CN111309195A - 一种触控模组及其制作方法、触控显示装置 - Google Patents
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Abstract
一种触控模组及其制作方法、触控显示装置,触控模组包括:第一绝缘层、第二绝缘层、导电网格层和架桥层,导电网格层包括:交叉绝缘设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极;每个第一触控电极为条状电极,每个第二触控电极包括:多个独立的子电极,同一第二触控电极包括的相邻子电极通过架桥层连接;第一绝缘层开设有第一凹槽,架桥层位于第一凹槽中;第二绝缘层设置在第一绝缘层靠近架桥层的一侧,且开设有第二凹槽,导电网格层位于第二凹槽中。本申请提供的技术方案将架桥层与导电网格层设置在绝缘层的凹槽中,使得导电网格层在触控模组在弯折时不会发生断裂,提高了触控屏的弯折性能。
Description
技术领域
本文涉及触控技术领域,具体涉及一种触控模组及其制作方法、触控显示装置。
背景技术
随着显示技术的飞速发展,触摸屏应用越来越广泛,依照感应方式的不同,触摸屏大致可以分为电阻式、电容式、红外线式、声波式四类。其中电容式目前的市场用量最大,其他技术短期内恐很难赶上,已成为触摸屏市场上的主流和未来发展的趋势。触控屏中设置有触控电极。
经发明人研究发现,相关技术中的触控屏中的触控电极在弯折过程会发生断裂,使得触控屏的弯折性能不佳。
发明内容
本申请提供了一种触控模组及其制作方法、触控显示装置,能够提高触控屏的弯折性能。
第一方面,本申请提供一种触控模组,包括:第一绝缘层、第二绝缘层、导电网格层和架桥层,所述导电网格层包括:交叉绝缘设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极;每个第一触控电极为条状电极,每个第二触控电极包括:多个独立的子电极,同一第二触控电极包括的相邻子电极通过架桥层连接;
所述第一绝缘层开设有第一凹槽,所述架桥层位于所述第一凹槽中;所述第二绝缘层设置在第一绝缘层靠近所述架桥层的一侧,且开设有第二凹槽,所述导电网格层位于所述第二凹槽中。
在一种可能的实现方式中,所述第二凹槽包括:多个第一子凹槽和多个第二子凹槽,第一子凹槽与第一触控电极一一对应,第一触控电极位于对应的第一子凹槽中,第二子凹槽与第二触控电极一一对应,第二触控电极位于对应的第二子凹槽中;
所述第二绝缘层还设置有过孔,第二触控电极中的子电极通过所述过孔与架桥层连接。
在一种可能的实现方式中,所述第一子凹槽的厚度小于或者等于所述第二绝缘层的厚度,所述第二子凹槽的厚度小于所述第二绝缘层的厚度。
在一种可能的实现方式中,所述第一子凹槽在第一绝缘层的正投影与所述第一凹槽在第一绝缘层的正投影部分重叠,所述第二子凹槽在第一绝缘层的正投影与所述第一凹槽在第一绝缘层的正投影部分重叠。
在一种可能的实现方式中,所述第一绝缘层和所述第二绝缘层为有机层。
在一种可能的实现方式中,所述第一触控电极和所述第二触控电极为金属电极,所述架桥层的制作材料为金属。
在一种可能的实现方式中,所述触控模组还包括:保护层;
所述保护层位于所述导电网格层远离所述第二绝缘层的一侧,用于保护所述导电网格层。
第二方面,本申请还提供一种触控模组的制作方法,用于制作上述触控模组,所述方法包括:
形成开设有第一凹槽的第一绝缘层;
在第一绝缘层的第一凹槽内形成架桥层;
在第一绝缘层靠近所述架桥层的一侧形成开设有第二凹槽的第二绝缘层;
在第二绝缘层的第二凹槽内形成与架桥层连接的导电网格层。
在一种可能的实现方式中,所述形成开设有第一凹槽的第一绝缘层包括:
形成第一有机薄膜;
通过光刻工艺对第一有机薄膜进行处理,形成开设有第一凹槽的第一绝缘层;
所述在第一绝缘层靠近所述架桥层的一侧形成开设有第二凹槽的第二绝缘层包括:
在第一绝缘层靠近架桥层的一侧形成第二有机薄膜;
通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽的第二绝缘层。
在一种可能的实现方式中,所述在第一绝缘层的第一凹槽内形成架桥层包括:
在第一绝缘层上形成第一金属薄膜;
通过构图工艺对第一金属薄膜进行处理,形成架桥层;
所述在第二绝缘层的第二凹槽内形成导电网格层包括:
在第二绝缘层上形成第二金属薄膜;
