CN111364042A - 一种环保型研磨抛光液 - Google Patents

一种环保型研磨抛光液 Download PDF

Info

Publication number
CN111364042A
CN111364042A CN202010356583.7A CN202010356583A CN111364042A CN 111364042 A CN111364042 A CN 111364042A CN 202010356583 A CN202010356583 A CN 202010356583A CN 111364042 A CN111364042 A CN 111364042A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
environment
polishing solution
polishing
percent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010356583.7A
Other languages
English (en)
Inventor
宋丽
苏文
宋坤
赵志义
刘江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hunan Huayao Baiao Medical Technology Co ltd
Original Assignee
Hunan Huayao Baiao Medical Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hunan Huayao Baiao Medical Technology Co ltd filed Critical Hunan Huayao Baiao Medical Technology Co ltd
Priority to CN202010356583.7A priority Critical patent/CN111364042A/zh
Publication of CN111364042A publication Critical patent/CN111364042A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F3/00Brightening metals by chemical means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/02Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
    • C23G1/04Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors
    • C23G1/06Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明提供了一种环保型研磨抛光液,所述抛光液包括以下重量百分比的组分:有机酸2%~20%;缓蚀剂0.5%~10%;表面活性剂0.5%~12%:光亮剂0.1%~15%;余量为水。本发明的抛光液无传统硝酸毒害影响,也无磷酸体系污染环境。使用的抛光液是有机酸环保体系,对人体和环境无害,能够克服抛光死角,同时具备清洗剂和抛光剂的作用,抛光后的产品洁净无油污,表面呈镜面光亮效果。

