CN111389815A - 用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法，清洗设备包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室、电化学清洗腔室、等离子清洗腔室、超声清洗腔室，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置。如此设计，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗，提高了清洗效率。
Description
技术领域
本发明涉及真空规清洗设备技术领域，具体涉及一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法。
背景技术
薄膜式真空规是一种利用薄膜作为敏感元件来测量环境压力的真空测量仪器。
目前，薄膜式真空规在使用的过程中，随着沉积物的积累，会导致薄膜式真空规的测量性能下降，在沉积物较多的场合，通用做法是定期对真空规重新调零，在无法通过调零修正之后，将真空规淘汰。沉积物不仅严重影响了测量的精度，也大大影响了真空规的使用寿命。
在真空规的沉积物防护上，主要通过增加防护装置与气体的接触面积，延长气体在防护装置的停留时间两方面，使得沉积物更多沉积在防护装置中。但这种防护装置安装在真空规内之后不能更换，而且会改变气体流态而影响测量结果，对需要精确控制气体压力的工艺影响严重。拥有沉积物清除装置的薄膜式真空规可以解决这些问题，但长期使用后的沉积物清除装置需要进行定期清洗。目前，并没有合适的清洗设备可以清洗薄膜式真空规的沉积物清除装置。
发明内容
有鉴于此，本发明提供用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法，以解决薄膜式真空规上沉积物清除装置的清洗及重复利用的问题。
为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：
一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室、电化学清洗腔室、等离子清洗腔室、超声清洗腔室，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置；
所述预处理腔室用于盛放预清洗液，其底部或侧壁上安装有用于向所述预处理腔室内的预清洗液发出超声波以使所述预清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行预清洗的第一超声波发生器；
所述电化学清洗腔室的底部设有电解装置，所述电解装置包括供电电源和电解槽，所述供电电源至少连接有两根端部带有电极夹的导线，其中一根所述导线的电极夹连接有电极棒、另一根所述导线的电极夹用于夹持所述真空规沉积物清除装置；
所述等离子清洗腔室通过控制阀门分别连通有真空泵和供气装置；其上安装有对所述等离子清洗腔室内的气体进行电离以产生用于清洗真空规沉积物清除装置所需的等离子体的等离子发生装置；
所述超声清洗腔室用于盛放清洗液，其底部安装用于向所述预处理腔室内的清洗液发出超声波以使所述清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行清洗的第二超声波发生器。
进一步地，所述第一超声波发生器包括超声发射源、超声换能器、超声变幅杆及超声辐射器，所述超声发射源连接所述超声换能器，所述超声变幅杆连接在所述超声换能器和所述超声辐射器之间；所述超声辐射器相对所述超声变幅杆的一面直接与预清洗液接触，所述超声辐射器与所述预处理腔室底部盛放预清洗液部分的外形相配。
进一步地，所述预处理腔室底部呈倒圆台形，所述超声辐射器呈与所述预处理腔室外形相配的倒圆台形。
进一步地，所述超声辐射器与预清洗液接触的表面设有若干凸台结构。
进一步地，所述电解槽通过其底部的一底座安装在所述电化学清洗腔室的底部，所述底座上还安装有分别位于所述电解槽相对两侧的第一永磁体和第二永磁体，所述第一永磁体和第二永磁体的磁性相反。
进一步地，所述电解槽置于一旋转盘上，所述旋转盘通过中心旋转轴转动连接于所述底座。
进一步地，所述等离子发生装置包括安装在支架上的等离子发生源和等离子发生器，所述等离子发生器通过管道与所述等离子发生源连通，所述供气装置的出气口与所述等离子发生器的进气口连通。
进一步地，所述等离子清洗腔室的底部安装有旋转平台，所述旋转平台上安装供所述真空规沉积物清除装置在其上定位安装的定位夹具，所述等离子发生器位于所述定位夹具的一侧边上用于向所述定位夹具上的真空规沉积物清除装置喷射等离子体。
另一方面，本发明还提供了一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗方法，包括以下步骤：
预清洗处理：将真空规沉积物清除装置放置在预处理腔室的第一夹具上，向预处理腔室内注入清洗液，并使清洗液的液面浸没真空规沉积物清除装置，开启第一超声波发生器，对真空规沉积物清除装置进行超声振动清洗预处理；
电化学清洗：经过预处理后的真空规沉积物清除装置通过运输装置传递至含电解液的电化学清洗腔室中，开启电化学清洗装置内的电解装置，对真空规沉积物清除装置进行电化学清洗；
