CN111430407A - 显示面板、显示面板制备方法及显示设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板、显示面板制备方法及显示设备，其中，该显示面板包括：TFT背板和设置在所述TFT背板上的多个发光区域，所述显示面板还包括：传感区域，设置于TFT背板上且位于所述多个发光区域之间，用于在物体靠近所述显示面板时感应由所述物体反射的所述发光区域发出的光。上述显示面板中的传感区域设置于TFT背板上且位于多个发光区域之间，发光区域发出的光经过物体反射后可直接进入传感区域，无需透过TFT背板，以减少光透过TFT背板导致的光的透过率降低，降低光损耗，提高了传感区域的灵敏度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板、显示面板制备方法及显示设备。
背景技术
随着显示终端的快速发展，指纹识别传感器越来越多的应用到显示终端上。指纹是手指表面皮肤凹凸不平形成的纹路，具有唯一性、稳定性的特点，据此通过指纹可以实现身份识别，指纹识别传感器能够准确的识别用户的指纹，对用户进行身份验证，因此，越来越多的显示终端上都设置了指纹识别传感器。例如，指纹识别传感器广泛应用于手机等移动终端的屏幕解锁，用户将手指覆盖于指纹识别传感器上，如果通过认证则授权该用户使用手机的各项功能，如果不是授权用户，手机继续保持锁定状态。又例如，指纹识别传感器设置于打卡机上，用于记录用户出勤时间。然而，指纹识别传感器存在检测灵敏度低的问题。
发明内容
基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种显示面板、显示面板制备方法及显示设备。
根据第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：TFT背板和设置在所述TFT背板上的多个发光区域，所述显示面板还包括：传感区域，设置于所述TFT背板上且位于所述多个发光区域之间，用于在物体靠近所述显示面板时感应由所述物体反射的所述发光区域发出的光。
在其中一个实施例中，所述传感区域包括：层叠于所述TFT背板上的下电极、传感材料层以及透明上电极。下电极与TFT背板中的TFT电连接，该TFT将传感区域检测到的光信号转换为电信号用于后续处理。透明上电极33的光的透过率较高，能够有效保证反射光尽可能多的透过上电极到达传感区域，以增加传感区域接收的反射光量。
在其中一个实施例中，所述传感材料层作为像素限定层；无需制备像素限定层，节省工艺流程、降低生产成本。
在其中一个实施例中，所述传感材料层的材料为有机光电材料。有机光电材料的光程范围大、亮度大、效率高、驱动电压低、耗能少、制作工艺简单以及成本低。
在其中一个实施例中，所述有机光电材料包括乙氧基化聚乙烯亚胺(PEIE)、PC60BM、PCBTBT、聚(3，4－乙烯二氧噻吩)－聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)中的至少之一。上述这些材料较常见、制备工艺成熟、成本低。
在其中一个实施例中，所述透明上电极的材料包括氧化铟锡或氧化铟锌。上述材料光的透过率较高，能够减少光透过上电极造成的光损失。
在其中一个实施例中，所述透明上电极与所述发光区域的第一电极电连接；所述下电极与所述发光区域的第二电极位于同一层。透明上电极与第一电极电连接，实现了电位的共用，减少了显示面板的走线。下电极与发光区域的第二电极位于同一层，降低了显示面板的整体厚度，使得显示面板更加轻薄，应用场合更加广阔。
在其中一个实施例中，还包括：吸光结构，设置于所述传感区域和所述发光区域之间，用于吸收所述发光区域发射出的水平方向的光。设置于传感区域和发光区域之间的吸光结构能够有效吸收水平方向的光，阻挡这部分光进入传感区域，防止造成噪声，干扰传感区域的检测准确度，从而提高了传感区域的检测精度。
在其中一个实施例中，所述吸光结构紧邻所述发光区域设置，以最大程度的阻挡发光区域发射出的水平方向的光对传感区域造成干扰。
