CN111796721B - 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法 - Google Patents

一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法 Download PDF

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Abstract

本公开提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，通过调整显示面板的层级结构，使触控电极线搭接的第二源漏极层部分表面趋于平坦，在提升触控电极线与第二源漏极层搭接面积的基础上，降低弯折时触控电极线断线的风险，进而提升触控产品的良率。

Description

一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
技术领域
本公开涉及显示领域，特别涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
背景技术
AMOLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管)是指以OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)材料为主的显示面板技术，相比与传统的TFT-LCD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display液晶面板)，AMOLED具有响应速度更快，对比度更高，视角较广，功耗低等特点。
目前，市场上了出现了越来越多的触控显示产品，其中FMLOC(Flexible MultipleLayer On Cell，柔性多层表面式触控)产品就是通过将触控功能直接集成在显示面板上，有利于整机更薄化。为了实现产品窄边框化，将显示面板的焊盘区设置在显示区背面，通过弯折的走线进行连接是当下较为流行的一种技术，而在此类产品上集成FMLOC时，触控电极线需要通过***区的源漏极层进行跳跃搭接，基于现有的显示面板结构在走线弯折时易造成触控电极线断线，严重影响触控显示产品良率。
发明内容
本公开实施例的目的在于提供一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，用以解决现有技术中屏幕弯折区域易造成第二金属层断裂，影响触控显示产品良率的问题。
本公开的实施例采用如下技术方案：一种显示面板，包括：显示区、***区和焊盘区，所述***区环绕所述显示区，所述焊盘区位于所述***区远离所述显示区的一侧；所述显示区上设有触控电极，所述触控电极与触控电极线电连接，所述触控电极线由所述显示区延伸至所述***区并通过所述***区的第二源漏极层与所述焊盘区连接；所述***区的背板上依次设置有第一源漏极层、钝化层、所述第二源漏极层以及介质层，所述触控电极线通过设置在所述介质层上的第一通孔与所述第二源漏极层搭接，其中，所述第二源漏极层远离所述钝化层的一面透过所述第一通孔的部分为平整表面。
进一步，所述钝化层上设置有第二通孔，所述第二源漏极层透过所述第二通孔与所述第一源漏极层搭接；所述介质层上所述第一通孔与所述第二通孔的位置相对应。
进一步，所述介质层延伸至所述第一通孔侧壁，并与所述第二源漏极层远离所述钝化层一侧的表面接触。
进一步，还包括：设置在所述介质层和所述背板之间的平坦层，所述平坦层上设置有与所述第二通孔的位置对应的第三通孔，其中，所述平坦层延伸至所述第三通孔侧壁，并与所述第二源漏极层远离所述钝化层一侧的表面接触；所述触控电极线透过所述第一通孔和所述第三通孔与所述第二源漏极层搭接。
进一步，还包括设置在背板与所述第一源漏极层之间的第一平整层和第二平整层，其中，所述第一平整层和所述第二平整层距离所述背板的垂直距离相同；所述第一源漏极层在所述第一平整层和所述第二平整层对应的位置形成第一凸起和第二凸起；所述钝化层上设置有第四通孔和第五通孔，使所述第一凸起贯穿所述第四通孔，所述第二凸起贯穿所述第五通孔，并且所述钝化层与所述第一源漏极层的垂直距离与所述第一平整层距离所述背板的垂直距离相同；所述第二源漏极层与所述第一凸起和所述第二凸起接触。
