CN111490072B - 显示器件及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示器件及其制作方法，该显示器件包括：基板；设于所述基板上的像素定义层，所述像素定义层上开设有多个像素坑，且至少有相邻两个所述像素坑之间设有第一分流凹槽；设于所述像素坑内的第一功能层和所述第一分流凹槽内的桥连结构，所述桥连结构与相邻两个所述像素坑内的所述第一功能层连接；设于所述桥连结构上的修复凸起；设于所述像素坑内的第二功能层，所述第二功能层至少包括一层发光层。该显示器件的中像素发生混色概率低，产品良率高。

Description

显示器件及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示器件及其制作方法。

背景技术

有机发光二极管(OLED)和QLED因其色域广、对比度高、响应迅速、视角大、功耗低等优点，近年来，作为下一代显示技术而倍受关注。有机发光二极管的结构包括：阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极。其中的空穴注入层、空穴传输层、发光层除了可以使用传统的蒸镀方法来制备外，还可以使用喷墨打印的方法来制备。

喷墨打印是将有机材料溶解到有机溶剂中制成墨水，再用喷墨印刷的方式准确沉积到每一个由像素定义层围成的像素坑中。沉积后，经过减压干燥，使有机溶剂完全挥发，只留下有机材料形成的薄膜，然后再对薄膜进行烘烤，便完成一层功能层的制备。然后，在这一层的基础上，再次进行喷墨印刷、减压干燥和烘烤，制备下一个功能层，直到空穴注入层、空穴传输层和发光层全部制备完成。

随着对显示器件分辨率要求的提高，像素的密度越来越高，像素坑的设计越来越小。通过喷墨印刷制备高分辨率的显示面板时，由于像素密度较高，墨水滴落时的偶然偏移或个别墨滴的体积过大，常常因墨水溢出像素坑导致相邻像素坑内的墨水搭接在一起，形成桥连，发生桥连缺陷后，即使经过减压干燥和烘烤，发生桥连的两个像素坑内的薄膜(空穴注入层或空穴传输层)是连续的，如图1所示的桥连结构01。因此在进行下一层发光层的喷墨印刷时，即使此时墨滴的体积和位置精度都没有异常，该层墨水依旧会在桥连结构01上形成桥连02，干燥后形成连续薄膜，进而造成发光层像素混色。

发明内容

基于此，有必要提供一种像素混色概率低的显示器件。

一种显示器件，包括：

基板；

设于所述基板上的像素定义层，所述像素定义层上开设有多个像素坑，且至少有相邻两个所述像素坑之间设有分流凹槽；

设于所述像素坑内的第一功能层和所述分流凹槽内的桥连结构，所述桥连结构与相邻两个所述像素坑内的所述第一功能层连接；

设于所述桥连结构上的修复凸起；

设于所述像素坑内的第二功能层，所述第二功能层至少包括一层发光层。

本发明的显示器件，通过在相邻的像素坑之间设置第一分流凹槽，用于容纳从像素坑中溢出的功能层墨水，并通过在该溢出的功能层墨水形成的桥连结构上设置修复凸起，在像素坑内打印包含发光层在内的第二功能层墨水时，该修复凸起能够阻止在此桥连结构上继续形成桥连缺陷，起到修复桥连缺陷的作用，能够有效减少发光层中不同颜色像素之间发生混色的概率，提高显示器件的产品良率。

在其中一个实施例中，多个所述像素坑呈阵列分布，每一行像素坑中相邻的两像素坑之间设有所述第一分流凹槽；且所述第一分流凹槽的延伸方向与所述阵列分布的列方向相同，且所述像素坑在列方向的尺寸大于所述像素坑在行方向上的尺寸。

在其中一个实施例中，所述第一分流凹槽的开口与所述像素坑在列方向上的尺寸相同。

在其中一个实施例中，所述第一分流凹槽的开口宽度大于等于5μm，且所述第一分流凹槽的开口宽度为与所述分流凹槽相邻的两个所述像素坑之间间距的40％～60％；和/或，所述第一分流凹槽的深度大于等于200nm，且所述第一分流凹槽的深度为所述像素定义层的高度的20％～35％。