在其中一个实施例中，还包括：防串扰结构，设置于所述传感区域远离所述TFT背板的一侧，具有遮光块，相邻遮光块之间的空白区域的中心与下电极的中心重叠，形成防串扰光路。防串扰结构中的遮光块设置于相邻的传感区域和发光区域的间隔区域的上方空间之中，以使发光区域发出的光经反射后到达传感区域，形成防串扰光路，避免反射光进入传感区域造成串扰，进而影响传感区域的检测精度和灵敏度。
在其中一个实施例中，所述防串扰结构包括间隔层叠的无机层和有机层，所述遮光块设置在所述无机层和所述有机层之间。
根据第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板制备方法，包括：制作TFT背板；在所述TFT背板上形成传感区域所在的预设功能层，所述预设功能层包括间隔设置的传感区域和发光区域；制作封装层。在TFT背板上形成间隔设置的传感区域和发光区域，传感区域位于TFT背板上，发光结构发出并经物体反射的光可直接传输至传感区域，无需透过TFT基板，故反射的光不会被TFT背板中的金属走线和各个膜层吸收，不会造成光损失，使得进入传感区域的光增加，提高了光的透过率，进而提高了传感区域的灵敏度。
在其中一个实施例中，所述在所述TFT背板上形成传感区域所在的预设功能层包括：在TFT背板上形成发光区域的第二电极材料；图形化所述第二电极材料，形成所述发光区域的第二电极和所述传感区域的下电极，所述传感区域的尺寸与所述下电极尺寸相同；在所述图形化后的第二电极材料上形成传感材料层；在所述传感材料层远离所述TFT背板的一侧上形成透明导电层；图形化所述透明导电层，形成传感区域的上电极。对发光区域的第二电极材料图案化，同时形成发光区域的第二电极和传感区域的下电极，使得第二电极和下电极在同一工艺步骤中同时形成，减少工艺制备流程、节省材料、降低生产成本，并且，两者同层设置还可减小显示面板的整体封装尺寸。
在其中一个实施例中，所述方法还包括：在所述传感区域和所述发光区域之间形成吸光结构。设置于传感区域和发光区域之间的吸光结构能够有效吸收水平方向的光，阻挡这部分光进入传感区域，防止造成噪声，干扰传感区域的检测准确度，从而提高了传感区域的检测精度。
在其中一个实施例中，所述方法还包括：在所述传感区域远离所述TFT背板的一侧形成防串扰结构。防串扰结构能够有效避免反射光进入传感区域造成串扰，提高了传感区域的检测精度和灵敏度。
在其中一个实施例中，在所述传感区域远离所述TFT背板的一侧形成防串扰结构包括：在封装层远离所述TFT背板的一侧和/或所述封装层间隔层叠的制备至少一层无机层和至少一层有机层，在所述无机层和有机层之间制备遮光层，并图形化形成遮光块，相邻所述遮光块之间的空白区域的中心与所述下电极的中心重叠。
根据第三方面，本发明实施例提供了一种显示设备，包括如本发明第一方面中任一所述的显示面板。
本发明技术方案，具有如下优点：
本发明提供的显示面板，包括：TFT背板和设置在所述TFT背板上的多个发光区域，所述显示面板还包括：传感区域，设置于TFT背板上且位于所述多个发光区域之间，用于在物体靠近所述显示面板时感应由所述物体反射的所述发光区域发出的光。上述显示面板中的传感区域设置于TFT背板上且位于多个发光区域之间，发光区域发出的光经过物体反射后可直接进入传感区域，无需透过TFT背板，以减少光透过TFT背板导致的光的透过率降低，降低光损耗，提高了传感区域的灵敏度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中显示面板的一个具体示例的示意图；
图2为本发明实施例中显示面板的TFT背板的一个具体示例的示意图；
图3为本发明实施例中显示面板的另一个具体示例的示意图；
图4为本发明实施例中显示面板的另一个具体示例的示意图；
图5为本发明实施例中显示面板的另一个具体示例的示意图；
图6为本发明实施例中显示面板的另一个具体示例的示意图；
图7为本发明实施例中显示面板的防串扰结构的光路设计的一个具体示例的示意图；
图8为本发明实施例中显示面板制备方法的一个具体示例的流程图；