等离子清洗：经过电化学清洗后的真空规沉积物清除装置通过运输装置传递至已经抽成真空的等离子清洗腔室中，向等离子清洗腔室内通入气体，开启等离子发生器，对真空规沉积物清除装置进行等离子清洗；
超声清洗，经过等离子清洗后的真空规沉积物清除装置通过运输装置传递至注入有清洗液的超声清洗腔室中，并使清洗液的液面浸没真空规沉积物清除装置，开启第二超声波发生器，对真空规沉积物清除装置进行超声清洁处理。
进一步地，在所述等离子清洗之后，还包括：
对夹持真空规沉积物清除装置的夹具进行通电，检测真空规沉积物清除装置的电极上的电流A1；
对清洁的真空规沉积物清除装置进行通电，检测清洁的真空规沉积物清除装置的电极上的电流A2；
比较电流A1和电流A2的大小，判断等离子清洗腔室中真空规沉积物清除装置的清洁程度。
本发明技术方案，具有如下优点：
1.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，长期使用过后的真空规沉积物清除装置拆卸下来以后，先通过预清洗腔室对真空规沉积物清除装置表面附着力较差的沉积物进行超声预清洗，然后通过电化学清洗腔室对真空规沉积物清除装置表面附着力较强的沉积物进行电化学清洗；之后通过等离子腔室中等离子发生装置产生的等离子体与真空规沉积物清除装置表面的有机污染物或微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁的目的；最后再通过超声清洗腔室再次对真空规沉积物清除装置进行清洗，经过四道清洗处理工序，可以有效清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗。
2.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，超声换能器在超声发射源的激励下产生超声波，经超声变幅杆传递至超声辐射器，采用该种方式产生的超声波功率较大，可以实现较好的清洗效果、较高的清洗效率。
3.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，超声辐射器与预处理腔室底部外形相适配的圆台形，且超声辐射器与预清洗液接触的表面的若干凸台结构的设置，可以增加超声辐射器的辐射面积，从而实现较好的清洁效果。
4.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，通过在电解槽的相对两侧设置第一永磁体和第二永磁体，第一永磁体和第二永磁体之间产生的磁场可以增加电解槽中离子的运动速度，从而使真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物可以更快地转变成离子而溶化在电解液中，甚至产生沉淀物沉入电解槽的槽体，可以加快真空规沉积物清除装置的清洗效率。
5.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，电解槽置于一旋转盘上，电解槽可以旋转的结构设计，便于从各个方向对电解槽内的真空规沉积物清除装置进行清洗，提高真空规沉积物清除装置的清洁效果。
6.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，采用等离子体对真空规沉积物清除装置表面附着的沉积物进行清洗的方式，相对于常规水洗或化学清洗等湿洗方式来说，避免了湿式化学清洗中应用酸、碱或有机溶剂等物质带来的腐蚀等危险，安全可靠性较高；也不需要加热处理，在常温或低温环境都具有高效的清洗效果，有效保证真空规沉积物清除装置清洗后的清洁度。
7.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，通过设置旋转平台，旋转平台旋转的同时可以带动定位夹具及其上的真空规沉积物清除装置旋转，使真空规沉积物清除装置在旋转的过程中各个面都可以进行等离子清洗，提高清洗效果。
8.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗方法，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗。
9.本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗方法，通过将经过等离子清洗后的真空规沉积物清除装置的电极上的电流进行检测，并与清洁的真空规沉积物清除装置的电极上检测到的电流进行对比，可以判断等离子清洗腔室中真空规沉积物清除装置的清洁程度，并根据清洁程度控制等离子发生装置的启闭，在确保真空规沉积物清除装置清洁程度的情况下实现自动化清洗。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备的整体结构示意图；
图2为本发明实施例提供的预处理腔室的内部结构示意图；
图3为本发明实施例提供的电化学清洗腔室的内部结构示意图；
图4为本发明实施例提供的等离子清洗腔室的内部结构示意图。
