CN111400990B - 基于siwave软件的arm pdn优化设计方法 - Google Patents

基于siwave软件的arm pdn优化设计方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,首先确定ARM的电源分配网络PDN的目标阻抗;在SIWAVE软件中,使用PDN电容指定S参数,编译Z参数;通过改变PDN布局或电容选择,使Z参数与目标阻抗的差值在设定范围内;确定需要优化的电容;设定仿真参数,重新编译计算,通过改变电容选择,使仿真阻抗在目标阻抗内,此时软件会自动去掉高环路电感的电容,得到最终的仿真结果;据此更改ARM PDN原理图,形成最终ARM PDN设计。本发明可以自动优化和配置电容的型号和数量,实现最佳的ARM PDN布局设计,从而能节省PCB空间,降低ARM电源噪声,提高EMC一次通过率,节省成本。

Description

基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法
技术领域
本发明涉及一种ARM PDN优化设计方法,尤其涉及一种基于SIWAVE软件进行仿真的ARM PDN优化设计方法,属于汽车电子电源仿真技术领域。
背景技术
ARM处理器是Acorn计算机有限公司面向低预算市场设计的第一款RISC微处理器。在汽车电子领域,ARM的使用越来越广泛,ARM的功能越来越强大,ARM的PDN(电源分配网络)也越来越多。而ARM的尺寸却越来越小,同时电源的电压越来越低,不少电源的供电电压在0.8V左右,但对电源的纹波要求却越来越高。放置数量合适、封装合适、容值合适、型号合适的电容就成为了提升PDN性能的关键,良好的PDN性能将是高速信号PCB(印制电路板)的EMC(电磁兼容)性能的关键指标。
随着汽车电子行业的快速发展,以及高速通讯数据、无线数据处理和高清大屏的大量使用,对ARM的要求越来越高。由于ARM有多达十几个的关键PDN,对于单个的PDN并联的去耦电容数量极为有限,选择数量合适、型号合适的电容,就十分有必要。
传统技术中,通常是通过增加电容数量来提升PDN的性能,这种方法的效果很差,既浪费电容,又占据了很大的PCB空间,而且需要长时间的调试。此外,多次的电容焊接还会引起安装电感的增加,增加了电路板的数据误差。
目前,ARM PDN的优化评估有以下几种方法:
(1)使用示波器测试电源的纹波。这是一种传统的评估方法。基于PCB的物理特性所做的测量,需要成品的PCB及相关物料。这种方法对于带有高频噪声的精度不够高,同时在测试结果出现问题的时候,需要重新改板、制作、测量。这对项目的开发成本及开发时间都是考验。
(2)使用网络分析仪测试电源平面阻抗Z11。这是一种比较新型的测试方法。基于PCB和过孔的物理特性,以及安装的电容和电感特性等的一种综合测试方法。这种方式对电源噪声在30MHz之内的PDN***来说,是有效的,有参考价值;但对于噪声大于30MHz的PDN***,受到测试点位置、测试线束及测试夹具等的限值,很难得到有参考价值的数据。
(3)仿真。使用Hyperlynx19.2版本仿真软件,可以仿真出当前状态组合的电容的电源平面阻抗,判断是否满足目标阻抗的要求,但无法自动配置电容的型号和数量。每次仿真都需要重新调整电容的数量或电容的型号,调整效果不佳。
SIWAVE软件是一款综合电磁场仿真、信号完整性仿真、电源完整性仿真、电子热仿真和芯片仿真的软件,通过提取2D、3D器件及PCB传输线等的S参数建立***和高精度的复杂仿真电路,获得更真实的数据。
ARM PDN是ARM芯片下方分布在PCB内部的电源分配网络***。一般情况ARM的重要电源至少有6个,而综合成本与性能因素一般PCB的层数会在6到8层,考虑到DDR3信号层的分布及其他重要信号线的分布和Ground参考层的分布,这些重要电源的平面分布就非常关键和重要,同时其网络的电容分布也非常关键。因此,如何分布合适电容对PDN是非常困难。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种能够按照目标阻抗,自动优化和配置电容的型号和数量,实现最佳的ARM PDN布局设计的方法。