通过构图工艺对第二金属薄膜进行处理,形成导电网格层。
在一种可能的实现方式中,所述通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽的第二绝缘层包括:
采用第一掩膜版,通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,在第二有机薄膜上形成第二凹槽;
采用第二掩膜版,通过光刻工艺对形成有第二凹槽的第二有机薄膜进行处理形成过孔。
在一种可能的实现方式中,所述在第二绝缘层的第二凹槽内形成导电网格层之后,所述方法还包括:
在所述导电网格层上形成保护薄膜;
通过光刻工艺对保护薄膜进行处理,形成原始保护层;
对原始保护层进行烘烤形成保护层。
第三方面,本申请还提供一种触控显示装置,包括:上述触控模组。
本申请提供了一种触控模组及其制作方法、触控显示装置,其中,触控模组包括:第一绝缘层、第二绝缘层、导电网格层和架桥层,导电网格层包括:交叉绝缘设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极;每个第一触控电极为条状电极,每个第二触控电极包括:多个独立的子电极,同一第二触控电极包括的相邻子电极通过架桥层连接;第一绝缘层开设有第一凹槽,架桥层位于第一凹槽中;第二绝缘层设置在第一绝缘层靠近架桥层的一侧,且开设有第二凹槽,导电网格层位于第二凹槽中。本申请提供的技术方案将架桥层与导电网格层设置在绝缘层的凹槽中,可以释放层内及层间的应力,使得导电网格层在触控模组在弯折时不会发生断裂,提高了触控屏的弯折性能。
附图说明
附图用来提供对本申请技术方案的理解,并且构成说明书的一部分,与本申请的实施例一起用于解释本申请的技术方案,并不构成对本申请技术方案的限制。
图1为本申请实施例提供的触控模组的俯视图;
图2A为图1沿A-A方向的剖视图;
图2B为图1沿B-B方向的剖视图;
图2C为图1沿C-C方向的剖视图;
图2D为图1沿D-D方向的剖视图;
图3为一种示例性实施例提供的第二绝缘层的俯视图;
图4A为一种示例性实施例提供的触控模组的第一剖面图;
图4B为一种示例性实施例提供的触控模组的第二剖面图;
图4C为一种示例性实施例提供的触控模组的第三剖面图;
图4D为一种示例性实施例提供的触控模组的第四剖面图;
图5为本申请实施例提供的触控模组的制作方法的流程图;
图6A为一种示例性实施例提供的触控模组的制作方法的一个示意图;
图6B为一种示例性实施例提供的触控模组的制作方法的另一示意图;
图6C为一种示例性实施例提供的触控模组的制作方法的又一示意图。
具体实施方式
本申请描述了多个实施例,但是该描述是示例性的,而不是限制性的,并且对于本领域的普通技术人员来说显而易见的是,在本申请所描述的实施例包含的范围内可以有更多的实施例和实现方案。尽管在附图中示出了许多可能的特征组合,并在具体实施方式中进行了讨论,但是所公开的特征的许多其它组合方式也是可能的。除非特意加以限制的情况以外,任何实施例的任何特征或元件可以与任何其它实施例中的任何其他特征或元件结合使用,或可以替代任何其它实施例中的任何其他特征或元件。
本申请包括并设想了与本领域普通技术人员已知的特征和元件的组合。本申请已经公开的实施例、特征和元件也可以与任何常规特征或元件组合,以形成由权利要求限定的独特的申请方案。任何实施例的任何特征或元件也可以与来自其它申请方案的特征或元件组合,以形成另一个由权利要求限定的独特的申请方案。因此,应当理解,在本申请中示出和/或讨论的任何特征可以单独地或以任何适当的组合来实现。因此,除了根据所附权利要求及其等同替换所做的限制以外,实施例不受其它限制。此外,可以在所附权利要求的保护范围内进行各种修改和改变。
此外,在描述具有代表性的实施例时,说明书可能已经将方法和/或过程呈现为特定的步骤序列。然而,在该方法或过程不依赖于本文步骤的特定顺序的程度上,该方法或过程不应限于的特定顺序的步骤。如本领域普通技术人员将理解的,其它的步骤顺序也是可能的。因此,说明书中阐述的步骤的特定顺序不应被解释为对权利要求的限制。此外,针对该方法和/或过程的权利要求不应限于按照所写顺序执行它们的步骤,本领域技术人员可以容易地理解,这些顺序可以变化,并且仍然保持在本申请实施例的精神和范围内。