附图标记说明：1、预处理腔室；11、超声发射源；12、超声换能器；13、超声变幅杆；14、超声辐射器；141、凸台结构；2、电化学清洗腔室；211、供电电源；212、电解槽；213、导线；214、电极夹；215、电极棒；22、底座；23、第一永磁体；24、第二永磁体；25、旋转盘；3、等离子清洗腔室；31、真空泵；32、供气装置；33、等离子发生装置；331、等离子发生源；332、等离子发生器；34、旋转平台；35、定位夹具；4、超声清洗腔室；5、运输装置。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
如图1－4所示的一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室1、电化学清洗腔室2、等离子清洗腔室3、超声清洗腔室4，以及用于在相邻两个腔室之间传递真空规沉积物清除装置的运输装置5。其中，运输装置5包括位于预处理腔室1和电化学清洗腔室2之间、位于电化学清洗腔室2和等离子清洗腔室3、以及位于等离子清洗腔室3和超声清洗腔室4之间的锁存进样装置(Loadlock装置)。当待清洗的真空规沉积物清除装置需要在不同的腔室之间转移时，先关闭相应的传输管道上的相应阀门，使用真空泵保证两端压力平衡后，然后进行样品的转移。在本实施例中，可以使用结构简单的机械手完成样品的转移，即真空规沉积物清除装置安装在工装上，使用推杆在不同的腔室中转移，推杆可以使用磁力牵引的方式，从外部施力。
具体的，预处理腔室1用于盛放预清洗液，其底部或侧壁上安装有用于向预处理腔室1内的预清洗液发出超声波以使预清洗液对真空规沉积物清除装置进行预清洗的第一超声波发生器。电化学清洗腔室2的底部设有电解装置，电解装置包括供电电源211和电解槽212，供电电源211至少连接有两根端部带有电极夹214的导线213，其中一根导线213的电极夹214连接有电极棒215、另一根导线213的电极夹214用于夹持真空规沉积物清除装置。等离子清洗腔室3通过控制阀门分别连通有真空泵31和供气装置32；其上安装有对等离子清洗腔室3内的气体进行电离以产生用于清洗真空规沉积物清除装置所需的等离子体的等离子发生装置33。超声清洗腔室4用于盛放清洗液，其底部安装用于向预处理腔室1内的清洗液发出超声波以使清洗液对真空规沉积物清除装置进行清洗的第二超声波发生器。
这种清洗设备，先通过预清洗腔室对真空规沉积物清除装置表面附着力较差的沉积物进行超声预清洗，然后通过电化学清洗腔室2对真空规沉积物清除装置表面附着力较强的沉积物进行电化学清洗；之后通过等离子腔室中等离子发生装置33产生的等离子体与真空规沉积物清除装置表面的有机污染物或微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁的目的；最后再通过超声清洗腔室4再次对真空规沉积物清除装置进行清洗，经过四道清洗处理工序，可以有效清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过锁存进样装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗。
在本实施例中，第一超声波发生器包括超声发射源11、超声换能器12、超声变幅杆13及超声辐射器14，超声发射源11连接超声换能器12，超声变幅杆13连接在超声换能器12和超声辐射器14之间；超声辐射器14相对超声变幅杆13的一面直接与预清洗液接触，超声辐射器14与预处理腔室1底部盛放预清洗液部分的外形相配。超声换能器12在超声发射源11的激励下产生超声波，经超声变幅杆13传递至超声辐射器14，采用该种方式产生的超声波功率较大，可以实现较好的清洗效果、较高的清洗效率。
具体的，预处理腔室1底部呈倒圆台形，超声辐射器14呈与预处理腔室1外形相配的倒圆台形。超声辐射器14与预清洗液接触的表面设有若干凸台结构141。将超声辐射器14设置成与预处理腔室1底部外形相适配的圆台形，且在超声辐射器14与预清洗液接触的表面设置若干凸台结构141，可以增加超声辐射器14的辐射面积，从而实现较好的清洁效果。预清洗液可以为乙醇、***等有机溶剂。
在本实施例中，电解槽212通过其底部的一底座22安装在电化学清洗腔室2的底部，底座22上还安装有分别位于电解槽212相对两侧的第一永磁体23和第二永磁体24，第一永磁体23和第二永磁体24的磁性相反。通过在电解槽212的相对两侧设置第一永磁体23和第二永磁体24，第一永磁体23和第二永磁体24之间产生的磁场可以增加电解槽212中离子的运动速度，从而使真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物可以更快地转变成离子而溶化在电解液中，甚至产生沉淀物沉入电解槽212的槽体，可以加快真空规沉积物清除装置的清洗效率。
在本实施例的一种优选实施方式中，电解槽212置于一旋转盘25上，旋转盘25通过中心旋转轴转动连接于底座22。电解槽212置于一可以旋转的旋转盘25上，便于从各个方向对电解槽212内的真空规沉积物清除装置进行清洗，提高真空规沉积物清除装置的清洁效果。