为了解决上述技术问题,本发明的技术方案是提供一种基于SIWAVE软件的ARMPDN优化设计方法,包括如下步骤:
步骤S1:确定ARM的电源分配网络PDN的目标阻抗;
步骤S2:在SIWAVE软件的PI Advisor应用功能模块中,使用所述PDN的电容的指定S参数,编译所述PDN的Z参数;将所述Z参数与所述目标阻抗做比较:如果二者的差值在设定范围内,则转步骤S3;否则重新设置所述PDN布局或电容选择,重新编译计算,直至所述二者的差值在设定范围内,转步骤S3;
步骤S3:确定需要优化的电容;
步骤S4:为需要优化的电容指定多个型号的电容,设定每个型号的电容的数量;
步骤S5:通过SIWAVE仿真软件的PI Advisor应用功能模块设定仿真参数,重新编译计算,选择一个仿真配置方案;将所选择的仿真配置方案的仿真阻抗与目标阻抗相比较:如果仿真阻抗小于或等于目标阻抗,则转步骤S6;否则,重新设置电容选择,重新编译计算,直至仿真阻抗小于或等于目标阻抗,转步骤S6;
步骤S6:当仿真阻抗小于或等于目标阻抗时,SIWAVE仿真软件会自动去掉高环路电感的电容,得到最终的仿真结果;
步骤S7:根据最终的仿真结果,更改ARM PDN原理图,更新PDN布局设计,形成最终的ARM PDN设计。
优选地,所述步骤S1中,目标阻抗的计算方法为:工作电压与允许纹波电压的百分比的乘积,再除以最大瞬态电流的一半。
优选地,所述步骤S2中,如果Z参数在100kHz-50MHz间的值在目标阻抗130%内,则直接转步骤S3;
否则,优化所述PDN的Layout布局设计,或在有效位置增加电容数量,或在有效位置改变电容型号,并再次编译所述PDN的Z参数,直至Z参数在100kHz-50MHz间的值在目标阻抗130%内,转步骤S3。
优选地,所述步骤S3中,需要优化的电容为容值超过设定阈值的电容。
更优选地,所述设定阈值为10uF。
优选地,所述步骤S3中,需要优化的电容为分布在ARM和DDR3 BGA封装底层的电容。
优选地,所述步骤S4中,电容型号分布在当前电容的容值的上下3个容值范围内。
优选地,所述步骤S4中,电容型号选择符合汽车电子的应用等级。
优选地,所述步骤S5中,当仿真阻抗超过目标阻抗时,进行如下判断:
如果仿真阻抗最高值超过了目标阻抗的20%,则针对超过目标阻抗的频点,增加合适型号的电容;重新编译计算,直至仿真阻抗在目标阻抗内,转步骤S6;
如果仿真阻抗最高值在目标阻抗120%以内,则针对超过目标阻抗的频点,选择相对当前电容更低等效电感ESL的电容;重新编译计算,直至仿真阻抗在目标阻抗内,转步骤S6。
相比现有技术,本发明提供的基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法具有如下有益效果:
(1)通过基于SIWAVE软件的仿真,能够迅速得到ARM PDN电容设计的最优状态;
(2)在仿真过程中,可以快速找到设计偏差,再进一步进行优化设计;
(3)可以优化ARM电容的数量,通过去耦电容的环路电感筛选出多余的电容,减小无效去耦电容的应用,节省大量的电容,腾出PCB空间,为其他电源的优化创造条件;
(4)可以按照目标阻抗挑选出最合适的电容型号,实现最佳的ARM PDN布局设计,从而能降低ARM***级的电源噪声,还能够提高EMC一次通过率,节省项目开发成本。
附图说明
图1为本实施例提供的基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法的流程图;
图2为U13000芯片PAD焊盘分布图;
图3为底层DDR3整个网络电容分布图;
图4为仿真前原理图上DDR3端的部分电容示意图;
图5为仿真前原理图上DDR3端的另一部分电容示意图;
图6为仿真前PCB ARM端的电容分布图;
图7为SIWAVE仿真软件中C4100电容有6个候选电容示意图;
图8为SIWAVE仿真软件中Wizard Threshold模块设置示意图;
图9为优化前ARM端的阻抗示意图;其中,横坐标Frequency表示频率,纵坐标Z11表示阻抗;
图10为优化前DDR3端的阻抗示意图;其中,横坐标Frequency表示频率,纵坐标Z11表示阻抗;
图11为ARM端优化后的PCB分布图;
图12为优化后ARM端的阻抗示意图;其中,横坐标Frequency表示频率,纵坐标Z11表示阻抗;
