CN111410424B - 一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：钠长石粉20～30份、莫来石粉12～16份、二氧化硅27～35份、钠基累托石粘土9～12份、烧滑石粉6～8份、硅灰石晶须5～7份、累托石粉3～4.5份、独居石粉5.5～7.5份、硅酸钠3～4份、氧化钛5～6份、氧化锌2～2.5份、氧化钡2.4～3.2份、高硼熔块3～5份。本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。

Description

一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷制品领域，具体涉及一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法。
背景技术
日用陶瓷的产生可以说是因为人们对日常生活的需求而产生的，日常生活中人们接触最多，也是最熟悉的瓷器，如餐具、茶具、咖啡具、酒具、饭具等。
陶瓷制品是人们日常生活中最常见的器具之一，陶瓷的发展史是中华文明史的一个重要的组成部分，其中陶瓷的发明和发展更具有独特的意义，随着近代科学技术的发展，近百年来又出现了许多新的陶瓷品种，它们不再使用或很少使用粘土、长石、石英等传统陶瓷原料，而是使用其他特殊原料，甚至扩大到非硅酸盐，非氧化物的范围，并且出现了许多新的工艺，使陶瓷具有了各种各样的特殊功能。
但是，目前所使用的日用陶瓷制品还存在以下问题：
1、表面粗糙度较高，不够平整光滑细腻，甚至有少量的釉泡等缺陷，导致日用陶瓷制品容易脏污，且脏污后难以清洁；
2、表面的耐磨性能较差，硬度较低，在使用过程中，容易造成表面刮花，进而导致日用陶瓷制品容易脏污，且脏污后难以清洁。
3、外观、强度等综合性能较差。
发明内容
基于上述情况，本发明的目的在于提供一种不易脏污的日用陶瓷制品及其制备方法，可有效解决以上问题。
为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是：
一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉20～30份、
莫来石粉12～16份、
二氧化硅27～35份、
钠基累托石粘土9～12份、
烧滑石粉6～8份、
硅灰石晶须5～7份、
累托石粉3～4.5份、
独居石粉5.5～7.5份、
硅酸钠3～4份、
氧化钛5～6份、
氧化锌2～2.5份、
氧化钡2.4～3.2份、
高硼熔块3～5份。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述釉面层的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高，清洗本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。
优选的，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉25份、
莫来石粉14份、
二氧化硅31份、
钠基累托石粘土10.5份、
烧滑石粉7份、
硅灰石晶须6份、
累托石粉3.8份、
独居石粉6.5份、
硅酸钠3.5份、
氧化钛5.5份、
氧化锌2.3份、
氧化钡2.7份、
高硼熔块4份。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品中所述日用陶瓷坯体，可以是本领域常用的日用陶瓷坯体，如素烧日用陶瓷坯体，也可以是没有经过的素烧的(沥干的)日用陶瓷坯体。优选的，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英粉40～47份、
钠长石粉25～30份、
莫来石粉7～10份、
钠基累托石粘土14～18份、
硅灰石晶须6～8.5份、
滑石粉5～7份、
硅酸钠3～5份。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述日用陶瓷坯体的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的抗弯强度高达327Mpa，抗压强度高到911Mpa，具有高强度，力学性能优异。
优选的，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英43.5份、
钠长石粉27.5份、
莫来石粉8.5份、
钠基累托石粘土16份、
硅灰石晶须7.8份、
滑石粉6份、
硅酸钠4份。
优选的，所述二氧化硅为纳米二氧化硅。
优选的，所述氧化钛为纳米二氧化钛。
优选的，所述高硼熔块的硼含量为11～14％，铅含量小于0.01％。
优选的，所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均为4000～5000目。
本发明还提供一种所述的不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，包括下列步骤：
A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；
B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为65～68％的坯浆；
C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；
D、逐渐升温至620～660℃，将生坯烧制3～4h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；
E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；
F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为62～64％的釉料；
G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；
H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至680～720℃，烧制1.5～2h；然后再升温至1080～1120℃，继续烧制3～4h；最后降温至600～620℃，保温1.5～2h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。
本发明与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述釉面层的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高，清洗本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。