进一步，还包括：设置在所述介质层和所述背板之间的平坦层，所述平坦层上设置有与所述第一通孔的位置对应的第六通孔；所述第二金属层透过所述第六通孔和所述第一通孔与所述第二源漏极层搭接。
本公开实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
本公开实施例还提供了一种显示面板的制作方法，包括：在背板上制作显示区、***区和焊盘区，其中，所述***区环绕所述显示区，所述焊盘区位于所述***区远离所述显示区的一侧；所述***区的背板上依次制作第一源漏极层、钝化层、所述第二源漏极层以及介质层，并在所述介质层上刻蚀第一通孔，其中，所述第二源漏极层远离所述钝化层的一面透过所述第一通孔的部分为平整表面；在所述显示区上制作触控电极和触控电极线，其中，所述触控电极与触控电极线电连接，所述触控电极线由所述显示区延伸至所述***区并通过所述***区的第二源漏极层与所述焊盘区连接，所述触控电极线通过所述第一通孔与所述第二源漏极层搭接。
进一步，在制作所述第二源漏极层之前，还包括：在所述钝化层上刻蚀第二通孔。
进一步，在制作所述第一源漏极层之前，还包括：在所述背板上制作第一平整层和第二平整层，其中，所述第一平整层和所述第二平整层距离所述背板的垂直距离相同；在制作所述钝化层时，在所述钝化层上刻蚀第四通孔和第五通孔，使所述第一凸起贯穿所述第四通孔，所述第二凸起贯穿所述第五通孔，并且所述钝化层与所述第一源漏极层的垂直距离与所述第一平整层距离所述背板的垂直距离相同。
本公开实施例的有益效果在于：通过调整显示面板的层级结构，使触控电极线搭接的第二源漏极层部分表面趋于平坦，在提升触控电极线与第二源漏极层搭接面积的基础上，降低弯折时触控电极线断线的风险，进而提升触控产品的良率。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了现有技术中显示面板的布线示意图；
图2示出了现有技术中显示面板延AB的剖面示意图；
图3示出了图2中A端的局部放大示意图；
图4示出了本公开第一实施例中显示面板的第一种层级结构截面图；
图5示出了本公开第一实施例中显示面板的第二种层级结构截面图；
图6示出了本公开第一实施例中显示面板的第三种层级结构截面图；
图7示出了本公开第二实施例中显示面板的第四种层级结构截面图；
图8示出了本公开第二实施例中显示面板的第五种层级结构截面图；
图9示出了本公开第四实施例中显示面板的制作方法的流程图；
图10示出了本公开第四实施例中步骤S31执行后显示面板的层级结构示意图；
图11示出了本公开第四实施例中步骤S32执行后显示面板的层级结构示意图；
图12示出了本公开第四实施例中步骤S33执行后显示面板的层级结构示意图；
图13示出了本公开第四实施例中步骤S34执行后显示面板的层级结构示意图；
图14示出了本公开第四实施例中步骤S34执行之前制作平坦层后的层级结构示意图；
图15示出了本公开第五实施例中步骤S41执行后显示面板的层级结构示意图；
图16示出了本公开第五实施例中步骤S42执行后显示面板的层级结构示意图；
图17示出了本公开第五实施例中步骤S43执行后显示面板的层级结构示意图；
图18示出了本公开第五实施例中步骤S44执行后显示面板的层级结构示意图；
图19示出了本公开第五实施例中步骤S45执行后显示面板的层级结构示意图。
附图标记
1-第一触控电极 2-第二触控电极 3-触控电极线
10-背板 20-第一源漏极层 30-钝化层
31-第二通孔 32-第四通孔 33-第五通孔
40-第二源漏极层 50-介质层 51-第一通孔
60-平坦层 61-第三通孔 62-第六通孔
70-平整层 71-第一平整层 72-第二平整层
100-显示区 200-***区 300-焊盘区
具体实施方式
此处参考附图描述本公开的各种方案以及特征。