在本实施例中，等离子发生装置33包括安装在支架上的等离子发生源331和等离子发生器332，等离子发生器332通过管道与等离子发生源331连通，供气装置32的出气口与等离子发生器332的进气口连通。采用等离子体对真空规沉积物清除装置表面附着的沉积物进行清洗的方式，相对于常规水洗或化学清洗等湿洗方式来说，避免了湿式化学清洗中应用酸、碱或有机溶剂等物质带来的腐蚀等危险，安全可靠性较高；也不需要加热处理，在常温或低温环境都具有高效的清洗效果，有效保证真空规沉积物清除装置清洗后的清洁度。
在本实施例中，超声清洗腔室4的内部结构与预处理腔室1的内部结构相同，此处不予赘述。
在本实施例的一种优选实施方式中，等离子清洗腔室3的底部安装有旋转平台34，旋转平台34上安装供真空规沉积物清除装置在其上定位安装的定位夹具35，等离子发生器332位于定位夹具35的一侧边上用于向定位夹具35上的真空规沉积物清除装置喷射等离子体。通过设置旋转平台34，旋转平台34旋转的同时可以带动定位夹具35及其上的真空规沉积物清除装置旋转，使真空规沉积物清除装置在旋转的过程中各个面都可以进行等离子清洗，提高清洗效果。
另一方面，本发明实施例还提供了一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗方法，包括以下步骤：
预清洗处理：将真空规沉积物清除装置放置在预处理腔室1的第一夹具上，向预处理腔室1内注入清洗液，并使清洗液的液面浸没真空规沉积物清除装置，开启第一超声波发生器，对真空规沉积物清除装置进行超声振动清洗预处理；
电化学清洗：经过预处理后的真空规沉积物清除装置通过运输装置5传递至含电解液的电化学清洗腔室2中，开启电化学清洗装置内的电解装置，对真空规沉积物清除装置进行电化学清洗；
等离子清洗：经过电化学清洗后的真空规沉积物清除装置通过运输装置5传递至已经抽成真空的等离子清洗腔室3中，向等离子清洗腔室3内通入气体，开启等离子发生器332，对真空规沉积物清除装置进行等离子清洗；
超声清洗，经过等离子清洗后的真空规沉积物清除装置通过运输装置5传递至注入有清洗液的超声清洗腔室4中，并使清洗液的液面浸没真空规沉积物清除装置，开启第二超声波发生器，对真空规沉积物清除装置进行超声清洁处理。
这种清洗方法，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置5实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗。
进一步的，在等离子清洗之后，还包括：对夹持真空规沉积物清除装置的夹具进行通电，检测真空规沉积物清除装置的电极上的电流A1；对清洁的真空规沉积物清除装置进行通电，检测清洁的真空规沉积物清除装置的电极上的电流A2；比较电流A1和电流A2的大小，判断等离子清洗腔室3中真空规沉积物清除装置的清洁程度。通过将经过等离子清洗后的真空规沉积物清除装置的电极上的电流进行检测，并与清洁的真空规沉积物清除装置的电极上检测到的电流进行对比，可以判断等离子清洗腔室3中真空规沉积物清除装置的清洁程度，并根据清洁程度控制等离子发生装置33的启闭，在确保真空规沉积物清除装置清洁程度的情况下实现自动化清洗。
综上所述，本发明提供的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备及方法，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过锁存进样装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗，提高了清洗效率。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
Claims (10)
1.用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室(1)、电化学清洗腔室(2)、等离子清洗腔室(3)、超声清洗腔室(4)，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置(5)；
所述预处理腔室(1)用于盛放预清洗液，其底部或侧壁上安装有用于向所述预处理腔室(1)内的预清洗液发出超声波以使所述预清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行预清洗的第一超声波发生器；
所述电化学清洗腔室(2)的底部设有电解装置，所述电解装置包括供电电源(211)和电解槽(212)，所述供电电源(211)至少连接有两根端部带有电极夹(214)的导线(213)，其中一根所述导线(213)的电极夹(214)连接有电极棒(215)、另一根所述导线(213)的电极夹(214)用于夹持所述真空规沉积物清除装置；
所述等离子清洗腔室(3)通过控制阀门分别连通有真空泵(31)和供气装置(32)；其上安装有对所述等离子清洗腔室(3)内的气体进行电离以产生用于清洗真空规沉积物清除装置所需的等离子体的等离子发生装置(33)；
所述超声清洗腔室(4)用于盛放清洗液，其底部安装用于向所述预处理腔室(1)内的清洗液发出超声波以使所述清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行清洗的第二超声波发生器。
