU-UHFFFAOYSA-N boric acid;2,3-dimethylbutane-2,3-diol Chemical compound OB(O)O.CC(C)(O)C(C)(C)O.CC(C)(O)C(C)(C)O SGCLBIRCSTXTIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/025—Boronic and borinic acid compounds
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Abstract
本发明提供了一种邻羟基苯硼酸的制备方法,其特征在于包含以下步骤:在‑0.1MPa的真空条件和0‑10℃的温度下,将邻烷氧基苯硼酸和酰氯化合物溶于第一有机溶剂,然后加入氯化铝,然后开始加热,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至30‑100℃,然后恒温反应1‑2h,得到中间体化合物,加碱调整体系pH值为9~11,将水层继续使用酸调节至pH为3~4,用第二有机溶剂萃取,收集有机层,浓缩,用第三有机溶剂重结晶,得到邻羟基苯硼酸。本发明的方法反应温度较为温和,且能明显降低反应时间,且催化剂的用量减少,具有较高的收率和纯度。
Description
技术领域
本发明属于有机合成领域,具体涉及一种硼酸衍生物的合成方法,更具体涉及一种羟基苯硼酸的合成方法。
背景技术
铃木反应是合成化学中用来构建各种类型的sp2型的C-C单键的重要方法之一,作为该反应的主要原料之一的有机硼酸,一直保持着比较旺盛的市场需求。羟基硼酸因可以方便地在分子中通过铃木偶合反应来引入苯酚结构单元,所以在日用化工及药物合成方面也被广泛使用。
现有技术中报道羟基苯硼酸的制备方法主要有以下几种:
(1)以苯硼酸为原料,经硝化反应、催化加氢反应、重氮化反应再经水解得到羟基苯硼酸,该方法的缺点是反应路线较长,经济成本高,且反应的选择性较差。
(2)以邻卤代苯酚为原料,低温下与正丁基锂反应,然后与硼酸酯反应,最后经水解得到羟基苯硼酸产物,该方法以邻溴苯酚为原料,成本较高,且需要加入大量的正丁基锂反应,不利于大规模生产。
(3)以间溴苯酚为原料,使用氢化钠将其转化成钠盐,在于正丁基锂反应,该方法用到了氢化钠和正丁基锂,操作不便,且粗品收率仅有58%,且并未记载纯化过程。
(4)以邻、间、对位取代的溴基苯酚异构体为原料,直接与2倍物质的量的BuLi的***溶液反应得溴基苯酚的二锂盐,再与硼酸酯反应得到苯基硼酸酯,经水解获得相应的羟基苯硼酸。此方法的缺点是:因未进行羟基的保护,需要2倍物质的量的BuLi,成本较高.另外,要用到BuLi的***溶液,而此溶液不稳定,需要现用现制,不安全也不方便。溴酚的二锂盐在己烷中溶解度小(该步反应结束时反应物呈混悬状态),阻碍了下一步与硼酸酯的交换.并且分离、精制困难.至少要重结晶三次,致使产率下降很多,对羟基苯硼酸的收率也仅为14%。
(5)以溴代苯酚为原料,将其酚羟基用硅醚类保护基保护后,制成格式试剂,再与硼酸酯反应并水解得到羟基苯硼酸产物,这种方法的总收率依然很低,只有30%,而且也采用溴代苯酚为原料,生产成本较高。
(6)用四氢吡喃进行酚羟基保护,与BuLi进行金属交换得到芳基锂,再与硼酸酯反应,最后经水解得到羟基苯硼酸,该方法得到产物杂质较多。
(7)以间羟基芳基溴(或间羟基芳基碘)和联硼酸频哪醇酯为原料,在钯催化剂作用下经偶联反应得到间羟基苯硼酸频哪醇酯,然后经水解得到间羟基苯硼酸,该方法的缺点是催化剂昂贵。
(8)以烷氧基(或烷基巯基)苯硼酸为原料,在氯化铝的作用下与乙酰氯反应,得到中间体,再碱化后酸化得到羟基苯硼酸,采用该方法可以将规模提高到公斤级,但是收率不超过80%。
发明内容
本发明的目的在于为了克服现有技术合成羟基苯硼酸存在的这一系列缺陷,提供制备一种羟基苯硼酸的制备方法,其特征在于包含以下步骤:在-0.1MPa的真空条件和0-10℃的温度下,将烷氧基苯硼酸和酰氯化合物溶于第一有机溶剂,然后加入氯化铝,然后开始加热,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至30-100℃,然后恒温反应1-2h,得到中间体化合物,加碱调整体系pH值为9~11,将水层继续使用酸调节至pH为3~4,用第二有机溶剂萃取,收集有机层,浓缩,用第三有机溶剂重结晶,得到羟基苯硼酸。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,优选地,所述的羟基苯硼酸选自邻羟基苯硼酸、对羟基苯硼酸或间羟基苯硼酸。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的烷氧基苯硼酸中的烷氧基选自甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基或叔丁氧基,优选地,所述的烷氧基选自甲氧基或乙氧基。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的酰氯化合物选自乙酰氯、丙酰氯、丁酰氯、异丁酰氯或草酰氯,优选地,所述的酰氯化合物为乙酰氯。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的第一有机溶剂选自甲苯、二甲苯或二苯醚。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的第二有机溶剂选自乙酸乙酯、二氯甲烷或氯仿。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的第三有机溶剂选自烃类溶剂,优选庚烷或正己烷。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的碱选自碳酸钠或碳酸钾。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的酸选自盐酸或硫酸。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的对烷氧基苯硼酸、酰氯化合物和氯化铝的摩尔比为1:1~2:0.1~0.2。