应理解的是，可以对此处申请的实施例做出各种修改。因此，上述说明书不应该视为限制，而仅是作为实施例的范例。本领域的技术人员将想到在本公开的范围和精神内的其他修改。
包含在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例，并且与上面给出的对本公开的大致描述以及下面给出的对实施例的详细描述一起用于解释本公开的原理。
通过下面参照附图对给定为非限制性实例的实施例的优选形式的描述，本公开的这些和其它特性将会变得显而易见。
还应当理解，尽管已经参照一些具体实例对本公开进行了描述，但本领域技术人员能够确定地实现本公开的很多其它等效形式，它们具有如权利要求的特征并因此都位于借此所限定的保护范围内。
当结合附图时，鉴于以下详细说明，本公开的上述和其他方面、特征和优势将变得更为显而易见。
此后参照附图描述本公开的具体实施例；然而，应当理解，所申请的实施例仅仅是本公开的实例，其可采用多种方式实施。熟知和/或重复的功能和结构并未详细描述以避免不必要或多余的细节使得本公开模糊不清。因此，本文所申请的具体的结构性和功能性细节并非意在限定，而是仅仅作为权利要求的基础和代表性基础用于教导本领域技术人员以实质上任意合适的详细结构多样地使用本公开。
本说明书可使用词组“在一种实施例中”、“在另一个实施例中”、“在又一实施例中”或“在其他实施例中”，其均可指代根据本公开的相同或不同实施例中的一个或多个。
FMLOC产品的主要实现方式为在显示区100(Active Area)的背板(BP，BackPlate)上制作触控电极，如图1所示，触控电极主要包括第一触控电极1(M1)和第二触控电极2(M2)，二者之间通过具有过孔的介质层(Via)进行搭接，触控电极线3分别与M1和M2电连接，以传递触控信号；具体地，该触控电极线3由显示区100延伸至***区200，并通过***区200的第二源漏极层(SD2)与焊盘区300的焊盘引脚进行连接。图2为图1中延AB方向(图1中虚线即为切割线)切割后的剖面示意图，其中，A端为显示区100的触控电极线3与***区200的SD2进行搭接的部分，B端为焊盘区300的触控电极线3与***区200的SD2进行搭接的部分，对通过***区200的SD2实现了触控电极线3在AB端之间的连接。图3为现有技术中A端或B端的局部放大示意图，基于图3可知，触控电极线3在与SD2搭接的过程中，由于SD2下存在钝化层(PVX)，导致SD2与Via搭接表面不平整，在进行Via层刻蚀时容易造成SD2表面损坏(如图3中虚线框所框出部分)，触控电极线3在制作后该区域需要进行弯折，此时易造成触控电极线断线，导致触控功能失灵，严重影响触控显示产品良率。
为了解决上述问题，本公开的第一实施例提供了一种显示面板，图4为该显示面板的第一种截面示意图，该显示面板主要包括显示区100、***区200和焊盘区300(图4中未示出)，***区200围绕显示区100，焊盘区300则位于***区200远离显示区100的一侧；显示区100上设置有触控电极(图4中未示出)，通过触控电极线3连接触控电极，并经由显示区100延伸至***区200，通过***区200的第二源漏极层40与焊盘区300连接。通常情况下为了实现显示屏幕的窄边框设计，还可以将焊盘区300设置在显示区100的背面，通过弯折***区200走线，来实现线路连接。
如图4所示，在***区200的背板10上依次设置有第一源漏极层20(SD1)、钝化层30、第二源漏极层40以及介质层50，其中，介质层50上开具有第一通孔51，使触控电极线3通过第一通孔51与第二源漏极层40搭接，需要注意的是，本实施例中第二源漏极层40远离钝化层30的一面(即图4中第二源漏极层40的上表面)透过第一通孔51裸露的部分为平整表面，即第二源漏极层40与触控电极线3搭接的部分为平整表面。在平整的第二源漏极层40上制作介质层50时，可以最大程度的避免出现第二源漏极层40表面被破坏的情况，进而在制作触控电极线3时，在提升触控电极线3与第二源漏极层40搭接面积的基础上，降低该区域弯折时触控电极线3断线的风险，提升触控显示产品的良率。