图9－图11为本发明实施例中显示面板制备方法的一个具体示例的步骤示意图；
图12为本发明实施例中显示面板制备方法的另一个具体示例的流程图；
图13－图19为本发明实施例中显示面板制备方法的另一个具体示例的步骤示意图；
图20为本发明实施例中显示面板制备方法的另一个具体示例的流程图；
图21－图25为本发明实施例中显示面板制备方法的另一个具体示例的步骤示意图。
附图标记：
1、TFT背板；11、基板；12、缓冲层；13、有源层；14、层间绝缘层；15、栅极；16、层间绝缘层；17、源漏极；18、平坦化层；2、发光区域；21、第一电极；22、发光结构层；23、第二电极；3、传感区域；31、下电极；32、传感材料层；33、上电极；4、吸光结构；5、防串扰结构；51、遮光块；52、无机层；53、有机层；6、封装层；7、绝缘层；8、盖板。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”以及“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，需要说明的是，当元件被称为“形成在另一元件上”时，它可以直接连接到另一元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以直接连接到另一元件或者同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。
正如背景技术所述，现有技术中的指纹识别传感器采用贴合的方式贴合在显示屏的下方，经常出现传感器灵敏度低的问题，发明人研究发现，出现这种问题的原因在于，指纹识别传感器接收到的光需要先透过显示屏的各个膜层后才能到达传感器的感应层，这些膜层会造成光损耗，同时，显示屏中TFT器件的栅极、源漏极通常采用金属材料形成金属走线，这些金属走线也会产生光损耗，进一步导致光的透过率降低，进而使得到达传感器的光减少，降低传感器的灵敏度。
基于此，本发明提供了一种显示面板，能够很好地解决上述问题。
图1为一实施例中显示面板的剖视图，如图1所示，显示面板包括：TFT背板1、设置在TFT背板1上的多个发光区域2以及传感区域3，传感区域3设置于TFT背板1上且位于多个发光区域2之间，用于在物体靠近显示面板时感应由物体反射的发光区域2发出的光。
上述显示面板中的传感区域设置于TFT背板上且位于多个发光区域之间，发光区域发出的光经过物体反射后可直接进入传感区域，无需透过TFT背板，以减少光透过TFT背板导致的光的透过率降低，降低光损耗，提高了传感区域的灵敏度。
在一较佳实施例中，如图2所示，TFT背板1包括层叠的基板11、缓冲层(Buffer)12、有源层(Active)13、层间绝缘层(GI)14、栅极(Gate)15、层间绝缘层(ILD)16、源漏极(SD)17、以及平坦化层(PLN)18；当然，在其它实施例中，TFT背板还可根据需要合理设置，如底栅TFT。
在一较佳实施例中，如图3所示，传感区域3包括层叠于TFT背板1上的下电极31、传感材料层32以及透明上电极33。具体地，下电极与TFT背板中的TFT电连接，该TFT将传感区域检测到的光信号转换为电信号用于后续处理。透明上电极33的光的透过率较高，能够有效保证反射光尽可能多的透过上电极到达传感区域，以增加传感区域接收的反射光量。
在一较佳实施例中，传感材料层作为像素限定层，具体地，传感材料层覆盖除发光区域之外的TFT背板上的其它区域，位于下电极上的传感材料层形成传感区域中用于感应反射光的传感层，其它区域的传感材料层作为像素限定层以限定发光区域的大小，这样便无需制备像素限定层，节省工艺流程、降低生产成本。
在一较佳实施例中，传感材料层的材料为有机光电材料，有机光电材料的光程范围大、亮度大、效率高、驱动电压低、耗能少、制作工艺简单以及成本低。当然，在其它实施例中，传感材料层的材料还可采用现有技术中的其它传感材料，如无机光电材料，根据需要合理设置即可。