Description

一种环保型研磨抛光液
技术领域
本发明涉及金属抛光液领域,特别涉及一种环保型研磨抛光液。
背景技术
合金,如锌合金、镁合金、铝合金、铜合金、不锈钢等被广泛用于精密机械制造业领域,如电子、汽车、化工、医疗器械等。且对这些精密零部件制品的要求越来越高,不仅要经久耐用,还要达到外观洁净、镜面、光亮的效果。
目前大多数的研磨机抛光液由增光剂、光亮剂与水混合而成,抛光后容易出现抛光死角,研磨不彻底,有的产品角落内易附着污垢,清洗困难,甚至借助清洗机才能清洗干净,给生产带来不便,这对抛光液的抛光效果提出了要求。
发明内容
本发明提供了一种环保型研磨抛光液,其目的是为了提供一种基于研磨机的环保型抛光液,对人体及环境无害,同时具备清洗剂和抛光剂的作用,抛光后的产品洁净无油污,表面呈镜面光亮效果。
为了达到上述目的,本发明的实施例提供了一种环保型研磨抛光液,所述抛光液包括以下重量百分比的组分:有机酸2%~20%;缓蚀剂0.5%~10%;表面活性剂0.5%~12%:光亮剂0.1%~15%;余量为水。
优选地,所述有机酸为羟基乙酸、柠檬酸、草酸、甲酸、乙酸、苯甲酸中的一种或几种。
优选地,所述缓蚀剂为二邻甲苯基硫脲、三乙醇胺、硫脲、尿素、硅酸钠、苯甲酸钠、苯并三氮唑中的一种或几种。
优选地,所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基醇酰胺,失水山梨醇酯,苯乙烯磺酸-马来酸共聚物等的一种或几种。
优选地,所述光亮剂为硅溶胶、铝溶胶、甘油、天然蜂蜡、硅油、植物棕榈蜡、胍盐中的一种或几种。
本发明的上述方案有如下的有益效果:本发明提供了一种环保型研磨抛光液,无传统硝酸毒害影响,也无磷酸体系污染环境。使用的抛光液是有机酸环保体系,对人体和环境无害,能够克服抛光死角,同时具备清洗剂和抛光剂的作用,抛光后的产品洁净无油污,表面呈镜面光亮效果。
本发明使用有机酸作为蚀刻酸,一方面避免使用传统的硝酸等强酸导致的冒黄烟有毒害及磷酸污染环境等不良影响,另一方面也可以有效起到软化、去除金属表面的附着物、如氧化皮、杂质等成分。
本发明中的缓蚀剂一方面用于防止有机酸过渡蚀刻金属表面,起到整平作用;另一方面还可以起到一定程度的离子络合作用,络合被酸质子化的金属阳离子,一定程度上起到表面光亮化效果。
本发明中的表面活性剂主要目的是用于去除金属表面的油污,达到清洗洁净的效果,另外,还具有乳化和增稠的效果,使得抛光液的分散性和稳定性良好,经久耐用。
本发明使用的光亮剂,主要是协调配合抛光液中其他成分,起到增光抛亮的作用,使得金属工件表面达到镜面抛光的效果。
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合具体实施例进行详细描述。
实施例1
本发明的实施例提供了一种环保型研磨抛光液,包括以下组分:羟基乙酸4%~15%,柠檬酸1%~10%,硫脲1%~5%,三乙醇胺3%~5%,十二烷基苯磺酸钠2%~5%,脂肪醇聚氧乙烯醚1%~6%,甘油3%~5%,硅溶胶4%~12%,硅溶胶的粒径在15纳米~150纳米,余量水。Ph值控制在2~3之间,配置的抛光液分散性好,经久耐用,稳定性好。
实施例2
本发明的实施例提供了一种环保型研磨抛光液,包括以下组分:草酸1%~10%,柠檬酸1%~5%,苯并三氮唑1%~3%,尿素3%~5%,十二烷基苯磺酸钠2%~5%,烷基酚聚氧乙烯醚2%~6%,硅油0.2%~2%,铝溶胶2%~10%,铝溶胶的粒径在20纳米~250纳米,余量水。Ph值控制在2~3之间,配置的抛光液分散性好,经久耐用,稳定性好。
实施例3
本发明的实施例提供了一种环保型研磨抛光液,包括以下组分:羟基乙酸3%~20%,三乙醇胺2%~6%,苯并三氮唑2%~5%,十二烷基硫酸钠2%~5%,烷基醇酰胺2%~10%,硅油0.2%~2%,铝溶胶2%~10%,铝溶胶的粒径在20纳米~250纳米,余量水。Ph值控制在2~3之间,配置的抛光液分散性好,经久耐用,稳定性好。
实施例4
本发明的实施例提供了一种环保型研磨抛光液,包括以下组分:草酸2%~8%,羟基乙酸2%~10%,三乙醇胺1%~5%,硫脲2%~5%,十二烷基硫酸钠2%~5%,烷基酚聚氧乙烯醚2%~6%,硅油0.2%~2%,铝溶胶2%~10%,铝溶胶的粒径在20纳米~250纳米,余量水。Ph值控制在2~3之间,配置的抛光液分散性好,经久耐用,稳定性好。
分别将上述配置好的抛光原液按体积比2%~5%的比例用水稀释后配置成研磨抛光开缸液。研磨机可选用磁力研磨抛光机,离心研磨机,涡流研磨机,振动研磨机等的一种,可搭配的研磨料可选用树脂研磨石,磁力研磨钢针,棕刚玉,高频瓷,高铝瓷等其中的一种或几种。
抛光前的锌合金颌面骨接骨板表面氧化皮灰黑,且带有部分油污斑块。使用实施例2的抛光液抛光后的颌面骨接骨板表面洁净光亮,镜面反光。
本发明提供一种环保型研磨抛光液,该环保型抛光液包括有机酸、缓蚀剂、表面活性剂、光亮剂、去离子水。该抛光液稳定性好,制备抛光液工艺简单,且所得到的抛光面光亮度高、表面平整,可达到镜面抛光效果。可广泛应用于锌合金、镁合金、铝合金、铜合金、不锈钢等工件表面的抛光。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种环保型研磨抛光液,其特征在于,所述抛光液包括以下重量百分比的组分:有机酸2%~20%;缓蚀剂0.5%~10%;表面活性剂0.5%~12%:光亮剂0.1%~15%;余量为水。
2.根据权利要求1所述的一种环保型研磨抛光液,其特征在于,所述有机酸为羟基乙酸、柠檬酸、草酸、甲酸、乙酸、苯甲酸中的一种或几种。
3.根据权利要求2所述的一种环保型研磨抛光液,其特征在于,所述缓蚀剂为二邻甲苯基硫脲、三乙醇胺、硫脲、尿素、硅酸钠、苯甲酸钠、苯并三氮唑中的一种或几种。
4.根据权利要求3所述的一种环保型研磨抛光液,其特征在于,所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基醇酰胺,失水山梨醇酯,苯乙烯磺酸-马来酸共聚物等的一种或几种。
5.根据权利要求4所述的一种环保型研磨抛光液,其特征在于,所述光亮剂为硅溶胶、铝溶胶、甘油、天然蜂蜡、硅油、植物棕榈蜡、胍盐中的一种或几种。
CN202010356583.7A 2020-04-29 2020-04-29 一种环保型研磨抛光液 Pending CN111364042A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010356583.7A CN111364042A (zh) 2020-04-29 2020-04-29 一种环保型研磨抛光液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010356583.7A CN111364042A (zh) 2020-04-29 2020-04-29 一种环保型研磨抛光液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111364042A true CN111364042A (zh) 2020-07-03