为了实现第二源漏极层40的上表面平整，参考图4，为了实现第一源漏极层20与其他层级之间的搭接，在制作钝化层30时可以在钝化层30上开具第二通孔31，需要注意的是，现有技术中在钝化层上开设有两个小尺寸的通孔，使钝化层30在第一源漏极层20上形成三个独立的PVX结构(参考图3中虚线框所示)，而在本实施例中，第二通孔31为一个尺寸较大的通孔，相当于在刻蚀时将图3中处于中间部分的钝化层30一同刻蚀掉，使第一源漏极层20裸露在第二通孔31处的部分为一个较为连续且平整的平面，方便在第二源漏极层40制作时使第二源漏极层也具有一个较为连续且平整的表面；在进一步制作介质层50和刻蚀第一通孔51时，第一通孔51的位置应当与第二通孔31相对应，且二者之间尺寸相近或第二通孔31尺寸稍大为宜。
本实施例的第一中实施方式通过在刻蚀钝化层30时，直接刻蚀一个较大的第二通孔31，进而调整了显示面板的层级结构，使第二源漏极层40表面趋于平坦，防止在进行刻蚀介质层50时造成对第二源漏极层40的损坏，降低了触控电极线3在弯折情况下的断线风险，进而提升触控产品的良率。
图5示出了本实施例中显示面板的第二种层级结构截面图，在图4的基础上，介质层50在进行第一通孔51的刻蚀时，可以使介质层50延伸至第一通孔51的侧壁，使其与第二源漏极层40远离钝化层30一侧的表面(即图5中第二源漏极层40的上表面)接触，起到对第二源漏极层40坡底(即第二源漏极层40表面与其因钝化层30形成的凸起之间的连接处)的进一步保护，降低了介质层50刻蚀时对第二源漏极层40坡底的影响，有效避免了触控电极线3的断线情况发生。需要注意的是，图5中所示出了介质层50延伸至第二源漏极层40坡底的部分为竖直方向，但是在实际制作时，该部分实际为一具有倾斜角度的斜坡，越靠近第二源漏极层40坡底的部分越宽，进一步提升了对第二源漏极层40坡底的保护作用。
另外，图6示出了本实施例中显示面板的第三种层级结构截面图，在图4的基础上，介质层50和背板10之间还包括平坦层60(PLN，Planarization)，主要用于保护显示面板间的所有电路，所以其实际上厚度较厚，包裹了显示面板中的第一源漏极层20、钝化层30、第二源漏极层40等多个层级结构，以减小各层级之间或显示面板中其他结构之间的电路磁场的干扰；基于此，本实施例还可以通过平坦层60来实现对第二源漏极层40的保护，具体地，在平坦层60上开具有与第二通孔31位置对应的第三通孔61，其具体尺寸略小于第二通孔31即可，同时，平坦层60在进行第三通孔61的刻蚀时可以延伸至第三通孔61的侧壁，使其与第二源漏极层40远离钝化层30一侧的表面(即图6中第二源漏极层40的上表面)接触，起到对第二源漏极层40坡底的进一步保护，降低了介质层50刻蚀时对第二源漏极层40坡底的影响，有效避免了触控电极线3的断线情况发生。在实际制作显示面板时，是首先制作平坦层60和第三通孔61，然后才制作介质层50和第一通孔51，此时由于平坦层60已经对第二源漏极层40的坡底进行了保护，因此在后续进行介质层50上第一通孔51的刻蚀时，第一通孔51可以相对刻蚀的大一些，此时，触控电极线3透过第一通孔51和第三通孔61与第二源漏极层40搭接。
应当注意的是，本实施例中各附图中的背板10实际上指的是完成了背板前段工艺的显示基板，即包括背板10及触控电极之前所需制作的其他膜层，例如，可能包括多个有机层、无机层等，还可能包括薄膜晶体管(TFT)等驱动电路结构，为了便于观察，在附图中未示出这些结构。
本公开的第二实施例提供了显示面板的第四种层级结构，其截面示意图如图7所示，与第一实施例不同的是，在第一实施例中，图4至图6的方案均为通过调整钝化层30的实际结构来实现第二源漏极层40的平整，进而降低介质层50刻蚀时所带来的第二源漏极层40的损伤，而本实施例中，则是通过增加与钝化层30厚度相同或相近的平整层70来解决钝化层30通孔刻蚀后所造成第二源漏极层40不平整的问题。
具体地，在背板10的其中一个表面上(图7中以背板的上表面为例)设置有独立的第一平整层71和第二平整层72，二者的上表面距离背板10的垂直距离相同(即第一平整层71和第二平整层72的厚度相同)，为了配合后续层级结构的制作和结构稳定，第一平整层71和第二平整层72之间存在一定的距离，该距离的实际尺寸应当根据显示面板的尺寸确定。