在其中一个实施例中，每一列像素坑中相邻的两像素坑之间设有第二分流凹槽；且所述第二分流凹槽的延伸方向与所述阵列分布的行方向相同。

在其中一个实施例中，所述像素定义层远离所述基板的表层为疏水表层，所述修复凸起为疏水凸起。

在其中一个实施例中，所述修复凸起凸出于所述像素定义层的上表面。

本发明另一目的在于提供一种显示器件的制作方法，包括以下步骤：

S1、提供一基板，在所述基板上形成像素定义层，所述像素定义层上开设有多个像素坑，且至少有相邻两个所述像素坑之间设有第一分流凹槽；

S2、在所述像素定义层的像素坑内打印第一功能层墨水，干燥后形成第一功能层；

S3、若所述第一分流凹槽中形成有与相邻两个所述像素坑内的第一功能层连接的桥连结构，则在形成的所述桥连结构上沉积修复材料墨水、干燥后，形成修复凸起；

S4、于所述像素定义层上的像素坑内形成包含发光层在内的第二功能层，得到所述显示器件。在其中一个实施例中，所述修复材料墨水的收缩率小于等于10％。

在其中一个实施例中，所述像素定义层远离所述基板的表层为疏水性表层，所述修复墨水选自4-甲基苯乙烯单体、乙烯基吡咯烷酮单体和甲基丙烯酸甲酯单体中的至少一种。

本发明的上述显示器件的制作方法，通过在相邻的像素坑之间设置分流凹槽，打印功能层墨水时，可容纳从像素坑中溢出的功能层墨水，干燥后形成桥连结构，然后在位于分流凹槽内的桥连结构上沉积修复材料墨水，干燥后形成修复凸起，因此，在像素坑内打印包含发光层在内的第二功能层墨水时，该修复凸起能够阻止在此桥连结构上继续形成桥连缺陷，起到修复桥连缺陷的作用，能够有效减少发光层中不同颜色像素之间发生混色的概率，提高喷墨印刷的工艺稳定性和显示器件的产品良率；并且，此方法不用额外增加设备，材料成本相对较低。

附图说明

图1为传统方法印刷显示器件时形成桥连缺陷的结构示意图；

图2为本发明一显示器件的制作方法的步骤S1的示意图；

图3为本发明一显示器件的像素定义层的结构俯视图；

图4为本发明另一显示器件的像素定义层的结构俯视图；

图5为本发明一显示器件的制作方法的步骤S2的示意图；

图6为本发明一显示器件的制作方法的步骤S3的示意图；

图7本发明一显示器件的制作方法的步骤S4的示意图；

图8为本发明一实施例显示器件的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将对本发明进行更全面的描述，并给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

喷墨印刷显示器件时，当空穴注入层和/或空穴传输层发生桥连缺陷，形成连续薄膜时，形成于其上面的发光层也会在该处出现桥连缺陷，进而在该处形成桥连结构。究其原因，是桥连结构改变了像素定义层的亲疏水性质，降低了像素坑的墨水容纳能力和对墨水流动的限制力。一般情况下，功能层墨水和其下层薄膜之间是润湿的，从而墨水能够更好地在像素坑内铺展，可以完全覆盖像素坑，并形成厚度均匀的薄膜；而墨水与像素定义层远离基板的上表面之间是不润湿的，可以形成较大的接触角，从而可容纳更多墨水和限制像素坑内墨水的流动。但是，如图1所示，当像素定义层的上表面被墨水干燥后的薄膜覆盖，形成桥连结构01，则该桥连结构01与下一功能层墨水之间的接触角显著减少，导致像素坑对墨水的容纳能力下降，对墨水流动的限制也减弱，继而会导致打印下一功能层墨水时继续溢出，再次形成桥连02的缺陷。桥连缺陷不仅会影响成膜的膜厚均匀性、形貌，降低器件的发光效率，导致色坐标偏移和显色不良，发光层的桥连缺陷还会直接导致像素混色的发生，严重影响喷墨印刷显示器件的工艺稳定和产品良率。