除非另外定义,本申请实施例公开使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述的对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
图1为本申请实施例提供的触控模组的俯视图,图2A为图1沿A-A方向的剖视图,图2B为图1沿B-B方向的剖视图,图2C为图1沿C-C方向的剖视图,图2D为图1沿D-D方向的剖视图。如图1和2所示,本申请实施例提供的触控模组包括:第一绝缘层10、第二绝缘层20、架桥层30和导电网格层40。
第一绝缘层10开设有第一凹槽V1,架桥层30位于第一凹槽V1中;第二绝缘层10设置在第一绝缘层10靠近架桥层30的一侧,且开设有第二凹槽V2,导电网格层40位于第二凹槽V2中连接。
如图1所示,在一种示例性实施例中,导电网格层40包括:交叉绝缘设置的多个第一触控电极41和多个第二触控电极42。
每个第一触控电极41为条状电极,每个第二触控电极42包括:多个独立的子电极420,同一第二触控电极包括的相邻子电极通过架桥层30连接。
在一种示例性实施例中,第一触控电极可以为驱动电极,第二触控电极可以为感应电极,或者第一触控电极可以为感应电极,第二触控电极为驱动电极。
本申请实施例提供的触控模组包括:第一绝缘层、第二绝缘层、导电网格层和架桥层,导电网格层包括:交叉绝缘设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极;每个第一触控电极为条状电极,每个第二触控电极包括:多个独立的子电极,同一第二触控电极包括的相邻子电极通过架桥层连接;第一绝缘层开设有第一凹槽,架桥层位于第一凹槽中;第二绝缘层设置在第一绝缘层靠近架桥层的一侧,且开设有第二凹槽,导电网格层位于第二凹槽中。本申请提供的技术方案将架桥层与导电网格层设置在绝缘层的凹槽中,可以释放层内及层间的应力,使得导电网格层在触控模组在弯折时不会发生断裂,提高了触控屏的弯折性能。
图3为一种示例性实施例提供的第二绝缘层的俯视图,如图2A、图2B和图3所示,第二绝缘层20中的第二凹槽V2包括:多个第一子凹槽V21和多个第二子凹槽V22,第一子凹槽V21与第一触控电极一一对应,第一触控电极位于对应的第一子凹槽中,第二子凹槽V22与第二触控电极一一对应,第二触控电极位于对应的第二子凹槽中。
如图2A所示,第二绝缘层20还设置有过孔,第二触控电极42中的子电极通过过孔与架桥层30连接。
在一种示例性实施例中,第一子凹槽V21的深度D1小于或者等于第二绝缘层20的厚度H,图2B是以第一子凹槽V21的深度等于第二绝缘层的厚度为例进行说明的。
在一种示例性实施例中,第二子凹槽V22的深度D2小于第二绝缘层20的厚度H。
在一种示例性实施例中,第一子凹槽在第一绝缘层的正投影与第一凹槽在第一绝缘层的正投影部分重叠,第二子凹槽在第一绝缘层的正投影与第一凹槽在第一绝缘层的正投影部分重叠。
在一种示例性实施例中,第一绝缘层和第二绝缘层为有机层,有机层的制作材料包括:负性光刻胶。
本申请中第一绝缘层和第二绝缘层采用有机层,增强了第一绝缘层和第二绝缘层之间的附着力,可以减少沉积、刻蚀以及剥离等工艺,简化了触控模组的制作工艺,还可以避免坡度角调整难、刻蚀均一性差以及膜层易断裂的技术问题。
在一种可能的实现方式中,第一触控电极和第二触控电极为金属电极,架桥层的制作材料为金属,其中,第一触控电极、第二触控电极和架桥层可以为单层金属结构,或者可以为多层金属结构。当为单层金属结构时,金属可以为铝、银等。当为多层金属结构时,第一触控电极、第二触控电极和架桥层分别包括:层叠设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,其中,第一金属层和第三金属层的制作材料可以为钛,第二金属层的制作材料可以为铝。
由于金属材料具有更好的延展性,不易断裂,因而本申请采用金属材料制作导电网格层和架桥层,可以提高触控模组的可弯折性能,使得触控模组更适合柔性显示装置。
图4A为一种示例性实施例提供的触控模组的第一剖面图,图4B为一种示例性实施例提供的触控模组的第二剖面图,图4C为一种示例性实施例提供的触控模组的第三剖面图,图4D为一种示例性实施例提供的触控模组的第四剖面图,如图4所示,一种示例性实施例提供的触控模组还包括:保护层50。
保护层50位于导电网格层40远离第二绝缘层20的一侧,用于保护导电网格层40。