优选地，有机光电材料包括乙氧基化聚乙烯亚胺(PEIE)、PC60BM、PCBTBT、聚(3，4－乙烯二氧噻吩)－聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)中的至少之一，上述这些材料较常见、制备工艺成熟、成本低。当然，在其它实施例中，也可包括上述材料的任意组合，还可以除上述材料之外的其它材料，根据需要合理确定即可，本实施例对此不作任何限制。
在一较佳实施例中，透明上电极的材料包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)，氧化铟锡和氧化铟锌材料的光的透过率较高，能够减少光透过上电极造成的光损失。优选地，透明上电极材料为ITO，ITO的制备工艺成熟、制得的ITO性能较佳，降低生产成本。当然，在其它实施例中，透明上电极的材料还可为其它透明材料，如掺杂银的氧化铟锡(Ag+ITO)或者掺杂银的氧化铟锌(Ag+IZO)，本实施例仅作示意性说明，并不以此为限，可根据实际应用合理设置。
在一较佳实施例中，如图3所示，发光区域2包括第一电极21、发光结构层22以及第二电极23。
在一较佳实施例中，如图3所示，透明上电极33与发光区域2的第一电极21电连接；下电极31与发光区域2的第二电极23位于同一层。具体地，发光区域的第一电极为阴极，透明上电极与第一电极电连接，实现了电位的共用，减少了显示面板的走线。下电极与发光区域的第二电极位于同一层，降低了显示面板的整体厚度，使得显示面板更加轻薄，应用场合更加广阔。
在一较佳实施例中，如图4所示，上述显示面板还包括吸光结构4，设置于传感区域3和发光区域2之间，用于吸收发光区域2发射出的水平方向的光。发光区域所发出的光是朝向各个方向的，设置于传感区域和发光区域之间的吸光结构能够有效吸收水平方向的光，阻挡这部分光进入传感区域，防止造成噪声，干扰传感区域的检测准确度，从而提高了传感区域的检测精度。
具体地，吸光结构4紧邻发光区域2设置，以最大程度的阻挡发光区域发射出的水平方向的光对传感区域造成干扰。
在一较佳实施例中，如图5所示，上述显示面板还包括：防串扰结构5，设置于传感区域3远离TFT背板的一侧，具有遮光块51，该遮光块51设置于传感区域3和发光区域2上方空间之间，相邻遮光块51之间的空白区域的中心与下电极31的中心重叠，形成防串扰光路。防串扰结构设置于传感区域和发光区域的上方，防串扰结构中的遮光块设置于相邻的传感区域和发光区域的间隔区域的上方空间之中，以使发光区域发出的光经反射后到达传感区域，形成防串扰光路，避免反射光进入传感区域造成串扰，进而影响传感区域的检测精度和灵敏度。相邻遮光块51之间的空白区域的中心与下电极31的中心重叠，能够有效保证光路不会被遮光块遮挡，提高传感区域的检测精度。
具体地，如图6所示，防串扰结构5包括间隔层叠的无机层52和有机层53，遮光块51设置在无机层52和有机层53之间。由于防串扰结构的光路需要严格设置，故防串扰结构的高度有相应要求，有机层和无机层将遮光块包围在其中，由于遮光块不易直接成形于有机层上，故先将遮光块形成于无机层上，之后再在遮光块上形成有机层，制备过程更加简单、便捷。
如图7所示，光路的具体设计需要满足如下条件：
其中，L1为2.54cm/DPI，L2为传感区域的尺寸；d为套孔直径；H为套孔的高度；h1为套孔中心点到屏幕上表面距离；h2为套孔中线点到传感区域上表面的距离。具体地，L1是计算每个像素的大小，一英寸为2.54cm，DPI为每英寸长度内的像素点数，上述像素点数根据实际应用的显示面板确定，不同的显示面板对应不同的像素点数。
在一较佳实施例中，遮光块的材料的光的透过率小于5％，以达到较佳的遮光效果，当然，在其它实施例中，透过率还可设置为其它数值，如10％或者3％等，根据需要合理设置即可。优选地，遮光块的材料为金属，如钼(Mo)；当然，在其它实施例中，遮光块的材料还可根据需要合理设置，本实施例对此不作任何限制。
在一较佳实施例中，有机层的材料优选为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)和聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)等。