图13为ARM端高环路电感的电容分布图;
图14为需要优化的电容示意图;
图15为最终ARM端的阻抗示意图;其中,横坐标Frequency表示频率,纵坐标Z11表示阻抗;
图16为最终DDR3端的阻抗示意图;其中,横坐标Frequency表示频率,纵坐标Z11表示阻抗。
具体实施方式
对于汽车电子智能网联产品,ARM有多达13个电源分配网络PDN,如SMPS、HMPS等,因此,要求在有限的空间放置最合适的电容,在目标成本下,数量、型号、封装的平衡难度很大。本实施例是通过一个新型的有效仿真方法来实现ARM PDN的优化设计。
本实施例提供的方法运用ANSYS公司的SIWAVE仿真软件的PI Advisor应用功能模块,图1为本实施例提供的基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法的流程图,所述的基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法包括如下步骤:
第一步,确定ARM的某电源分配网络PDN的目标阻抗。
一般情况下,目标阻抗定义为:工作电压与允许纹波电压的百分比的乘积,除以最大瞬态电流的一半的值,如下式所示:
Figure BDA0002388041910000051
其中,Ztarget为目标阻抗,Voltage Rail为工作电压,%Ripple为允许纹波电压的百分比,Imax transient为最大瞬态电流。
这里的目标阻抗为基本目标阻抗,绝大部分电源噪声都分布在100kHz-20MHz间,因此计算值频域应用在这个频段。由于当前的ARM电源是为高速信号提供电荷的,高速信号传输的速率很高,因此仅考虑100kHz到20MHz是不够的。按照经验,还需要设置20MHz到50MHz,这个频段的阻抗一般建议为基本目标阻抗的3倍左右。而高于50MHz的目标阻抗仅用来做参考,因为这个频段的阻抗主要取决于芯片本身。而低于100kHz阻抗主要取决于开关电源的动态输出能力,非PDN电容和平面阻抗设计。
第二步,在SIWAVE仿真软件的PI Advisor应用功能模块中,使用该电源分配网络PDN的电容的指定S参数,编译该电源分配网络PDN的Z参数,将该电源分配网络PDN的Z参数与目标阻抗做比较:
如果Z参数在100kHz-50MHz间的值在目标阻抗130%内(含目标阻抗130%),则转第三步;
否则,即如果Z参数在100kHz-50MHz间的值超过目标阻抗的30%,则优化该电源分配网络PDN的Layout(布局)设计,或在有效位置增加电容数量,或在有效位置改变电容型号,并再次编译该电源分配网络PDN的Z参数,直至Z参数在100kHz-50MHz间的值在目标阻抗130%内,转第三步。
第三步,确定需要优化的电容。
需要优化的电容基本分两类:一类是大容值电容,一般为容值超过10uF的电容;第二类是分布在ARM和DDR3 BGA(焊球阵列封装)封装底层的电容。
第四步,为需要优化的电容指定多个型号的电容,设定每个型号的电容的数量。电容型号分布在当前电容的容值的上下3个容值范围内,型号选择符合汽车电子的应用等级。
第五步,通过SIWAVE仿真软件的PI Advisor应用功能模块设定仿真参数,然后重新编译计算,选择一个仿真配置方案;再判断所选择的仿真配置方案的仿真阻抗是否在目标阻抗内:
如果在目标阻抗内,即仿真阻抗小于或等于目标阻抗,则转第六步;
否则,仿真阻抗超过目标阻抗时,进行如下判断:如果仿真阻抗最高值超过了目标阻抗的20%,则针对超过目标阻抗的频点,增加合适型号的电容组合;如果仿真阻抗最高值在目标阻抗120%内(含目标阻抗120%),则针对超过目标阻抗的频点,选择相对当前电容更低ESL(等效电感)的电容组合;重新编译计算,直至仿真阻抗在目标阻抗内,转第六步。该过程很难通过一次的调整就达到设计要求,一般需要多次优化才能得到满意的结果。
第六步,当仿真阻抗在目标阻抗内时,SIWAVE仿真软件会自动去掉高环路电感的电容。
第七步,根据仿真的结果,确定原理图的更改,更新Layout(PDN布局设计),形成最佳的ARM PDN设计,达到成本降低和性能优化的双重效果。
下面以一个具体的应用实例,验证上述方法的优化效果。