2.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述第一超声波发生器包括超声发射源(11)、超声换能器(12)、超声变幅杆(13)及超声辐射器(14)，所述超声发射源(11)连接所述超声换能器(12)，所述超声变幅杆(13)连接在所述超声换能器(12)和所述超声辐射器(14)之间；所述超声辐射器(14)相对所述超声变幅杆(13)的一面直接与预清洗液接触，所述超声辐射器(14)与所述预处理腔室(1)底部盛放预清洗液部分的外形相配。
3.根据权利要求2所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述预处理腔室(1)底部呈倒圆台形，所述超声辐射器(14)呈与所述预处理腔室(1)外形相配的倒圆台形。
4.根据权利要求3所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述超声辐射器(14)与预清洗液接触的表面设有若干凸台结构(141)。
5.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述电解槽(212)通过其底部的一底座(22)安装在所述电化学清洗腔室(2)的底部，所述底座(22)上还安装有分别位于所述电解槽(212)相对两侧的第一永磁体(23)和第二永磁体(24)，所述第一永磁体(23)和第二永磁体(24)的磁性相反。
6.根据权利要求5所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述电解槽(212)置于一旋转盘(25)上，所述旋转盘(25)通过中心旋转轴转动连接于所述底座(22)。
7.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述等离子发生装置(33)包括安装在支架上的等离子发生源(331)和等离子发生器(332)，所述等离子发生器(332)通过管道与所述等离子发生源(331)连通，所述供气装置(32)的出气口与所述等离子发生器(332)的进气口连通。
8.根据权利要求7所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述等离子清洗腔室(3)的底部安装有旋转平台(34)，所述旋转平台(34)上安装供所述真空规沉积物清除装置在其上定位安装的定位夹具(35)，所述等离子发生器(332)位于所述定位夹具(35)的一侧边上用于向所述定位夹具(35)上的真空规沉积物清除装置喷射等离子体。
9.用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
预清洗处理：将真空规沉积物清除装置放置在预处理腔室(1)的第一夹具上，向预处理腔室(1)内注入清洗液，并使清洗液的液面浸没真空规沉积物清除装置，开启第一超声波发生器，对真空规沉积物清除装置进行超声振动清洗预处理；
电化学清洗：经过预处理后的真空规沉积物清除装置通过运输装置(5)传递至含电解液的电化学清洗腔室(2)中，开启电化学清洗装置内的电解装置，对真空规沉积物清除装置进行电化学清洗；
等离子清洗：经过电化学清洗后的真空规沉积物清除装置通过运输装置(5)传递至已经抽成真空的等离子清洗腔室(3)中，向等离子清洗腔室(3)内通入气体，开启等离子发生器(332)，对真空规沉积物清除装置进行等离子清洗；
超声清洗，经过等离子清洗后的真空规沉积物清除装置通过运输装置(5)传递至注入有清洗液的超声清洗腔室(4)中，并使清洗液的液面浸没真空规沉积物清除装置，开启第二超声波发生器，对真空规沉积物清除装置进行超声清洁处理。
10.根据权利要求9所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗方法，其特征在于，在所述等离子清洗之后，还包括：
对夹持真空规沉积物清除装置的夹具进行通电，检测真空规沉积物清除装置的电极上的电流A1；
对清洁的真空规沉积物清除装置进行通电，检测清洁的真空规沉积物清除装置的电极上的电流A2；
比较电流A1和电流A2的大小，判断等离子清洗腔室(3)中真空规沉积物清除装置的清洁程度。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113245306A (zh) * | 2021-05-08 | 2021-08-13 | 河北博威集成电路有限公司 | 一种GaN微波芯片的等离子体清洗方法 |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003085936A (ja) * | 2000-12-13 | 2003-03-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | マスター担体のクリーニング方法 |
| CN1423833A (zh) * | 2000-04-25 | 2003-06-11 | 东京电子株式会社 | 用于工件的等离子体清洗的方法和装置 |
| CN102787346A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-21 | 北京天艺创新科技有限公司 | 清洁环保型等离子体镀膜清洗工艺 |