在一较佳实施例中，无机层的材料优选为氧化物，例如三氧化二铝(Al2O3)或氮化硅(SiN)等。
本实施例还提供一种显示面板制备方法，如图8所示，包括步骤S1－S3。
步骤S1：制作TFT背板1，如图9所示。具体地，可通过低温多晶硅(Low TemperaturePoly－Silicon，缩写为TPLS)工艺形成TFT背板，制造成本低、TFT的电子迁移率高、性能更优；当然，在其它实施例中，还可采用现有技术中的其它制备方式制作TFT背板，本实施例对TFT背板的形成方式不作任何限制，可根据实际需要合理设置。
具体地，TFT背板1的一个具体示例的示意图如图2所示，其制备过程可采用现有技术中的制备方法制备而成。
步骤S2：在TFT背板1上形成传感区域所在的预设功能层，预设功能层包括间隔设置的传感区域3和发光区域2，如图10所示。具体地，在TFT背板1的上形成间隔设置的传感区域3和发光区域2，传感区域位于TFT背板上，发光结构发出并经物体反射的光无需透过TFT基板，便可直接传输至传感区域。
步骤S3：制作封装层6，如图11所示。具体地，在预设功能层上形成封装层，封装层能够有效阻挡水氧等进入显示面板，避免显示面板受到外界环境的侵蚀，对发光区域和传感区域起到很好地保护作用，延长使用寿命。封装层的材料包括四氟乙烯(TFE)、环氧树脂、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或者聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)等，本实施例仅作示意性表示，并不以此为限；在其它实施方式中，封装层的材料也可为无机封装材料(如氧化物、氮化物等)，也可为有机封装材料(如环氧类、酚醛类、聚酯类或者有机硅类等)，还可为无机有机复合材料，封装层的材料可根据实际需要合理设置。
上述显示面板制备方法，在TFT背板上形成间隔设置的传感区域和发光区域，传感区域位于TFT背板上，发光结构发出并经物体反射的光可直接传输至传感区域，无需透过TFT基板，故反射的光不会被TFT背板中的金属走线吸收，不会造成光损失，使得进入传感区域的光增加，提高了光的透过率，进而提高了传感区域的灵敏度。
在一较佳实施例中，如图12所示，步骤S2具体包括步骤S21－S25。
步骤S21：在TFT背板1上形成发光区域的第二电极材料，如图13所示。具体地，可通过化学气相沉积方式在TFT背板上形成整面的第二电极材料；当然，在其它实施例中，也可采用现有技术中的其它方式形成整面的第二电极材料，如旋涂等，根据需要合理选择即可。在一较佳实施例中，第二电极材料优选为氧化铟锡(ITO)等透明导电材料，以提高整个显示面板的透明度；当然，在其它实施例中，第二导电材料还可为其它不透明导电材料，如金属等，根据需要合理设置即可。
步骤S22：图形化第二电极材料，形成发光区域2的第二电极23和传感区域3的下电极31，传感区域的尺寸与下电极尺寸相同。具体地，可通过掩膜板对第二电极材料进行图案化，同时形成发光区域的第二电极和传感区域的下电极，使得第二电极和下电极在同一工艺步骤中同时形成，减少工艺制备流程、节省材料、降低生产成本，并且，两者同层设置还可减小显示面板的整体封装尺寸。
步骤S23：在图形化后的第二电极材料上形成传感材料层32，如图14所示。具体地，可通过掩膜板对第二电极材料进行图案化形成传感材料层32。
在一较佳实施例中，传感材料层的材料为有机光电材料，有机光电材料的光程范围大、亮度大、效率高、驱动电压低、耗能少、制作工艺简单以及成本低。当然，在其它实施例中，传感材料层的材料还可采用现有技术中的其它传感材料，如无机光电材料，根据需要合理设置即可。
在一较佳实施例中，传感材料层的材料选自但不限于乙氧基化聚乙烯亚胺(PEIE)、PC60BM、PCBTBT、聚(3，4－乙烯二氧噻吩)－聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)中的一种或多种的组合。当然，在其它实施例中，传感材料层还可以为除上述材料之外的其它材料，根据需要合理确定即可，本实施例对此不作任何限制。
