CN111206212A - 一种高精度空心全反镜的生产工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种高精度空心全反镜的生产工艺，包括：S1：将基体切割成有规则的矩形块；S2：使用激光微孔打孔扫描处理在所述基体表面形成孔径、孔距和孔深为10～150nm的微孔，所述微孔的密度为100～300目；S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体；S4：将所述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；S5：使用电子束蒸镀在所述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜；S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；S7：再次使用溅射在所述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜；封装后处理；将所述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。其流程简单，且其制得的全反镜可以保持较长时间的清洁，反射率较高。

Description

一种高精度空心全反镜的生产工艺
技术领域
本发明涉及生产工艺，具体涉及一种高精度空心全反镜的生产工艺。
背景技术
现有技术常用的反光镜在汽车、急转路、太阳能聚光器等使用过程中，暴露在空气中的时间稍长，反光镜的表面就会附着大量灰尘污渍，使反光镜的光反射性能严重下降，另外水滴及液态油性污染物黏着在反射镜上时间过久也会使得反光镜的性能严重降低，因此，普通的反光镜必须经常清洗，才能保持其反光性能。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种高精度空心全反镜的生产工艺，其流程简单，且其制得的全反镜可以保持较长时间的清洁，反射率较高。
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种高精度空心全反镜的生产工艺，包括：
(1)基体的前处理；
S1：将基体切割成有规则的矩形块；
S2：使用氢氟酸、磷酸雾化腐蚀微孔处理、激光微孔打孔扫描处理、微小孔刻蚀加工处理、微小孔冲孔加工处理或微小孔电火花打孔加工处理在所述基体表面形成孔径、孔距和孔深为10～150nm的微孔，所述微孔的密度为100～300目；
S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体；
(2)沉积金属膜；
S4：将所述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；
S5：使用电子束蒸镀在所述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜；
S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；
S7：再次使用溅射、热蒸镀、电沉积或非电沉积在所述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜；
(3)封装后处理；
将所述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。
作为优选的，所述高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，包括：
(1)基体的前处理；
S1：将基体切割成有规则的矩形块；
S2：使用微小孔刻蚀加工处理在所述基体表面形成孔径、孔距和孔深为80nm的微孔，所述微孔的密度为200目；
S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体；
(2)镀制金属膜；
S4：将所述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；
S5：使用电子束蒸镀在所述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜；
S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；
S7：再次使用溅射在所述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜；
(3)封装后处理；
将所述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。
作为优选的，所述高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述洗涤的步骤为使用去污粉在其表面进行反复摩擦，后用清水冲洗。
作为优选的，所述高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述浸泡的时间为3～5min，浸泡的溶液为洗涤液，浸泡的温度为室温。
作为优选的，所述高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述基体为玻璃、硅或金属合金的一种。
作为优选的，所述高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述纳米银膜的厚度为200～350nm，所述纳米二氧化钛膜的厚度为100～200nm。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明在基体的表面设置微孔，能够提高镀膜的粘合程度，在其表面镀纳米银膜和纳米二氧化钛膜得到反射膜，所述反射膜具有良好的透光性、超清水性和超亲油性，油渍或污渍在阳光紫外线作用下可分解脱落，实现自洁净性能。
2、本发明在镀金属膜前首先在所述待蒸镀基体表面铺设纳米粒子阵列，在镀纳米银膜完成后将所述纳米粒子阵列清除，则纳米银膜会均匀平铺在所述纳米粒子间隙中，采用此方式可控制纳米银膜在所述待蒸镀基体上的形状和间距一方面能够减少银的使用，增强反射镜的反射率，另一方面增加纳米二氧化钛膜在所述纳米银膜上的粘合程度。
附图说明
为了更清楚的说明本发明实施例技术中的技术方案，下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还能够根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的制作流程图。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例
参照图1所示，本发明公开了一种高精度空心全反镜的生产工艺，包括：
(1)基体的前处理；
S1：将基体切割成有规则的矩形块；
S2：使用氢氟酸、磷酸雾化腐蚀微孔处理、激光微孔打孔扫描处理、微小孔刻蚀加工处理、微小孔冲孔加工处理或微小孔电火花打孔加工处理在上述基体表面形成孔径、孔距和孔深为10～150nm的微孔，上述微孔的密度为100～300目；
S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体；
(2)沉积金属膜；
S4：将上述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；
S5：使用电子束蒸镀在上述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜；
S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；
S7：再次使用使用溅射、热蒸镀、电沉积或非电沉积在上述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜；
(3)封装后处理；
将上述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。
本实施例一个优选的实施方式
一种高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，包括：
(1)基体的前处理；
S1：将基体切割成有规则的矩形块，上述基体为玻璃、硅或金属合金的一种；
S2：使用微小孔刻蚀加工处理在上述基体表面形成孔径、孔距和孔深为80nm的微孔，上述微孔的密度为200目；
S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体，其中洗涤的步骤为使用去污粉在其表面进行反复摩擦，后用清水冲洗，浸泡的时间为3～5min，浸泡的溶液为洗涤液，浸泡的温度为室温；
(2)镀制金属膜；
S4：将上述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；
S5：使用电子束蒸镀在上述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜，上述纳米银膜的厚度为200～350nm；
S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；
S7：再次使用溅射在上述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜，上述纳米二氧化钛膜的厚度为100～200nm；
(3)封装后处理；
将上述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。
上述基体切割可选用金刚石笔，通过上述金刚石笔可将基体切割成有规则的矩形块。
上述微小孔刻蚀加工处理能够刻蚀出纳米级别的微孔，且加工出来的微孔的精度高。
具体生产工艺如下：
1.纳米球刻蚀处理：在培养皿中放置去离子水，并滴加SDS表面活性剂，将聚苯乙烯、乙醇和去离子水混合液置于滴管中，将待蒸镀基体45度倾斜至培养皿中，将滴管沿着待蒸镀基体滴入培养皿中，形成聚苯乙烯单层膜，然后将聚苯乙烯单层膜转移到将待蒸镀基体上，在空气中干燥。
2.化学清洗去除纳米粒子：在乙醇溶液中常温下超声，超声的时间30min～60min，
3.溅射：上述溅射法采用的磁控溅射靶与所述待蒸镀基体的距离为220～350mm，二氧化钛靶高为1～1.5m、宽为110～150mm、厚为10～20mm。其中真空室的真空度达到10-3数量级帕斯卡以下，并使该真空室内保持10-2帕斯卡数量级的动态平衡压强，在镀制所述二氧化钛膜层时，关闭扩散泵，开启分子泵，真空度10-3帕斯卡数量级以下，二氧化钛靶表面磁场强度为80～90高斯；溅射电压-420V左右；溅射电流4～5A；充入氩气和氧气，控制氩、氧的流量比为1∶4，二氧化钛膜成膜速率控制在10nm/min-14nm/min。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理能够在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖点相一致的最宽的范围。