此外，经测试，在本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面采用油性记号笔画5*10mm的记号，用毛巾轻轻擦拭2-4遍，即可清洁干净，印证了本发明的不易脏污的日用陶瓷制品，不易脏污，脏污后容易清洁。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品通过精选所述日用陶瓷坯体的原料组成，并优化各原料含量，既充分发挥各原料的优点，又相互补充，相互促进，提升产品的质量稳定性，制得的不易脏污的日用陶瓷制品的抗弯强度高达327Mpa，抗压强度高到911Mpa，具有高强度，力学性能优异。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的莫来石粉，与适当比例的钠长石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠相互配合，提升了本发明产品的耐磨性能、硬度以及表面粗糙度等，保证了产品的耐磨性能好、硬度高，清洗本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的二氧化硅，添加量较大，主要提高产品的耐磨性能和硬度，保证了产品的耐磨性能好、硬度高，清洗本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的钠基累托石粘土，在本发明的原料体系中，与其他组分结合力强，并相互配合，提升了本发明的产品的釉面平整光滑细腻度，降低了表面粗糙度，保证了产品不易脏污，脏污后容易清洁；且保证了本发明的产品良好力学性能。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的累托石粉，其耐高温性能好，可提高产品的表面粗糙度和耐磨性能，但热膨胀系数较高，因为而本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的硅灰石晶须，具有低的热膨胀系数，两者相互配合，更好地保证了本发明产品的耐高温性能和表面粗糙度和耐磨性能；且保证了本发明的产品良好力学性能。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的独居石粉，与其他组分相互配合，起到良好的协同作用，大幅提升了本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面整体致密而细腻，显著改善了产品(本发明的不易脏污的日用陶瓷制品)的表面粗糙度，不易脏污，也保证了产品的耐磨性能、硬度等。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的硅酸钠，与其他组分相互配合，起到良好的协同作用，主要起到粘结剂的作用，使本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的各原料结合更加紧密，使本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的釉面整体致密而细腻，从而更好地保证了产品(本发明的不易脏污的日用陶瓷制品)不易脏污、耐磨性能、硬度等。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的氧化钛、氧化锌、氧化钡，与其他组分相互配合，进一步提升了本发明产品的表面粗糙度、耐磨性能等，更好地保证了产品的不易脏污性能。
本发明的不易脏污的日用陶瓷制品所述釉面层的原料中添加了适当比例的高硼熔块，主要用于提升产品的表面光泽度。
此外，本发明的不易脏污的日用陶瓷制品中所述日用陶瓷坯体，可以是本领域常用的日用陶瓷坯体，如素烧日用陶瓷坯体，也可以是没有经过的素烧的(沥干的)日用陶瓷坯体。
本发明的制备方法工艺简单，操作简便，节省了人力和设备成本。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合具体实施例对本发明的优选实施方案进行描述，但是不能理解为对本专利的限制。
下述实施例中所述试验方法或测试方法，如无特殊说明，均为常规方法；所述试剂和材料，如无特殊说明，均从常规商业途径获得，或以常规方法制备。
实施例1：
一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉20～30份、
莫来石粉12～16份、
二氧化硅27～35份、
钠基累托石粘土9～12份、
烧滑石粉6～8份、
硅灰石晶须5～7份、
累托石粉3～4.5份、
独居石粉5.5～7.5份、
硅酸钠3～4份、
氧化钛5～6份、
氧化锌2～2.5份、
氧化钡2.4～3.2份、
高硼熔块3～5份。
在本实施例中，所述釉面层优选由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉25份、
莫来石粉14份、
二氧化硅31份、
钠基累托石粘土10.5份、
烧滑石粉7份、
硅灰石晶须6份、
累托石粉3.8份、
独居石粉6.5份、
硅酸钠3.5份、
氧化钛5.5份、
氧化锌2.3份、
氧化钡2.7份、
高硼熔块4份。
在本实施例中，所述日用陶瓷坯体优选由包括以下重量份的原料制成：
石英粉40～47份、
钠长石粉25～30份、
莫来石粉7～10份、
钠基累托石粘土14～18份、
硅灰石晶须6～8.5份、
滑石粉5～7份、
硅酸钠3～5份。
在本实施例中，所述日用陶瓷坯体优选由包括以下重量份的原料制成：
石英43.5份、
钠长石粉27.5份、
莫来石粉8.5份、
钠基累托石粘土16份、
硅灰石晶须7.8份、
滑石粉6份、
硅酸钠4份。
在本实施例中，所述二氧化硅优选为纳米二氧化硅。
在本实施例中，所述氧化钛优选为纳米二氧化钛。
在本实施例中，所述高硼熔块的硼含量优选为11～14％，铅含量优选小于0.01％。
在本实施例中，所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均优选为4000～5000目。
本实施例还提供一种所述的不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，包括下列步骤：
A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；
B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为65～68％的坯浆；
C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；
D、逐渐升温至620～660℃，将生坯烧制3～4h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；