步骤S24：在传感材料层32上形成透明导电层，如图15所示。具体地，在传感材料层32上形成透明导电层ITO，ITO制备工艺成熟，性能较佳。
步骤S25：图形化透明导电层，形成传感区域3的上电极33，并暴露发光区域2内的传感材料层32，如图16所示。
步骤S25之后，还包括以上述图形化的透明导电材料层为硬掩膜(hard mask)对传感材料层进行干刻，以暴露发光区域的第二电极，如图17所示。
上述显示面板制备方法，对发光区域的第二电极材料图案化，同时形成发光区域2的第二电极23和传感区域3的下电极31，使得第二电极和下电极在同一工艺步骤中同时形成，减少工艺制备流程、节省材料、降低生产成本，并且，两者同层设置还可减小显示面板的整体封装尺寸。
在一较佳实施例中，上述显示面板制备方法还包括在传感区域3和发光区域2之间形成吸光结构4。吸光结构的具体形成过程可包括以图形化透明导电层为掩膜对传感材料层32进行刻蚀，形成发光区域图形和吸光结构图形。具体地，如图17所示，以ITO为硬掩膜(hard mask)进行干刻，暴露发光区域的第二电极，制备出发光区域图形，并同时制备吸光结构4，吸光结构4为设置于传感区域和发光区域之间的传感材料层。如图18所示，吸光结构4将遮挡OLED器件横向光的区域和用于传感的传感区域分开，防止OLED和传感材料层直接接触；通过CVD沉积绝缘层7(如SiN等)并图形化，将发光区域的第二电极和传感区域的上电极露出。
吸光结构紧邻发光区域设置，吸光结构由传感材料构成，若直接与发光区域接触，会影响发光区域的发光效果，故需在吸光结构和发光区域之间设置绝缘层7，避免对发光区域造成不利影响，同时还能够有效阻挡OLED器件发出的光在水平方向上传播对传感区域造成干扰，提高了传感区域的检测精度。
绝缘层7上设置有开口，开口处露出上电极，以便于发光区域的第一电极电连接，开口的大小和位置可根据实际需要合理设置，本实施例对此不作任何限制。优选地，开口位于与下电极对应的位置上，这样反射的光无需透过该绝缘层，减小光损失。吸光结构制备完成之后，在发光结构图形中制作OLED器件，其中OLED器件的第一电极与上电极连接。具体地，以传感材料层作为像素限定层，并在发光区域图形中的第二电极23上制作OLED器件的发光结构层22，之后，在制备第一电极21，如图19所示。具体地可通过蒸镀的方式形成发光结构层。
上述显示面板制备方法，以传感材料层作为像素限定层，无需制备像素限定层，节省工艺流程、降低生产成本；并且，设置于传感区域和发光区域之间的吸光结构能够有效吸收水平方向的光，阻挡这部分光进入传感区域，防止造成噪声，干扰传感区域的检测准确度，从而提高了传感区域的检测精度。
在上述显示面板制备方法的基础上，如图20所示，还包括步骤S4：在传感区域3远离TFT背板的一侧形成防串扰结构5。具体地，防串扰结构5，设置于传感区域3远离TFT背板的一侧的上方，具有遮光块51，该遮光块51设置于传感区域3和发光区域2上方空间之间，形成防串扰光路。
在一实施例中，形成封装层6后设置遮光块，如图21所示。步骤S4具体可为在封装层6远离TFT背板的一侧间隔层叠的制备至少一层无机层52和至少一层有机层53，在无机层和有机层之间制备遮光层，并图形化形成遮光块51，相邻遮光块之间的空白区域的中心与下电极的中心重叠，如图22所示。
在一可替换实施例中，如图23所示，还可在封装层中设置防串扰结构5。在另一可替换实施例中，如图24所示，还可在传感区域上电极与封装之间设置防串扰结构5。
防串扰结构的一个具体制备过程如下：在完成封装工艺后，采用低温工艺以原子层沉积(atomiclayer deposition，缩写为ALD)技术制备Al2O3；以溅射(Sputter)方式制备Mo，图形化制备出所需遮光块；以喷墨打印技术或CVD技术制备出有机封装层；按以上三个步骤进行循环，形成防串扰结构。