本发明相对于现有技术的主要贡献有以下几点:
(1)所述体系在真空条件下反应,利用真空快速脱除反应过程中产生的氯代烷烃气体,可以最大程度减少氯代烷烃对反应的影响,有效地提高反应速度、提高产物的收率和纯度。
(2)采用梯度升温,能够提高反应的平稳性,且能使反应更充分,减少反应过程中副产物的生成,提高产物的收率和纯度,且能减轻产物的后处理压力。
(3)采用本申请的方法,反应温度较为温和,且能明显降低反应时间,且催化剂的用量减少,具有较高的收率和纯度,取得了预料不到的技术效果。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。
本发明提供制备一种羟基苯硼酸的制备方法,其特征在于包含以下步骤:在-0.1MPa的真空条件和0-10℃的温度下,将烷氧基苯硼酸和酰氯化合物溶于第一有机溶剂,然后加入氯化铝,然后开始加热,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至30-100℃,然后恒温反应1-2h,得到中间体化合物,加碱调整体系pH值为9~11,将水层继续使用酸调节至pH为3~4,用第二有机溶剂萃取,收集有机层,浓缩,用第三有机溶剂重结晶,得到羟基苯硼酸。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,优选地,所述的羟基苯硼酸选自邻羟基苯硼酸、对羟基苯硼酸或间羟基苯硼酸。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的烷氧基苯硼酸中的烷氧基选自甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基或叔丁氧基,优选地,所述的烷氧基选自甲氧基或乙氧基。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的酰氯化合物选自乙酰氯、丙酰氯、丁酰氯、异丁酰氯或草酰氯,优选地,所述的酰氯化合物为乙酰氯。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的第一有机溶剂选自甲苯、二甲苯或二苯醚。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的第二有机溶剂选自乙酸乙酯、二氯甲烷或氯仿。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的第三有机溶剂选自烃类溶剂,优选庚烷或正己烷。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的碱选自碳酸钠或碳酸钾。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的酸选自盐酸或硫酸。
根据本发明所述的一种羟基苯硼酸的制备方法,所述的对烷氧基苯硼酸、酰氯化合物和氯化铝的摩尔比为1:1~2:0.1~0.2。
实施例1
采用真空泵将反应釜抽真空至-0.1Mpa,将反应釜温度降到0℃,在反应釜中加入1.52kg(10mol)对甲氧基苯硼酸、1kg(12.7mol)乙酰氯、12L甲苯,混合搅拌至均匀,然后加入1mol氯化铝,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至50℃,然后恒温反应1h(反应过程中产生的甲基氯气体经真空脱除至回收***),得到中间体化合物,加碳酸钠溶液调整体系pH值为9,得到水层,将水层继续使用盐酸调节至pH为3,用乙酸乙酯萃取,收集有机层,浓缩,用庚烷重结晶,得到对羟基苯硼酸1.25kg,收率为90.6%,纯度98.8%。
实施例2
采用真空泵将反应釜抽真空至-0.1Mpa,将反应釜温度降到10℃,在反应釜中加入1.66kg(10mol)对乙氧基苯硼酸、1.57kg(20mol)乙酰氯、15L甲苯,混合搅拌至均匀,然后加入2mol氯化铝,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至80℃,然后恒温反应2h(反应过程中产生的一氯乙烷气体经真空脱除至回收***),得到中间体化合物,加碳酸钾溶液调整体系pH值为9,得到水层,将水层继续使用硫酸调节至pH为3,用乙酸乙酯萃取,收集有机层,浓缩,用庚烷重结晶,得到对羟基苯硼酸1.29kg,收率为93.5%,纯度99.1%。
实施例3
采用真空泵将反应釜抽真空至-0.1Mpa,将反应釜温度降到10℃,在反应釜中加入1.52kg(10mol)邻甲氧基苯硼酸、1.57kg(20mol)乙酰氯、12L甲苯,混合搅拌至均匀,然后加入2mol氯化铝,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至100℃,然后恒温反应1.5h(反应过程中产生的甲基氯气体经真空脱除至回收***),得到中间体化合物,加碳酸钠溶液调整体系pH值为10,得到水层,将水层继续使用盐酸调节至pH为4,用乙酸乙酯萃取,收集有机层,浓缩,用正己烷重结晶,得到邻羟基苯硼酸1.27kg,收率为92%,纯度99.3%。