本实施例中,控制器U13000是NXP公司型号为PIMX8UX ARM芯片,BGA封装,焊盘分布如图2所示。DRAM U14200是MICRO的MT41K128M16,电容分布在PCB底层,见图3。时钟频率是930MHz。首次使用PIMX8UX,NXP推荐使用数量众多的电容来改善电源的噪声与纹波。仿真前的PIMX8UX和DDR两端DDRIO电源的电容原理图见图4和图5,电容PCB分布状况见图6,且都是0402封装的220nF电容,型号为C1005X7R1C224KT0Y0F。
仿真软件采用ANSYS的SIWAVE的PI Advisor工具。PI Advisor中,首先根据最大瞬态工作电流1.35A,工作电压为1.35V,纹波要求1%,得到的基本目标阻抗为20毫欧(100kHz-20MHz频段),从20MHz到50MHz频段的目标阻抗确认为基本目标阻抗的2.5倍,为50毫欧;接着需要选择该电源网络上的所有电容;接着重点优化ARM封装底层的电容,可以选择不同供应商、不同封装、不同系列的电容型号,也可以同时选择多个型号的电容。如图7中,C4100电容有6个候选电容,SIWAVE会按照目标阻抗和Wizard Threshold见图8的设置(包括电容总成本的限制、电容总数量的限制、单一型号电容数量的限制和所有电容占据面积的限制)来选择最合适的电容,同时提供多种方案供选择。完成仿真,选择一个最优的方案来确定的电容最终型号和可以删掉的电容。
本实施例中,按照NXP公司对VDD_DDR电源网络阻抗的要求,设定了PCB的目标阻抗,在100kHz到20MHz的频段控制电源平面阻抗在20毫欧内;从20MHz到50MHz的频段控制在50毫欧内。经过PI Advisor的仿真结果如图9所示,IMX8DX端在100kHz附近频点的最高阻抗为50毫欧,而在8MHz附近频点的最高阻抗为35毫欧,都超过了目标阻抗值的30%,因此需要增加或变换对应的电容以及优化Layout。DDR3端的阻抗是符合要求的,见图10。且在10MHz附近频点的阻抗远小于目标阻抗,因此可以在DDR3端可以减小一些电容。
在优化前,DDRIO整个电源网络的电容有32个,且22uF的大电容有多达6个,如表1所示,非常浪费。
表1优化前电容的型号及数量
Figure BDA0002388041910000071
Figure BDA0002388041910000081
采用本发明方法优化后,C13058换为0603封装22uF,见图11。1MHz频点阻抗为23.8毫欧和10MHz的频点阻抗为23.5毫欧,超标了但在超标的20%内,见图12,因此,需要选择Low ESL的电容来优化高频的阻抗。由于IMX8DX端的电容数量有限,很难做到高低频率两段都兼顾。因此需要考虑DDR3芯片端一起优化。
核查所有DDRIO网络电容的环路电感,找到一些需要优化的电容,见图13,圆圈内的电容需要进一步优化。
针对这些需要优化的电容,可以在同一个电容选择多个型号,如图14,由***按照设定的目标阻抗自动判断。
通过PI Advisor的两次优化,最终电容的数量由32个减小到20个,见表3,BOM成本也降了不少。电容最终的方案选择见表4。
表3电容容值分布
Figure BDA0002388041910000082
表4电容型号和区域分布
Figure BDA0002388041910000083
Figure BDA0002388041910000091
最终,PIMX8UX的DDR端口的阻抗如图15所示,DDR3 MT的DDR端口的阻抗如图16所示,由图15和图16可见,无论是PIMX8UX的DDR端口,还是DDR3 MT的DDR端口,都在100kHz到100MHz都满足了NXP的目标阻抗的要求。并且可以大幅度地减小BOM成本。PI Advisor模块在确定好优化方案后,没有匹配电容型号的电容就是优化掉的电容,可以删除的电容。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例,并非对本发明任何形式上和实质上的限制,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明方法的前提下,还将可以做出若干改进和补充,这些改进和补充也应视为本发明的保护范围。凡熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,当可利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化,均为本发明的等效实施例;同时,凡依据本发明的实质技术对上述实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变,均仍属于本发明的技术方案的范围内。