发光层的桥连缺陷一般是由空穴注入层和空穴传输层的桥连缺陷导致的，因此，若能在空穴注入层和空穴传输层发生桥连缺陷时及时进行修复，可以显著减少最后发光层发生桥连缺陷的数量。

本发明一实施方式提供一种印刷显示器件的制作方法，包括以下步骤S1～S4。

S1、请参见图2，提供一基板10，在基板10上形成像素定义层20。

如图2～3所示，像素定义层20上开设有多个像素坑22，且至少有相邻两个像素坑之间设有第一分流凹槽23。

其中，基板10上设有TFT驱动阵列和第一电极，形成像素定义层20时需在像素坑22内暴露出第一电极。

具体地，像素定义层20可以采用纳米压印技术或蚀刻工艺等同时形成像素坑22和第一分流凹槽23；也可以先沉积形成像素定义层20，然后刻蚀像素定义层20，形成像素坑22和第一分流凹槽23。

在一实施例中，请继续参见图3，像素坑呈阵列分布，每一行像素坑中相邻的两像素坑22之间均设有第一分流凹槽23；且该第一分流凹槽23的延伸方向与像素坑阵列分布的列方向相同，且像素坑在列方向的尺寸大于像素坑在行方向上的尺寸。

如此，在列方向上相邻的两像素坑22之间均设有第一分流凹槽23，打印功能层墨水时，可充分容纳从像素坑22中溢出的墨水。具体地，第一分流凹槽23的开口长度与像素坑22在列方向上的尺寸相同，即第一分流凹槽23的开口长度与像素坑22较长的边的长度相同。第一分流凹槽23的开口宽度大于等于5μm，且第一分流凹槽23的开口宽度为与第一分流凹槽23相邻的两个像素坑之间间距的40％～60％。

第一分流凹槽23的深度大于等于200nm，且第一分流凹槽23的深度为像素定义层20的高度的20％～35％。

如此，通过对第一分流凹槽23的尺寸设计，使第一分流凹槽23并未贯穿像素定义层20，从而流入第一分流凹槽23的功能层墨水不会与下层基板10、基板10上的TFT驱动阵列或第一电极相接触，且可以充分容纳打印时溢出的功能层墨水，同时能够便于后续在该第一分流凹槽23内形成修复凸起。

可以理解，第一分流凹槽23的横截面可以呈矩形、倒梯形、U字形等形状。

在本具体实施例中，第一分流凹槽23的横截面呈矩形。

在一实施例中，如图4所示，每一列像素坑中相邻的两像素坑之间设有第二分流凹槽24，且第二分流凹槽24的延伸方向与阵列分布的行方向相同。

可以理解地，虽然行方向排列相邻的像素坑之间的距离较远，打印功能层时，一般不发生桥连缺陷，而且，行方向排列的像素坑(即短边相邻的像素坑)内打印的一般为同色像素，即便发生桥连缺陷，也不会发生混色，但是该处的桥连对后续的成膜形貌会有一定影响，导致器件显色不良，因此，在相邻的像素坑之间，通过在沿列和行方向分别设置第一分流凹槽和第二分流凹槽，用于容纳打印时溢出的墨水，进而对形成的桥连缺陷进行修复，可以同时起到降低像素混色的发生和显色不良的作用，提高显示器件的产品良率。具体地，延伸方向与阵列分布行方向相同的第二分流凹槽24的开口长度与像素坑的在行方向上的尺寸相同，即第二分流凹槽24的开口长度与像素坑较短边的长度相同。第二分流凹槽24的开口宽度为与第二分流凹槽24相邻的两个像素坑之间间距的20％～40％。第二分流凹槽24的深度大于等于200nm，且第二分流凹槽24的深度为像素定义层20的高度的20％～35％。