实施例4
采用真空泵将反应釜抽真空至-0.1Mpa,将反应釜温度降到10℃,在反应釜中加入1.66kg(10mol)邻乙氧基苯硼酸、785g(10mol)乙酰氯、12L二甲苯,混合搅拌至均匀,然后加入1.5mol氯化铝,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至100℃,然后恒温反应2h(反应过程中产生的一氯乙烷气体经真空脱除至回收***),得到中间体化合物,加碳酸钠溶液调整体系pH值为10,得到水层,将水层继续使用盐酸调节至pH为4,用乙酸乙酯萃取,收集有机层,浓缩,用庚烷重结晶,得到邻羟基苯硼酸1.31kg,收率为94.9%,纯度99.2%。
对比例1
常压下,将反应釜温度降到0℃,在反应釜中加入1.52kg(10mol)对甲氧基苯硼酸、1kg(12.7mol)乙酰氯、12L甲苯,混合搅拌至均匀,然后加入1mol氯化铝,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至50℃,然后恒温反应1h(反应过程中产生的甲基氯气体经真空脱除至回收***),得到中间体化合物,加碳酸钠溶液调整体系pH值为9,得到水层,将水层继续使用盐酸调节至pH为3,用乙酸乙酯萃取,收集有机层,浓缩,用庚烷重结晶,得到对羟基苯硼酸1.01kg,收率为73.2%,纯度80.6%。
对比例2
采用真空泵将反应釜抽真空至-0.1Mpa,将反应釜温度降到10℃,在反应釜中加入1.52kg(10mol)邻甲氧基苯硼酸、1.57kg(20mol)乙酰氯、12L甲苯,混合搅拌至均匀,然后加入2mol氯化铝,加热升温至100℃,恒温反应1.5h,得到中间体化合物,加碳酸钠溶液调整体系pH值为10,得到水层,将水层继续使用盐酸调节至pH为4,用乙酸乙酯萃取,收集有机层,浓缩,用正己烷重结晶,得到邻羟基苯硼酸1.07kg,收率为77.5%,纯度81.2%。
最后应说明的是:显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。
Claims (9)
1.一种邻羟基苯硼酸的制备方法,其特征在于包含以下步骤:在-0.1MPa的真空条件和0-10℃的温度下,将邻烷氧基苯硼酸和酰氯化合物溶于第一有机溶剂,然后加入氯化铝,然后开始加热,反应过程中每间隔15分钟升温10℃,直到升温至30-100℃,然后恒温反应1-2h,得到中间体化合物,加碱调整体系pH值为9~11,将水层继续使用酸调节至pH为3~4,用第二有机溶剂萃取,收集有机层,浓缩,用第三有机溶剂重结晶,得到邻羟基苯硼酸。
2.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的邻烷氧基苯硼酸中的烷氧基选自甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基或叔丁氧基,优选甲氧基或乙氧基。
3.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的酰氯化合物选自乙酰氯、丙酰氯、丁酰氯、异丁酰氯或草酰氯。
4.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的第一有机溶剂选自甲苯、二甲苯或二苯醚。
5.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的第二有机溶剂选自乙酸乙酯、二氯甲烷或氯仿。
6.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的第三有机溶剂选自烃类溶剂,优选庚烷或正己烷。
7.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的碱选自碳酸钠或碳酸钾。
8.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的酸选自盐酸或硫酸。
9.根据权利要求1所述的一种邻羟基苯硼酸的制备方法,所述的邻烷氧基苯硼酸、酰氯化合物和氯化铝的摩尔比为1:1~2:0.1~0.2。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|
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Family
ID=73357614
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---|---|---|---|
CN202010977853.6A Pending CN111943971A (zh) | 2020-09-17 | 2020-09-17 | 一种硼酸衍生物的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111943971A (zh) |
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- 2020-09-17 CN CN202010977853.6A patent/CN111943971A/zh active Pending
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