Claims (9)

1.一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1:确定ARM 的电源分配网络PDN的目标阻抗;
步骤S2:在SIWAVE软件的PI Advisor应用功能模块中,使用所述PDN的电容的指定S参数,编译所述PDN的Z参数;将所述Z参数与所述目标阻抗做比较:如果二者的差值在设定范围内,则转步骤S3;否则重新设置所述PDN布局或电容选择,重新编译计算,直至所述二者的差值在设定范围内,转步骤S3;
步骤S3:确定需要优化的电容;
步骤S4:为需要优化的电容指定多个型号的电容,设定每个型号的电容的数量;
步骤S5:通过SIWAVE仿真软件的PI Advisor应用功能模块设定仿真参数,重新编译计算,选择一个仿真配置方案;将所选择的仿真配置方案的仿真阻抗与目标阻抗相比较:如果仿真阻抗小于或等于目标阻抗,则转步骤S6;否则,重新设置电容选择,重新编译计算,直至仿真阻抗小于或等于目标阻抗,转步骤S6;
步骤S6:当仿真阻抗小于或等于目标阻抗时,利用SIWAVE仿真软件去掉高环路电感的电容,得到最终的仿真结果;
步骤S7:根据最终的仿真结果,更改ARM PDN原理图,更新PDN布局设计,形成最终的ARMPDN设计。
2.如权利要求1所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S1中,目标阻抗的计算方法为:工作电压与允许纹波电压的百分比的乘积,再除以最大瞬态电流的一半。
3.如权利要求1所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S2中,如果Z参数在100kHz-50MHz间的值在目标阻抗130%内,则直接转步骤S3;
否则,优化所述PDN的Layout布局设计,或在有效位置增加电容数量,或在有效位置改变电容型号,并再次编译所述PDN的Z参数,直至Z参数在100kHz-50MHz间的值在目标阻抗130%内,转步骤S3。
4.如权利要求1所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S3中,需要优化的电容为容值超过设定阈值的电容。
5.如权利要求4所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述设定阈值为10uF。
6.如权利要求1所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S3中,需要优化的电容为分布在ARM和DDR3 BGA封装底层的电容。
7.如权利要求1所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S4中,电容型号分布在当前电容的容值的上下3个容值范围内。
8.如权利要求1或7所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S4中,电容型号选择符合汽车电子的应用等级。
9.如权利要求1所述的一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,其特征在于:所述步骤S5中,当仿真阻抗超过目标阻抗时,进行如下判断:
如果仿真阻抗最高值超过了目标阻抗的20%,则针对超过目标阻抗的频点,增加合适型号的电容;重新编译计算,直至仿真阻抗在目标阻抗内,转步骤S6;
如果仿真阻抗最高值在目标阻抗120%以内,则针对超过目标阻抗的频点,选择相对当前电容更低等效电感ESL的电容;重新编译计算,直至仿真阻抗在目标阻抗内,转步骤S6。
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