在一实施例，相邻的像素坑之间均设有沿阵列的列方向延伸的第一分流凹槽和沿阵列的行方向延伸的第二分流凹槽。

进一步地，第一分流凹槽和第二分流凹槽连接为一个整体，即环绕像素坑形成一环状分流凹槽。

S2、请参见图5，在像素定义层20的像素坑22内打印第一功能层墨水，干燥后形成第一功能层30。

S3、请参见图5和图6，若所述第一分流凹槽中形成有与相邻两个像素坑内的第一功能层30连接的桥连结构301，则在形成的桥连结构301上沉积修复材料墨水、干燥后，形成修复凸起302。

具体的，若在打印第一功能层墨水时，从像素坑中溢出的墨水流入第一分流凹槽中，干燥后，形成了桥连结构301，该桥连结构301与第一功能层30构成了连续的薄膜。则使用喷墨打印设备在桥连结构301处的第一分流凹槽内打印修复材料墨水，使修复材料墨水填满第一分流凹槽并形成拱起的液面，然后将基板加热到130℃～170℃，使修复材料墨水干燥固化形成修复凸起302。

可以理解，打印时，由于墨滴落点的偶然偏移或个别墨滴的体积过大，墨水从像素坑中溢出，流入至分流凹槽中，干燥后在该处形成桥连结构。

需要说明的是，显示器件的功能层包括空穴注入层、空穴传输层或发光层等多个功能层，第一功能层30为除发光层之外的功能层，如空穴注入层或空穴传输层。相应的第一功能层墨水为溶有空穴注入层材料的墨水或溶有空穴传输层材料的墨水等。

在一实施例中，修复凸起302凸出于像素定义层20的上表面。

具体地，修复凸起302凸出于像素定义层20的上表面0.3μm～1μm。

在另一实施例中，像素定义层上还设有沿阵列行方向延伸的第二分流凹槽，打印时，从像素坑中溢出的功能层墨水可流入沿阵列行方向延伸的第二分流凹槽或/和沿列方向延伸的第一分流凹槽中。

在一实施例中，像素定义层远离基板的表层为疏水性材料，修复凸起为疏水性材料。

进一步地，修复凸起的材料选自4-甲基苯乙烯单体、乙烯基吡咯烷酮单体和甲基丙烯酸甲酯单体等疏水材料中的至少一种。

在一实施例中，修复材料墨水的收缩率小于等于10％。

进一步地，修复材料墨水选自4-甲基苯乙烯单体、乙烯基吡咯烷酮单体和甲基丙烯酸甲酯单体等疏水材料中的至少一种。

如此，通过加热使修复材料墨水发生聚合反应而固化，而且由于上述修复材料墨水的收缩率小(收缩率为10％以下)，经干燥固化后依旧能够保持拱起的形状，能够保证形成的修复凸起能够凸出于像素定义层的上表面0.3μm～1μm，而且修复凸起为疏水性的。

在一实施例中，为了调节修复材料墨水的黏度，可以添加少量溶剂，如甲苯、苯甲醚或二甲苯等。

S4、请参见图7，于像素定义层20上的像素坑22内形成包含发光层在内的第二功能层，得到显示器件。

可以理解，进行第二功能层的打印时，由于修复凸起302与像素定义层20具有相同的亲疏水性，且修复凸起20与墨水之间的润湿性远低于墨水与第一功能层之间的润湿性，可以提高像素坑22对墨水活动的限制，因此，该修复凸起302可以阻止包含发光层在内的第二功能层墨水沿桥连薄膜继续形成桥连缺陷。

需要说明的是，显示器件的功能层可包括空穴注入层、空穴传输层和发光层等多个功能层，在形成发光层之前的其他功能层如空穴注入层和空穴传输层时，可以重复上述步骤S2～S3，以最大限度的修复桥连缺陷，减少发光层像素混色，以及器件显色不良的情况发生。

在一实施例中，上述显示器件的制作方法，在步骤S2和步骤S3之间，还包括识别并记录桥连结构301的步骤。

具体地，可使用光学检查装置对基板进行检查，识别并记录所有桥连结构的位置。

上述方法在打印包含发光层在内的第二功能层之前，通过在桥连结构处的分流凹槽内沉积修复材料墨水，并形成修复凸起，避免在打印第二功能层墨水时在该桥连结构处继续形成桥连缺陷，能够明显减少发光层的桥连缺陷，降低发光层因桥连缺陷而发生混色的概率，提高喷墨印刷显示器件的工艺稳定性和产品良率，还可以提高成膜的均匀性，提高显色效果。