在设置第一平整层71和第二平整层72之后，在第一平整层71和第二平整层72上设置第一源漏极层20，由于第一平整层71和第二平整层72存在一定高度，因此第一源漏极层20在第一平整层71和第二平整层72对应的位置形成了第一凸起21和第二凸起22；随后，在设置钝化层30时，为了保证第二源漏极层40上表面的平整，钝化层30的厚度与第一凸起的高度相同或相近，实际上也即钝化层30与第一源漏极层20的垂直距离与第一平整层71距离背板10的垂直距离相同；进一步，为了实现第一源漏极层20与其他层级之间的搭接，在钝化层30上开具有第四通孔32和第五通孔33，其中，第四通孔32和第五通孔33的位置分别与第一凸起21和第二凸起22对应，使第一凸起21贯穿第四通孔32，第二凸起22贯穿第五通孔33，方便其他层级通过第一凸起21和第二凸起22与第一源漏极层20进行搭接。实际上，由于在制作钝化层30之前第一凸起21和第二凸起22已经形成，所以第四通孔32和第五通孔33的实际形成方式是在钝化层30形成后，将第一凸起21和第二凸起22的位置所对应钝化层部分进行刻蚀，直至第一凸起21和第二凸起22裸露出钝化层30表面即可。
经过对钝化层30的制作和刻蚀后，此时显示结构上形成了一个由钝化层30、第一凸起21和第二凸起22组成的完整平面，进一步地，在制作第二源漏极层40时则可以直接形成一个具有平坦表面的层级结构，并且与第一凸起21和第二凸起22直接接触，完成与第一源漏极层20之间的搭接；最后在在第二源漏极层40上设置介质层50，并在介质层50上开具有第一通孔51，第二源漏极层40远离钝化层30的一面透过第一通孔51的部分为平整表面，便于实现触控电极线3与第二源漏极层40的搭接，并同时将第触控电极线3弯折时断线的风险。
本实施例通过增加与钝化层30厚度相同或相近的平整层70来实现第二源漏极层40的平整，防止在进行刻蚀介质层50时造成对第二源漏极层40的损坏，导致触控电极线3断线，进而提升触控产品的良率。
与第一实施例对应的，在本实施例中也可以设置位于介质层50和背板10之间的平坦层60，起到层级间的保护作用，此时显示结构的截面示意图如图8所示，即在第二源漏极层40制作完毕后制作平坦层，并在平坦层上刻蚀第六通孔62，使第二源漏极层40存在裸露在外的平整表面，然后在此基础上制作介质层50和第一通孔51，使触控电极线3透过第一通孔51和第六通孔62与第二源漏极层40搭接；需要注意的是，第一通孔51与第六通孔62位置相对应，第一通孔51的尺寸可与第六通孔62的尺寸相同，或适当小于第六通孔62，使介质层50延伸至第六通孔62侧壁，起到对第二源漏极层40的进一步保护作用。
本公开的第三实施例提供了一种显示装置，包括本公开第一实施例或第二实施例中所描述的任一种显示面板。由于本实施例的技术方案包括了上述显示面板实施例的全部技术方案，因此至少能实现上述全部技术效果，此处不再赘述。
本公开的第四实施例提供了一种显示面板的制作方法，主要用于制作本公开第一实施例的显示面板结构，其流程图如图9所示，主要包括步骤S1至S3：
S1，在背板上制作显示区、***区和焊盘区；其中，***区环绕显示区，焊盘区位于***区远离显示区的一侧。
S2，在***区的背板上依次制作第一源漏极层、钝化层、第二源漏极层以及介质层，并在介质层上刻蚀第一通孔；其中，第二源漏极层远离钝化层的一面透过第一通孔的部分为平整表面；
S3，在显示区上制作触控电极和触控电极线；其中，触控电极与触控电极线电连接，触控电极线由显示区延伸至***区并通过***区的第二源漏极层与焊盘区连接，触控电极线通过第一通孔与第二源漏极层搭接。
下面将结合图10至图13对本公开第一实施例所提供的显示面板结构的制作进行详细说明。需要注意的是，本实施例中制作显示面板的所有方式(例如蒸镀、刻蚀等手段)均可以直接使用本领域内的现有技术，本实施例不进行具体制作手段的详细赘述。
S31，在背板表面上形成第一源漏极层，制作后的显示面板结构如图10所示。