Claims (6)

1.一种高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，包括：
(1)基体的前处理；
S1：将基体切割成有规则的矩形块；
S2：使用氢氟酸、磷酸雾化腐蚀微孔处理、激光微孔打孔扫描处理、微小孔刻蚀加工处理、微小孔冲孔加工处理或微小孔电火花打孔加工处理在所述基体表面形成孔径、孔距和孔深为10～150nm的微孔，所述微孔的密度为100～300目；
S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体；
(2)沉积金属膜；
S4：将所述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；
S5：使用电子束蒸镀在所述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜；
S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；
S7：再次使用溅射、热蒸镀、电沉积或非电沉积在所述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜；
(3)封装后处理；
将所述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。
2.如权利要求1所述的高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，包括：
(1)基体的前处理；
S1：将基体切割成有规则的矩形块；
S2：使用微小孔刻蚀加工处理在所述基体表面形成孔径、孔距和孔深为80nm的微孔，所述微孔的密度为200目；
S3：依次经由洗涤、浸泡、烘干得到待蒸镀基体；
(2)镀制金属膜；
S4：将所述待蒸镀基体的反面经由纳米球刻蚀在其表面形成纳米粒子阵列；
S5：使用电子束蒸镀在所述纳米粒子阵列的表面沉积纳米银膜得到银反射膜；
S6：使用化学清洗将S4中的纳米粒子阵列去除；
S7：再次使用溅射在所述保护膜的表面沉积纳米二氧化钛膜得到反射膜；
(3)封装后处理；
将所述反射膜使用漂浮法在其反射面封装一层透明环氧树脂。
3.如权利要求1-2任一所述的高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述洗涤的步骤为使用去污粉在其表面进行反复摩擦，后用清水冲洗。
4.如权利要求1-2任一所述的高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述浸泡的时间为3～5min，浸泡的溶液为洗涤液，浸泡的温度为室温。
5.如权利要求1-2任一所述的高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述基体为玻璃、硅或金属合金的一种。
6.如权利要求1-2任一所述的高精度空心全反镜的生产工艺，其特征在于，所述纳米银膜的厚度为200～350nm，所述纳米二氧化钛膜的厚度为100～200nm。
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