| CN203663218U (zh) * | 2013-12-26 | 2014-06-25 | 深圳市金瑞凯利生物科技有限公司 | 药物球囊的制备装置 |
| CN103898596A (zh) * | 2014-03-28 | 2014-07-02 | 上海大学 | 有机电解液、提取钢中非金属夹杂物的方法及电解装置 |
| CN104370286A (zh) * | 2014-11-04 | 2015-02-25 | 张泽宇 | 一种新型石墨烯制备工艺 |
| CN106086901A (zh) * | 2016-07-31 | 2016-11-09 | 安庆市芊芊纸业有限公司 | 一种机械零部件表面处理工艺 |
| CN207325479U (zh) * | 2017-10-09 | 2018-05-08 | 佛山市南海乐安金祥龙物资回收有限公司 | 废料清洗机 |
| CN207980052U (zh) * | 2017-08-21 | 2018-10-19 | 杜莉群 | 一种多功能医用消毒装置 |
| CN109277196A (zh) * | 2017-07-19 | 2019-01-29 | 璐惧箍 | 一种空气净化组件 |
| CN110438555A (zh) * | 2019-09-09 | 2019-11-12 | 珠海市安能环保科技有限公司 | 一种电化学回收hw13类废弃线路板上贵金属的反应装置及方法 |
| CN212069751U (zh) * | 2020-04-24 | 2020-12-04 | 中科九微科技有限公司 | 用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备 |
-
2020
- 2020-04-24 CN CN202010336945.6A patent/CN111389815A/zh active Pending
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1423833A (zh) * | 2000-04-25 | 2003-06-11 | 东京电子株式会社 | 用于工件的等离子体清洗的方法和装置 |
| JP2003085936A (ja) * | 2000-12-13 | 2003-03-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | マスター担体のクリーニング方法 |
| CN102787346A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-21 | 北京天艺创新科技有限公司 | 清洁环保型等离子体镀膜清洗工艺 |
| CN203663218U (zh) * | 2013-12-26 | 2014-06-25 | 深圳市金瑞凯利生物科技有限公司 | 药物球囊的制备装置 |
| CN103898596A (zh) * | 2014-03-28 | 2014-07-02 | 上海大学 | 有机电解液、提取钢中非金属夹杂物的方法及电解装置 |
| CN104370286A (zh) * | 2014-11-04 | 2015-02-25 | 张泽宇 | 一种新型石墨烯制备工艺 |
| CN106086901A (zh) * | 2016-07-31 | 2016-11-09 | 安庆市芊芊纸业有限公司 | 一种机械零部件表面处理工艺 |
| CN109277196A (zh) * | 2017-07-19 | 2019-01-29 | 璐惧箍 | 一种空气净化组件 |
| CN207980052U (zh) * | 2017-08-21 | 2018-10-19 | 杜莉群 | 一种多功能医用消毒装置 |
| CN207325479U (zh) * | 2017-10-09 | 2018-05-08 | 佛山市南海乐安金祥龙物资回收有限公司 | 废料清洗机 |
| CN110438555A (zh) * | 2019-09-09 | 2019-11-12 | 珠海市安能环保科技有限公司 | 一种电化学回收hw13类废弃线路板上贵金属的反应装置及方法 |
| CN212069751U (zh) * | 2020-04-24 | 2020-12-04 | 中科九微科技有限公司 | 用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 王庆富;刘清和;陈林;龙重;肖红;: "贫铀表面Ar气脉冲辉光放电清洗", 真空, no. 02, 25 March 2016 (2016-03-25) * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113245306A (zh) * | 2021-05-08 | 2021-08-13 | 河北博威集成电路有限公司 | 一种GaN微波芯片的等离子体清洗方法 |
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