S32，在第一源漏极层远离背板一侧表面上形成钝化层，并在钝化层上刻蚀第二通孔。需要注意的是，现有技术中在钝化层上开设有两个小尺寸的通孔，使钝化层在第一源漏极层上形成三个独立的PVX结构(参考图3中虚线框所示)，而本实施例中第二通孔为一个尺寸较大的通孔，相当于在刻蚀时将图3中处于中间部分的钝化层一同刻蚀掉，使第一源漏极层裸露在第二通孔处的部分为一个较为连续且平整的平面，方便在第二源漏极层制作时使第二源漏极层也具有一个较为连续且平整的表面，如图11所示，其中第二通孔即为虚线框所标记的部分。
S33，在钝化层远离第一源漏极层一侧表面上形成第二源漏极层，并使第二源漏极层透过第二通孔与第一源漏极层搭接，此时显示面板的结构图图12所示。
S34，在第二源漏极层远离钝化层一侧表面上形成介质层，并在介质层上刻蚀第一通孔。其中，第一通孔的位置与第二通孔的位置相对应，其具体开具的尺寸略小于第二通孔即可，尽可能地保证第二源漏极层裸露较为平整的表面进行搭接，同时降低了图3中不平整的第二源漏极层在介质层刻蚀时存在的坡底被一同损坏的风险，保证搭接效果，如图13所示，其中第一通孔即为虚线框所标记的部分。
S35，在介质层远离第二源漏极层一侧表面上形成触控电极线，最终制作完成后的显示面板结构如图4所示。
本实施例的第一中实施方式通过在刻蚀钝化层时，直接刻蚀一个较大的第二通孔，进而调整了显示面板的层级结构，使第二源漏极层表面趋于平坦，防止在进行刻蚀介质层时造成对第二源漏极层的损坏，降低了触控电极线在弯折情况下的断线风险，进而提升触控产品的良率。
另外，在执行步骤S34时，可以控制介质层的刻蚀程度，使介质层延伸至第一通孔侧壁，并与第二源漏极层的上表面接触，进一步减少介质层刻蚀时对第二源漏极层的影响，有效避免了触控电极线断线。另外，在执行步骤S34之前，还可以在第二源漏极层远离钝化层一侧表面上形成平坦层，并在平坦层上刻蚀与第二通孔的位置对应的第三通孔，同时，平坦层在进行第三通孔的刻蚀时可以延伸至第三通孔的侧壁，并与第二源漏极层的表面接触，进一步减少介质层刻蚀时对第二源漏极层坡底的影响，有效避免了触控电极线断线，如图14所示，其中，第三通孔即为虚线框所表示的部分；随后，可基于步骤S34和S35进行后续的制作，最终制成的显示面板结构如图6所示，此处不再详细赘述。
本公开的第五实施例提供了一种显示面板的制作方法，主要用于制作本公开第二实施例的显示面板结构，下面将结合图14至图19对本公开第二实施例所提供的显示面板结构的制作进行详细说明。需要注意的是，本实施例中制作显示面板的所有方式(例如蒸镀、刻蚀等手段)均可以直接使用本领域内的现有技术，本实施例不进行具体制作手段的详细赘述。
S41，在背板表面上形成第一平整层和第二平整层。其中，第一平整层和第二平整层距离背板的垂直距离相同，如图15所示。
S42，在第一平整层和第二平整层上形成第一源漏极层，使第一源漏极层在第一平整层和第二平整层对应的位置形成第一凸起和第二凸起，此时显示面板的结构图图16所示。
S43，在第一源漏极层远离背板一侧表面上形成钝化层，钝化层的厚度与第一凸起相同，并在钝化层上刻蚀第四通孔和第五通孔，使第一凸起贯穿第四通孔，第二凸起贯穿第五通孔；实际上，由于在制作钝化层之前第一凸起和第二凸起已经形成，所以第四通孔和第五通孔的实际形成方式是在钝化层形成后，将第一凸起和第二凸起的位置所对应钝化层进行刻蚀，直至第一凸起和第二凸起裸露出钝化层表面即可，如图17所示。
S44，在钝化层远离第一源漏极层一侧表面上形成第二源漏极层，第二源漏极层与第一凸起和第二凸起接触，此时显示面板的结构如图18所示。
S45，在第二源漏极层远离钝化层一侧表面上形成介质层，并在介质层上刻蚀第一通孔；需要注意的是，第一通孔的尺寸可以在满足搭接的条件下尽可能地刻蚀大一些，以提升触控电极线与第二源漏极层之间的搭接面积，有效避免触控电极线断线，如图19所示。
S46，在介质层远离第二源漏极层一侧表面上形成触控电极线，使触控电极线透过第一通孔与第二源漏极层搭接，最终制作完成后的显示面板结构如图7所示。
本实施例通过增加与钝化层厚度相同或相近的平整层来实现第二源漏极层的平整，使第二源漏极层表面趋于平坦，防止在进行刻蚀介质层时造成对第二源漏极层的损坏，降低了触控电极线在弯折情况下的断线风险，进而提升触控产品的良率。