在一种示例性实施例中,保护层的制作材料为有机材料,有机材料可以为负性光刻胶,以隔绝水氧。
图5为本申请实施例提供的触控模组的制作方法的流程图。如图5所示,本申请实施例提供的触控模组的制作方法,用于制作触控模组,具体包括以下步骤:
步骤S1、形成开设有第一凹槽的第一绝缘层。
步骤S2、在第一绝缘层的第一凹槽内形成架桥层。
步骤S3、在第一绝缘层靠近架桥层的一侧形成开设有第二凹槽的第二绝缘层。
步骤S4、在第二绝缘层的第二凹槽内形成与架桥层连接的导电网格层。
本申请实施例提供的触控模组的制作方法用于制作前述实施例提供的触控模组,实现原理和实现效果类似,在此不再赘述。
为了方便说明,本申请实施例中的光刻工艺包括:曝光和显影工艺,构图工艺包括:光刻胶涂覆,曝光、显影、刻蚀和剥离工艺。
在一种示例性实施例中,步骤S1包括:形成第一有机薄膜;通过光刻工艺对第一有机薄膜进行处理,形成开设有第一凹槽的第一绝缘层。
形成第一有机薄膜包括:涂覆第一有机薄膜。
在一种示例性实施例中,步骤S2包括:在第一绝缘层上形成第一金属薄膜;通过构图工艺对第一金属薄膜进行处理,形成架桥层。
在第一绝缘层上形成第一金属薄膜包括:在第一绝缘层上沉积第一金属薄膜。
在一种示例性实施例中,步骤S3包括:在第一绝缘层靠近架桥层的一侧形成第二有机薄膜;通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽的第二绝缘层。
在第一绝缘层靠近架桥层的一侧形成第二有机薄膜包括:在第一绝缘层靠近架桥层的一侧涂覆第二有机薄膜。
通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽的第二绝缘层包括:采用第一掩膜版,通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,在第二有机薄膜上形成第二凹槽;采用第二掩膜版,通过光刻工艺对形成有第二凹槽的第二有机薄膜进行处理形成过孔。
在一种示例性实施例中,步骤S4包括:在第二绝缘层上形成第二金属薄膜;通过构图工艺对第二金属薄膜进行处理,形成导电网格层。
在一种示例性实施例提供的触控模组的制作方法在步骤S4之后还包括:在导电网格层上形成保护薄膜;通过光刻工艺对保护薄膜进行处理,形成原始保护层;对原始保护层进行烘烤形成保护层。
下面结合附图6A~6C进一步说明触控模组的制作方法。
步骤100、涂覆第一有机薄膜,通过光刻工艺对第一有机薄膜进行处理,形成开设有第一凹槽V1的第一绝缘层10,如图6A所示。
步骤200、在第一绝缘层10上沉积第一金属薄膜,通过构图工艺对第一金属薄膜进行处理,形成架桥层30,如图6B所示。
步骤300、在第一绝缘层10靠近架桥层30的一侧涂覆第二有机薄膜,通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽V2和过孔的第二绝缘层20,如图6C所示。
步骤400、在第二绝缘层20上沉积第二金属薄膜,通过构图工艺对第二金属薄膜进行处理,形成导电网格层40,如图2A所示。
步骤500、在导电网格层40上形成保护薄膜;通过光刻工艺对保护薄膜进行处理,形成原始保护层;对原始保护层进行烘烤形成保护层50,如图4A所示。
本申请实施例还提供一种触控显示装置,包括:触控模组。
触控显示装置还包括:显示面板,触控模组位于显示面板的一侧。
触控模组为前述实施例提供的触控模组,实现原理和实现效果类似,在此不再赘述。
在一种示例性实施例中,触控模组可以位于显示面板的出光侧,或者可以位于显示面板的入光侧。
在一种示例性实施例中,显示面板可以是应用于液晶显示装置的显示面板,也可以是应用于有机发光二极管显示装置的显示面板,或者是应用于其他类型的显示装置的显示面板。
本申请实施例附图只涉及本申请实施例涉及到的结构,其他结构可参考通常设计。
为了清晰起见,在用于描述本申请的实施例的附图中,层或微结构的厚度和尺寸被放大。可以理解,当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时,该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”,或者可以存在中间元件。