Family

ID=71205658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010356583.7A Pending CN111364042A (zh) 2020-04-29 2020-04-29 一种环保型研磨抛光液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111364042A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111979549A (zh) * 2020-08-26 2020-11-24 沈阳永清环保科技有限公司 一种铜及铜合金材料环保震动研磨光饰液及其制备方法
CN113583574A (zh) * 2021-09-06 2021-11-02 安徽光智科技有限公司 硒化锌镜片用抛光液及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030234184A1 (en) * 2001-03-14 2003-12-25 Applied Materials, Inc. Method and composition for polishing a substrate
CN101092540A (zh) * 2006-06-23 2007-12-26 天津晶岭电子材料科技有限公司 一种金属抛光液及其制备方法
CN102585706A (zh) * 2012-01-09 2012-07-18 清华大学 酸性化学机械抛光组合物
CN104342705A (zh) * 2014-10-23 2015-02-11 深圳市科玺化工有限公司 一种化学抛光剂及其应用
CN105970228A (zh) * 2016-05-25 2016-09-28 深圳市佳欣纳米科技有限公司 一种铝合金抛光液及其制备方法
CN106757036A (zh) * 2016-11-28 2017-05-31 江南大学 一种无磷环保金属抛光液的制备方法
CN110158090A (zh) * 2019-06-26 2019-08-23 珠海横琴思国科技发展有限公司 一种环保的反应型抛光光亮剂组合物及其制备方法与应用

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030234184A1 (en) * 2001-03-14 2003-12-25 Applied Materials, Inc. Method and composition for polishing a substrate
CN101092540A (zh) * 2006-06-23 2007-12-26 天津晶岭电子材料科技有限公司 一种金属抛光液及其制备方法
CN102585706A (zh) * 2012-01-09 2012-07-18 清华大学 酸性化学机械抛光组合物
CN104342705A (zh) * 2014-10-23 2015-02-11 深圳市科玺化工有限公司 一种化学抛光剂及其应用
CN105970228A (zh) * 2016-05-25 2016-09-28 深圳市佳欣纳米科技有限公司 一种铝合金抛光液及其制备方法
CN106757036A (zh) * 2016-11-28 2017-05-31 江南大学 一种无磷环保金属抛光液的制备方法
CN110158090A (zh) * 2019-06-26 2019-08-23 珠海横琴思国科技发展有限公司 一种环保的反应型抛光光亮剂组合物及其制备方法与应用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111979549A (zh) * 2020-08-26 2020-11-24 沈阳永清环保科技有限公司 一种铜及铜合金材料环保震动研磨光饰液及其制备方法
CN113583574A (zh) * 2021-09-06 2021-11-02 安徽光智科技有限公司 硒化锌镜片用抛光液及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102337084B (zh) Led衬底加工用研磨液及其制备方法
CN111364042A (zh) 一种环保型研磨抛光液
CN103014712B (zh) 一种铝材元件校正液及其校正方法
CN110158090A (zh) 一种环保的反应型抛光光亮剂组合物及其制备方法与应用
CN110684982A (zh) 一种环保型清洗剂及其制备方法
CN111804664B (zh) 玻璃元件的清洗方法
CN111019606B (zh) 一种不锈钢研磨剂及其制备方法、应用
JPH0438788B2 (zh)
CN113512728A (zh) 一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂
CN108085693A (zh) 高效除锈防锈剂
CN110760861A (zh) 一种铜清洗剂及其制备方法
JP5518392B2 (ja) 電子デバイス基板用洗浄剤組成物、および電子デバイス基板の洗浄方法
US20090148335A1 (en) Process for surface treatment of metals
CN103334107B (zh) 镁铝合金材料表面的抛光方法
CN111662785A (zh) 一种温和石材除锈剂及其制备方法
JPH01272785A (ja) チタンまたはチタン合金の化学研磨方法
KR101131146B1 (ko) 디스머트 처리용 조성물과 이를 이용한 알루미늄 합금의 디스머트 처리방법
CN103881585A (zh) 一种计算机硬盘抛光液及其制备方法
US20080202554A1 (en) Process for surface treatment of metals
CN111117752A (zh) 一种铝合金滚磨光整加工用磨液及其制备方法
CN109943855A (zh) 一种镁合金与铝合金通用的高效脱脂剂及其制备方法
CN114717062A (zh) 一种用于铝基材pcb线路板的除蜡水及其制备方法
JPH03111600A (ja) Ni―Ti合金の電解研摩浴
CN111118507A (zh) 一种不锈钢铸件表面清洗剂及其制备方法
CN112812900B (zh) 无泡酸性清洗剂及其制备方法与应用

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200703

RJ01 Rejection of invention patent application after publication