E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；
F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为62～64％的釉料；
G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；
H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至680～720℃，烧制1.5～2h；然后再升温至1080～1120℃，继续烧制3～4h；最后降温至600～620℃，保温1.5～2h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。
实施例2：
一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉20份、
莫来石粉12份、
二氧化硅27份、
钠基累托石粘土9份、
烧滑石粉6份、
硅灰石晶须5份、
累托石粉3份、
独居石粉5.5份、
硅酸钠3份、
氧化钛5份、
氧化锌2份、
氧化钡2.4份、
高硼熔块3份。
在本实施例中，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英粉40份、
钠长石粉25份、
莫来石粉7份、
钠基累托石粘土14份、
硅灰石晶须6份、
滑石粉5份、
硅酸钠3份。
在本实施例中，所述二氧化硅为纳米二氧化硅。
在本实施例中，所述氧化钛为纳米二氧化钛。
在本实施例中，所述高硼熔块的硼含量为11％，铅含量小于0.01％。
在本实施例中，所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均为4000目。
在本实施例中，所述的不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，包括下列步骤：
A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；
B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为65％的坯浆；
C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；
D、逐渐升温至620℃，将生坯烧制4h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；
E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；
F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为62％的釉料；
G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；
H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至680℃，烧制2h；然后再升温至1080℃，继续烧制3h；最后降温至600℃，保温2h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。
实施例3：
一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉30份、
莫来石粉16份、
二氧化硅35份、
钠基累托石粘土12份、
烧滑石粉8份、
硅灰石晶须7份、
累托石粉4.5份、
独居石粉7.5份、
硅酸钠4份、
氧化钛6份、
氧化锌2.5份、
氧化钡3.2份、
高硼熔块5份。
在本实施例中，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英粉47份、
钠长石粉30份、
莫来石粉10份、
钠基累托石粘土18份、
硅灰石晶须8.5份、
滑石粉7份、
硅酸钠5份。
在本实施例中，所述二氧化硅为纳米二氧化硅。
在本实施例中，所述氧化钛为纳米二氧化钛。
在本实施例中，所述高硼熔块的硼含量为14％，铅含量小于0.01％。
在本实施例中，所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均为5000目。
在本实施例中，所述的不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，包括下列步骤：
A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；
B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为68％的坯浆；
C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；
D、逐渐升温至660℃，将生坯烧制3h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；
E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；
F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为64％的釉料；
G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；
H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至720℃，烧制1.5h；然后再升温至1120℃，继续烧制4h；最后降温至620℃，保温1.5h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。
实施例4：
一种不易脏污的日用陶瓷制品，包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉25份、
莫来石粉14份、
二氧化硅31份、
钠基累托石粘土10.5份、
烧滑石粉7份、
硅灰石晶须6份、
累托石粉3.8份、
独居石粉6.5份、
硅酸钠3.5份、
氧化钛5.5份、
氧化锌2.3份、
氧化钡2.7份、
高硼熔块4份。
在本实施例中，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英43.5份、
钠长石粉27.5份、
莫来石粉8.5份、
钠基累托石粘土16份、
硅灰石晶须7.8份、
滑石粉6份、
硅酸钠4份。
在本实施例中，所述二氧化硅为纳米二氧化硅。
在本实施例中，所述氧化钛为纳米二氧化钛。
在本实施例中，所述高硼熔块的硼含量为12.5％，铅含量小于0.01％。