虽然本申请所揭露的实施方式如上,但所述的内容仅为便于理解本申请而采用的实施方式,并非用以限定本申请。任何本申请所属领域内的技术人员,在不脱离本申请所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化,但本申请的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (13)
1.一种触控模组,其特征在于,包括:第一绝缘层、第二绝缘层、导电网格层和架桥层,所述导电网格层包括:交叉绝缘设置的多个第一触控电极和多个第二触控电极;每个第一触控电极为条状电极,每个第二触控电极包括:多个独立的子电极,同一第二触控电极包括的相邻子电极通过架桥层连接;
所述第一绝缘层开设有第一凹槽,所述架桥层位于所述第一凹槽中;所述第二绝缘层设置在第一绝缘层靠近所述架桥层的一侧,且开设有第二凹槽,所述导电网格层位于所述第二凹槽中。
2.根据权利要求1所述的触控模组,其特征在于,所述第二凹槽包括:多个第一子凹槽和多个第二子凹槽,第一子凹槽与第一触控电极一一对应,第一触控电极位于对应的第一子凹槽中,第二子凹槽与第二触控电极一一对应,第二触控电极位于对应的第二子凹槽中;
所述第二绝缘层还设置有过孔,第二触控电极中的子电极通过所述过孔与架桥层连接。
3.根据权利要求2所述的触控模组,其特征在于,所述第一子凹槽的厚度小于或者等于所述第二绝缘层的厚度,第二子凹槽的厚度小于第二绝缘层的厚度。
4.根据权利要求2所述的触控模组,其特征在于,所述第一子凹槽在第一绝缘层的正投影与所述第一凹槽在第一绝缘层的正投影部分重叠,所述第二子凹槽在第一绝缘层的正投影与所述第一凹槽在第一绝缘层的正投影部分重叠。
5.根据权利要求1所述的触控模组,其特征在于,所述第一绝缘层和所述第二绝缘层为有机层。
6.根据权利要求1所述的触控模组,其特征在于,所述第一触控电极和所述第二触控电极为金属电极,所述架桥层的制作材料为金属。
7.根据权利要求1所述的触控模组,其特征在于,所述触控模组还包括:保护层;
所述保护层位于所述导电网格层远离所述第二绝缘层的一侧,用于保护所述导电网格层。
8.一种触控模组的制作方法,其特征在于,用于制作如权利要求1至7任一项所述的触控模组,方法包括:
形成开设有第一凹槽的第一绝缘层;
在第一绝缘层的第一凹槽内形成架桥层;
在第一绝缘层靠近架桥层的一侧形成开设有第二凹槽的第二绝缘层;
在第二绝缘层的第二凹槽内形成与架桥层连接的导电网格层。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述形成开设有第一凹槽的第一绝缘层包括:
形成第一有机薄膜;
通过光刻工艺对第一有机薄膜进行处理,形成开设有第一凹槽的第一绝缘层;
所述在第一绝缘层靠近所述架桥层的一侧形成开设有第二凹槽的第二绝缘层包括:
在第一绝缘层靠近架桥层的一侧形成第二有机薄膜;
通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽的第二绝缘层。
10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在第一绝缘层的第一凹槽内形成架桥层包括:
在第一绝缘层上形成第一金属薄膜;
通过构图工艺对第一金属薄膜进行处理,形成架桥层;
所述在第二绝缘层的第二凹槽内形成导电网格层包括:
在第二绝缘层上形成第二金属薄膜;
通过构图工艺对第二金属薄膜进行处理,形成导电网格层。
11.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,形成开设有第二凹槽的第二绝缘层包括:
采用第一掩膜版,通过光刻工艺对第二有机薄膜进行处理,在第二有机薄膜上形成第二凹槽;
采用第二掩膜版,通过光刻工艺对形成有第二凹槽的第二有机薄膜进行处理形成过孔。
12.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在第二绝缘层的第二凹槽内形成导电网格层之后,所述方法还包括:
在所述导电网格层上形成保护薄膜;
通过光刻工艺对保护薄膜进行处理,形成原始保护层;
对原始保护层进行烘烤形成保护层。
13.一种触控显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1至7任一项所述的触控模组。
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