本发明另一实施方式提供一种采用上述方法制作得到的显示器件。

请参见图8，为本发明一实施例的显示器件的结构示意图，显示器件100包括：基板10、依次设于基板10上的像素定义层20、第一功能30和包含发光层在内的第二功能层40。

其中，像素定义层20上开设有多个像素坑，且至少有相邻两个像素坑之间设有分流凹槽23，第一功能层30和第二功能层40均设于像素坑内，桥连结构301与相邻两个像素坑内的第一功能层30连接成连续薄膜，且部分位于分流凹槽23内。修复凸起302设于位于分流凹槽23内的桥连结构301上，且凸出于像素定义层20的上表面。

具体的，多个像素坑呈阵列分布，每一行像素坑中相邻的两像素坑之间均设有第一分流凹槽23；且第一分流凹槽23的延伸方向与阵列分布的列方向相同，且像素坑在列方向的尺寸大于像素坑在行方向上的尺寸。

进一步地，第一功能层30为空穴注入层和/或空穴传输层，第二功能层40包括发光层。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示器件，其特征在于，包括：

基板；

设于所述基板上的像素定义层，所述像素定义层上开设有多个像素坑，且至少有相邻两个所述像素坑之间设有第一分流凹槽；

设于所述像素坑内的第一功能层和所述第一分流凹槽内的桥连结构，所述桥连结构与相邻两个所述像素坑内的所述第一功能层连接；

设于所述桥连结构上的修复凸起；

设于所述像素坑内的第二功能层，所述第二功能层至少包括一层发光层。

2.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，多个所述像素坑呈阵列分布，每一行像素坑中相邻的两像素坑之间设有所述第一分流凹槽；且所述第一分流凹槽的延伸方向与所述阵列分布的列方向相同，且所述像素坑在列方向的尺寸大于所述像素坑在行方向上的尺寸。

3.根据权利要求2所述的显示器件，其特征在于，所述第一分流凹槽的开口与所述像素坑在列方向上的尺寸相同。

4.根据权利要求2所述的显示器件，其特征在于，所述第一分流凹槽的开口宽度大于等于5μm，且所述第一分流凹槽的开口宽度为与所述第一分流凹槽相邻的两个所述像素坑之间间距的40％～60％；和/或，

所述第一分流凹槽的深度大于等于200nm，且所述第一分流凹槽的深度为所述像素定义层的高度的20％～35％。

5.根据权利要求2所述的显示器件，其特征在于，每一列像素坑中相邻的两像素坑之间设有第二分流凹槽；且所述第二分流凹槽的延伸方向与所述阵列分布的行方向相同。

6.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，所述像素定义层远离所述基板的表层为疏水表层，所述修复凸起为疏水凸起。

7.根据权利要求1～6任一项所述的显示器件，其特征在于，所述修复凸起凸出于所述像素定义层的上表面。

8.一种显示器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、提供一基板，在所述基板上形成像素定义层，所述像素定义层上开设有多个像素坑，且至少有相邻两个所述像素坑之间设有第一分流凹槽；

S2、在所述像素定义层的像素坑内打印第一功能层墨水，干燥后形成第一功能层；

S3、若所述第一分流凹槽中形成有与相邻两个所述像素坑内的第一功能层连接的桥连结构，则在形成的所述桥连结构上沉积修复材料墨水、干燥后，形成修复凸起；

S4、于所述像素定义层上的像素坑内形成包含发光层在内的第二功能层，得到所述显示器件。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述修复材料墨水的收缩率小于等于10％。

10.根据权利要求8或9所述的显示器件，其特征在于，所述像素定义层远离所述基板的表层为疏水性表层，所述修复墨水选自4-甲基苯乙烯单体、乙烯基吡咯烷酮单体和甲基丙烯酸甲酯单体中的至少一种。

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