在本实施例中，所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均为4500目。
在本实施例中，所述的不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，包括下列步骤：
A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；
B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为66.5％的坯浆；
C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；
D、逐渐升温至640℃，将生坯烧制3.5h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；
E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；
F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为63％的釉料；
G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；
H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至700℃，烧制1.8h；然后再升温至1110℃，继续烧制3.5h；最后降温至610℃，保温1.8h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。
对比例1：
与实施例4的区别在于，没有莫来石粉，其他与实施例4相同。
对比例2：
与实施例4的区别在于，没有钠基累托石粘土，其他与实施例4相同。
对比例3：
与实施例4的区别在于，没有累托石粉，其他与实施例4相同。
对比例4：
与实施例4的区别在于，没有独居石粉，其他与实施例4相同。
对比例5：
与实施例4的区别在于，没有氧化钛、氧化锌、氧化钡，其他与实施例4相同。
下面对本发明实施例2至实施例4、对比例1至对比例5得到的不易脏污的日用陶瓷制品以及普通日用陶瓷制品进行性能测试，测试结果如表1所示：
表1
Figure BDA0002466605600000121
Figure BDA0002466605600000131
从上表可以看出，本发明的不易脏污的日用陶瓷制品具有以下优点：釉面平整、光滑且细腻，质感好，无釉孔；不易脏污，脏污后容易清洁；且耐磨性能好，硬度高，清洗本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面污渍时，不易造成刮花等损坏，更好地保证了产品的不易脏污性能；表面粗糙度低，平整光滑度高，不易脏污，脏污后容易清洁；表面无釉孔等缺陷，外观光亮精美。
此外，经测试，在本发明的不易脏污的日用陶瓷制品的表面采用油性记号笔画5*10mm的记号，用毛巾轻轻擦拭2-4遍，即可清洁干净，印证了本发明的不易脏污的日用陶瓷制品，不易脏污，脏污后容易清洁。
经测试，在本发明的不易脏污的日用陶瓷制品(实施例4)的抗弯强度高达327Mpa，抗压强度高到911Mpa，具有高强度，力学性能优异。
以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出的是，上述优选实施方式不应视为对本发明的限制，本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的精神和范围内，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种不易脏污的日用陶瓷制品的制备方法，其特征在于，所述不易脏污的日用陶瓷制品包括日用陶瓷坯体和釉面层，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：钠长石粉20～30份、莫来石粉12～16份、二氧化硅27～35份、钠基累托石粘土9～12份、烧滑石粉6～8份、硅灰石晶须5～7份、累托石粉3～4.5份、独居石粉5.5～7.5份、硅酸钠3～4份、氧化钛5～6份、氧化锌2～2.5份、氧化钡2.4～3.2份、高硼熔块3～5份；所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：石英粉40～47份、钠长石粉25～30份、莫来石粉7～10份、钠基累托石粘土14～18份、硅灰石晶须6～8.5份、滑石粉5～7份、硅酸钠3～5份；所述二氧化硅为纳米二氧化硅；所述氧化钛为纳米二氧化钛；所述高硼熔块的硼含量为11～14%，铅含量小于0.01%；所述莫来石粉、独居石粉和累托石粉的粒度均为4000～5000目；所述制备方法包括下列步骤：
A、按重量份分别称取所述日用陶瓷坯体的各原料，备用；
B、将石英、钠长石粉、莫来石粉、钠基累托石粘土、硅灰石晶须、滑石粉和硅酸钠混合后，加入水，进行球磨，并调节固含量，形成固含量为65～68%的坯浆；
C、然后依次进行除泡，粗坯定型，自然阴干，利坯，得到生坯；
D、逐渐升温至620～660℃，将生坯烧制3～4h；随炉冷却，得到所述日用陶瓷坯体；
E、按重量份分别称取所述釉面层的原料，备用；
F、将钠长石粉、莫来石粉、二氧化硅、钠基累托石粘土、烧滑石粉、硅灰石晶须、累托石粉、独居石粉、硅酸钠、氧化钛、氧化锌、氧化钡和高硼熔块置于高细球磨机中，加入水，进行研磨混合，并调节固含量，形成固含量为62～64%的釉料；
G、将步骤F得到的釉料施釉至步骤D的所述日用陶瓷坯体表面，晾干后，得到施釉日用陶瓷坯体；
H、将所述施釉日用陶瓷坯体逐渐升温至680～720℃，烧制1.5～2h；然后再升温至1080～1120℃，继续烧制3～4h；最后降温至600～620℃，保温1.5～2h；随炉冷却，得到所述不易脏污的日用陶瓷制品。
2.一种采用权利要求1所述的制备方法制得的不易脏污的日用陶瓷制品。
3.根据权利要求2所述的不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，所述釉面层由包括以下重量份的原料制成：
钠长石粉25份、莫来石粉14份、二氧化硅31份、钠基累托石粘土10.5份、烧滑石粉7份、硅灰石晶须6份、累托石粉3.8份、独居石粉6.5份、硅酸钠3.5份、氧化钛5.5份、氧化锌2.3份、氧化钡2.7份、高硼熔块4份。
4.根据权利要求2所述的不易脏污的日用陶瓷制品，其特征在于，所述日用陶瓷坯体由包括以下重量份的原料制成：
石英43.5份、钠长石粉27.5份、莫来石粉8.5份、钠基累托石粘土16份、硅灰石晶须7.8份、滑石粉6份、硅酸钠4份。
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