与第三实施例对应的，在本实施例中也可以设置位于介质层和背板之间的平坦层，起到层级间的保护作用，其具体制作的流程与第三实施例类似，最终制成的结构如图8所示，本实施例在此不再进行赘述。
以上对本公开多个实施例进行了详细说明，但本公开不限于这些具体的实施例，本领域技术人员在本公开构思的基础上，能够做出多种变型和修改实施例，这些变型和修改都应落入本公开所要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
显示区、***区和焊盘区，所述***区环绕所述显示区，所述焊盘区位于所述***区远离所述显示区的一侧；
所述显示区上设有触控电极，所述触控电极与触控电极线电连接，所述触控电极线由所述显示区延伸至所述***区并通过所述***区的第二源漏极层与所述焊盘区连接；
所述***区的背板上依次设置有第一源漏极层、钝化层、所述第二源漏极层以及介质层，所述触控电极线通过设置在所述介质层上的第一通孔与所述第二源漏极层搭接，其中，所述第二源漏极层远离所述钝化层的一面透过所述第一通孔的部分为平整表面。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述钝化层上设置有第二通孔，所述第二源漏极层透过所述第二通孔与所述第一源漏极层搭接；所述介质层上所述第一通孔与所述第二通孔的位置相对应。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述介质层延伸至所述第一通孔侧壁，并与所述第二源漏极层远离所述钝化层一侧的表面接触。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，还包括：
设置在所述介质层和所述背板之间的平坦层，所述平坦层上设置有与所述第二通孔的位置对应的第三通孔，其中，所述平坦层延伸至所述第三通孔侧壁，并与所述第二源漏极层远离所述钝化层一侧的表面接触；
所述触控电极线透过所述第一通孔和所述第三通孔与所述第二源漏极层搭接。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括设置在背板与所述第一源漏极层之间的第一平整层和第二平整层，其中，所述第一平整层和所述第二平整层距离所述背板的垂直距离相同；
所述第一源漏极层在所述第一平整层和所述第二平整层对应的位置形成第一凸起和第二凸起；
所述钝化层上设置有第四通孔和第五通孔，使所述第一凸起贯穿所述第四通孔，所述第二凸起贯穿所述第五通孔，并且所述钝化层与所述第一源漏极层的垂直距离与所述第一平整层距离所述背板的垂直距离相同；
所述第二源漏极层与所述第一凸起和所述第二凸起接触。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，还包括：
设置在所述介质层和所述背板之间的平坦层，所述平坦层上设置有与所述第一通孔的位置对应的第六通孔；
所述触控电极线透过所述第六通孔和所述第一通孔与所述第二源漏极层搭接。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至6中任一项所述的显示面板。
8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在背板上制作显示区、***区和焊盘区，其中，所述***区环绕所述显示区，所述焊盘区位于所述***区远离所述显示区的一侧；
所述***区的背板上依次制作第一源漏极层、钝化层、第二源漏极层以及介质层，并在所述介质层上刻蚀第一通孔，其中，所述第二源漏极层远离所述钝化层的一面透过所述第一通孔的部分为平整表面；
在所述显示区上制作触控电极和触控电极线，其中，所述触控电极与触控电极线电连接，所述触控电极线由所述显示区延伸至所述***区并通过所述***区的第二源漏极层与所述焊盘区连接，所述触控电极线通过所述第一通孔与所述第二源漏极层搭接。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在制作所述第二源漏极层之前，还包括：在所述钝化层上刻蚀第二通孔。