在其它可替换实施例中，在防串扰结构5的上方还设置有盖板8(如玻璃盖板)，如图25所示，盖板对下方元器件起到保护作用。
上述显示面板制备方法，防串扰结构能够有效避免反射光进入传感区域造成串扰，提高了传感区域的检测精度和灵敏度。
本实施例还提供一种显示设备，包括如上述实施例中任一所述的显示面板。该显示设备具有检测灵敏度的优点。
在一较佳实施例中，显示设备可以为手机、平板、电视机、显示器、掌上电脑、ipod、数码相机、导航仪等具有显示功能的产品或者部件，并不以此为限；在其它实施例中，显示设备还可为现有技术中其它具有显示功能的产品。
虽然结合附图描述了本发明的实施例，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：TFT背板和设置在所述TFT背板上的多个发光区域，所述显示面板还包括：
传感区域，设置于所述TFT背板上且位于所述多个发光区域之间，用于在物体靠近所述显示面板时感应由所述物体反射的所述发光区域发出的光。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述传感区域包括：
层叠于所述TFT背板上的下电极、传感材料层以及透明上电极；
优选地，所述传感材料层作为像素限定层；
优选地，所述传感材料层的材料为有机光电材料；
优选地，所述有机光电材料包括乙氧基化聚乙烯亚胺(PEIE)、PC60BM、PCBTBT、聚(3，4－乙烯二氧噻吩)－聚苯乙烯磺酸(PEDOT：PSS)中的至少之一；
优选地，所述透明上电极的材料包括氧化铟锡或氧化铟锌。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述透明上电极与所述发光区域的第一电极电连接；
所述下电极与所述发光区域的第二电极位于同一层。
4.根据权利要求1－3任一所述的显示面板，其特征在于，还包括：
吸光结构，设置于所述传感区域和所述发光区域之间，用于吸收所述发光区域发射出的水平方向的光；
优选地，所述吸光结构紧邻所述发光区域设置。
5.根据权利要求2－4任一所述的显示面板，其特征在于，还包括：
防串扰结构，设置于所述传感区域远离所述TFT背板的一侧，具有遮光块，相邻遮光块之间的空白区域的中心与下电极的中心重叠，形成防串扰光路；
优选地，所述防串扰结构包括间隔层叠的无机层和有机层，所述遮光块设置在所述无机层和所述有机层之间。
6.一种显示面板制备方法，其特征在于，包括：
制作TFT背板；
在所述TFT背板上形成传感区域所在的预设功能层，所述预设功能层包括间隔设置的传感区域和发光区域；
制作封装层。
7.根据权利要求6所述的显示面板制备方法，其特征在于，所述在所述TFT背板上形成传感区域所在的预设功能层包括：
在所述TFT背板上形成发光区域的第二电极材料；
图形化所述第二电极材料，形成所述发光区域的第二电极和所述传感区域的下电极，所述传感区域的尺寸与所述下电极尺寸相同；
在所述图形化后的第二电极材料上形成传感材料层；
在所述传感材料层远离所述TFT背板的一侧上形成透明导电层；
图形化所述透明导电层，形成传感区域的上电极；
优选地，所述方法还包括，在所述传感区域和所述发光区域之间形成吸光结构。
8.根据权利要求6或者7所述的显示面板制备方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述传感区域远离所述TFT背板的一侧形成防串扰结构。
9.根据权利要求8所述的显示面板制备方法，其特征在于，在所述传感区域远离所述TFT背板的一侧形成防串扰结构包括：
在封装层远离所述TFT背板的一侧和/或所述封装层间隔层叠的制备至少一层无机层和至少一层有机层，在所述无机层和有机层之间制备遮光层，并图形化形成遮光块，相邻所述遮光块之间的空白区域的中心与所述下电极的中心重叠。
10.一种显示设备，其特征在于，包括如权利要求1－5任一所述的显示面板。
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