CN1118221C - 有机电致发光玻板的清洗方法和装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种有机电致发光玻板的清洗方法，首先将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内，通入纯氧气流，使环境压力维持在8×10-3Pa～3×10-2Pa；用离子束以30°～60°轰击玻板，轰击时使束流密度控制在1uA/cm2～10mA/cm2，轰击时离子能量为0.5eV～200eV，作用时间为5秒～60秒，即完成清洗过程。本发明装置为一真空腔，被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上，真空腔下部的一侧为离子源，离子源位置使产生的离子束与玻片表面成30°～60°角，离子源与样品之间设有挡板。本方法和装置，降低了被清洗玻片的表面粗糙度和表面污染物的含量，不会对玻片产生腐蚀，且制备成本低。
Description
本发明涉及一种有机电致发光玻板的清洗方法和装置，属电子器件制备技术领域。
已有技术中，发明名称为有机EL器件的制造方法和制备装置，申请人为出光兴产株式会社，专利为JP 09232075的日本专利，公开了一种有机EL器件的制造方法和制备装置，其装置如图1所示，其工作过程是：
设置了与真空腔1不同的清洗腔2，在清洗腔中将具有指向性的紫外线或离子束照射到基板3上，清洗基板之后，打开移送通道4的闸门，把基板3移到真空腔内，在真空腔2内将基板3制成含有有机物的薄膜，即有机EL器件。
采用这种方法可以使真空腔和清洗腔内存在的不纯物不会附着在基板上，从而得到发光效率高、低电压下寿命延长的有机EL器件。
使用离子束情况下，照射量为100μA/cm2-100mA/cm2，最好控制在500μA/cm2-10mA/cm2，而且动能为1eV-10keV，最好选择100eV-数keV，这样不会损伤基板上的氧化物电极并能将有机物灰化处理。
清洗腔内的压力控制在10-1Pa以下。为了获得更好的清洗效果，采用离子束时，压力建议控制在10-3Pa以下。
最好用氧离子束，这样效果更高。特别是当使用氧化物基板材料时，由于氧化物被离子束照射后会发生还原，使得基板改性，从而可以避免基板的损坏。
可以选择氧离子束或者Ar、He等不活泼气体的离子，或者是CCl4、CHCl等活性激活体或离子束，或者将他们适当的组合使用。但是如基板使用氧化物时，应该选择不被还原的离子种类。在强照射下，氧化物大多会还原，选择氧离子束也许更好。
该专利技术的缺点如下：
(1)离子束的方向与基板垂直，难以降低基板的粗糙度；
(2)离子束能量太高，束流密度太大，会对基板造成刻蚀，影响器件的各项性能；
(3)离子束的作用时间是很关键的参数，但没有详细报道。
本发明的目的在于提出一种有机电致发光玻板的清洗方法和装置，专门用于清洗氧化铟锡导电玻璃，使用离子束从一定角度轰击基板，并适当控制离子束的密度、能量和作用时间，使氧化铟-锡导电玻璃表面的粗糙度变小，并除去表面的有机不纯物，用清洗后的玻板可以制得低电压、高亮度、长寿命的有机电致发光器件。
本发明提出的有机电致发光玻板的清洗方法，包括以下各步骤：
a)将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内，通入高纯氧气流，使环境压力维持在8×10-3Pa～3×10-2Pa；
b)用离子束以一定角度轰击玻板，轰击的角度为30°～60°，最好为45°，轰击时使束流密度控制在1uA/cm2～10mA/cm2的范围，最好为20uA/cm2～100uA/cm2，轰击时离子能量为0.5eV～200eV，作用时间为5秒～300秒，最好为10秒～60秒；
c)氧离子束清洗玻璃片结束，即完成本发明的清洗过程，清洗后的玻璃片可用于制备后续的有机薄膜，即制备有机EL器件。
本发明设计了专门的有机电致发光玻板的清洗装置，该装置为一真空腔，被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上，真空腔下部的一侧为离子源，离子源的位置使产生的离子束与玻片表面成30°～60°角，离子源与样品之间设有挡板。
本发明的清洗方法和装置，用于清洗的离子束以一定角度入射，降低了被清洗玻片的表面粗糙度，而且大大降低了玻片表面污染物的含量。所用离子束能量低，束流密度小，不会对玻片产生腐蚀，而且节约产品制备成本。用清洗后的玻片可以制得低电压、高亮度、长寿命的有机电致发光器件。
附图说明：
图1为已有技术的结构示意图。
图2为本发明设计的清洗装置的结构示意图。
图1和图2中1是真空腔，2是清洗腔，3是基板，4是通道，5是玻片，6是真空腔，7是离子源，8是用于制备后续有机薄膜的蒸发源，9是挡板，10是玻片支架。
本发明设计的清洗装置如图2所示，该装置为一真空腔46，被清洗玻片5置于真空腔内上部的支架10上，真空腔下部的一侧为离子源7，离子源的位置使产生的离子束与玻片表面成30°~60°角，离子源与样品之间设有挡板9。
下面介绍本发明的实施例。
实施例一。
a)将被清洗的玻板5置于压力为1×10-3Pa的真空腔6内，通入高纯氧气流，使环境压力维持在2×10-2Pa；
b)打开挡板9，用离子源7产生的离子束以45°角度轰击玻板，轰击时使束流密度控制在50uA/cm2，离子能量为125eV，作用时间为20秒；
c)氧离子束轰击结束以后，使用清洗后的玻璃片制备后续的有机薄膜，即制备有机EL器件。这样制得的器件，其启亮电压降低了1.1伏，10V驱动电压下的亮度提高了一个数量级，器件的稳定性提高了3倍，具体数据见表1中清洗条件1；
实施例二。
环境压力维持在8×10-3Pa，轰击角度为30°，束流密度控制在20uA/cm2，轰击时离子能量为80eV，轰击时间为5秒，这样制得的器件，其启亮电压降低了0.8伏，10V驱动电压下的亮度提高了一个数量级，器件的稳定性提高了2倍，具体数据见表1中清洗条件2；
实施例三。
环境压力维持在3×10-3Pa，轰击角度为60°，束流密度控制在100uA/cm2，轰击时离子能量为150eV，轰击时间为60秒，这样制得的器件，其启亮电压降低了1.0伏，10V驱动电压下的亮度提高了一个数量级，器件稳定性提高了2.5倍，具体数据见表1中清洗条件3；
表1
Claims (2)
1、一种有机电致发光玻板的清洗方法，其特征在于，该方法包括以下各步骤：
a)将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内，通入纯氧气流，使环境压力维持在8×10-3Pa～3×10-2Pa；
b)用离子束以一定角度轰击玻板，轰击的角度为30°～60°，轰击时使束流密度控制在1uA/cm2～10mA/cm2的范围，轰击时离子能量为0.5eV～200eV，作用时间为5秒～60秒，即完成清洗过程。
2、一种有机电致发光玻板的清洗装置，其特征在于，该装置为一真空腔，被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上，真空腔下部的一侧为离子源，离子源位置使产生的离子束与玻片表面成30°～60°角，离子源与样品之间设有挡板。
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