10.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在制作所述第一源漏极层之前，还包括：
在所述背板上制作第一平整层和第二平整层，以使形成于所述第一平整层和所述第二平整层上的第一源漏极层，在所述第一平整层和所述第二平整层对应的位置形成第一凸起和第二凸起；其中，所述第一平整层和所述第二平整层距离所述背板的垂直距离相同；
在制作所述钝化层时，在所述钝化层上刻蚀第四通孔和第五通孔，使所述第一凸起贯穿所述第四通孔，所述第二凸起贯穿所述第五通孔，并且所述钝化层与所述第一源漏极层的垂直距离与所述第一平整层距离所述背板的垂直距离相同。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113053990B (zh) * 2021-04-06 2023-04-07 京东方科技集团股份有限公司 显示面板和显示装置
CN113206139B (zh) * 2021-04-30 2024-06-21 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104516133A (zh) * 2015-01-27 2015-04-15 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板及该阵列基板的断线修补方法
KR20180056602A (ko) * 2018-05-15 2018-05-29 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
CN109358772A (zh) * 2018-12-12 2019-02-19 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触摸屏及显示装置
CN110718559A (zh) * 2019-09-19 2020-01-21 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板、制备方法及显示面板

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104698709A (zh) * 2015-04-01 2015-06-10 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板和液晶显示面板
CN110600425B (zh) * 2019-08-20 2023-07-04 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板的制备方法及阵列基板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104516133A (zh) * 2015-01-27 2015-04-15 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板及该阵列基板的断线修补方法
KR20180056602A (ko) * 2018-05-15 2018-05-29 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
CN109358772A (zh) * 2018-12-12 2019-02-19 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触摸屏及显示装置
CN110718559A (zh) * 2019-09-19 2020-01-21 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板、制备方法及显示面板

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