CN111176488B - 显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板和显示装置。该显示面板包括显示基板和位于显示基板显示侧的触控层；显示基板具有显示区和围绕显示区设置的非显示区，显示基板包括位于显示区边缘区域且与非显示区相邻的边缘子像素；触控层包括触控区和虚拟触控区，在垂直于显示基板的方向上，虚拟触控区覆盖边缘子像素的至少部分区域，触控层在虚拟触控区的透光率小于触控层在触控区的透光率。改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。另外，虚拟触控区的触控层与触控区的触控层可以在同一工艺中形成，从而可以在改善显示面板边缘彩边或锯齿的同时，不会额外增加制作虚拟触控区的触控层的工艺。

Description

显示面板和显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

显示面板包括多个像素单元。在像素排布时，显示面板中边缘子像素存在单色子像素凸出的现象，从而使得显示面板的边缘出现彩边或锯齿状条纹等问题，影响显示面板的显示效果。

发明内容

本发明提供一种显示面板和显示装置，以提高显示面板的显示效果。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括显示基板和位于所述显示基板显示侧的触控层；

所述显示基板具有显示区和围绕所述显示区设置的非显示区，所述显示基板包括位于所述显示区的边缘区域且与所述非显示区相邻的边缘子像素；所述触控层包括触控区和虚拟触控区，在垂直于所述显示基板的方向上，所述虚拟触控区覆盖所述边缘子像素的至少部分区域，所述触控层在所述虚拟触控区的透光率小于所述触控层在所述触控区的透光率。该方案使边缘子像素发出的光透射到显示面板出光面的光量比较小，从而降低边缘子像素对应的显示区的发光亮度，进而改善了显示面板边缘彩边的问题，提高了显示面板的显示效果。另外，虚拟触控区的触控层和触控区的触控层同层设置，即虚拟触控区的触控层与触控区的触控层可以在同一工艺中形成，从而可以在改善显示面板边缘彩边或锯齿的同时，不会额外增加制作虚拟触控区的触控层的工艺，避免增加制作显示面板的工艺流程。

可选地，所述边缘子像素包括第一边缘子像素和第二边缘子像素，所述第一边缘子像素相对于所述第二边缘子像素朝向所述非显示区凸出设置，在垂直于所述显示基板的方向上，所述虚拟触控区覆盖所述第一边缘子像素朝向所述非显示区凸出的部分。

可选地，所述触控层包括多个触控单元，所述触控单元在所述虚拟触控区的分布密度大于所述触控单元在所述触控区的分布密度。该方案可以实现虚拟触控区的透光率小于触控区的透光率，从而使边缘子像素发出的光透射到显示面板出光面的光量比较小，从而降低边缘子像素对应的显示区的发光亮度，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。而且，虚拟触控区的触控单元和触控区的触控单元同层设置，即虚拟触控区的触控单元与触控区的触控单元可以在同一工艺中形成，从而可以在改善显示面板边缘彩边或锯齿的同时，不会额外增加制作虚拟触控区的触控单元的工艺，避免增加制作显示面板的工艺流程。

可选地，所述触控单元在所述虚拟触控区的面积小于所述触控单元在所述触控区的面积。该方案可以更利于实现触控单元在虚拟触控区的分布密度大于触控单元在触控区的分布密度，从而实现虚拟触控区的透光率小于触控区的透光率。

可选地，所述触控层包括触控电极，所述触控电极在所述虚拟触控区的分布密度大于所述触控电极在所述触控区的分布密度；

优选地，所述触控电极包括异层设置的第一触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极在所述虚拟触控区的分布密度大于所述第一触控电极在所述触控区的分布密度，和/或所述第二触控电极在所述虚拟触控区的分布密度大于所述第二触控电极在所述触控区的分布密度。该方案可以实现虚拟触控区的透光率小于触控区的透光率。从而使边缘子像素发出的光透射到显示面板出光面的光量比较小，从而降低边缘子像素对应的显示区的发光亮度，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。而且，虚拟触控区的触控电极和触控区的触控电极同层设置，即虚拟触控区的触控电极与触控区的触控电极可以在同一工艺中形成，从而可以在改善显示面板边缘彩边或锯齿的同时，不会额外增加制作虚拟触控区的触控电极的工艺，避免增加制作显示面板的工艺流程。

可选地，所述触控层包括电介质层，所述电介质层在所述虚拟触控区的透光率小于所述电介质层在所述触控区的透光率。该方案可以进一步地使虚拟触控区的透光率小于触控区的透光率，边缘子像素发出的光透射到显示面板出光面的光量进一步减小，从而进一步降低边缘子像素对应的显示区的发光亮度，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。

可选地，所述电介质层的透光率为50％～90％；优选地，所述电介质层的材料包括氮氧化硅。该方案可以根据需要调节虚拟触控区的挡光作用，进而可以调节虚拟触控区覆盖的边缘子像素发出的光透射至显示面板出光面的光量，从而可以根据需要更好的改善边缘彩边或锯齿的问题。优选地，通过设置电介质层在虚拟触控区的氮氧含量与电介质层在触控区的氮氧含量不同，从而实现电介质层在虚拟触控区的透光率小于电介质层在触控区的透光率。

可选地，所述电介质层在所述虚拟触控区的厚度大于所述电介质层在所述触控区的厚度；

优选地，所述电介质层在所述虚拟触控区的厚度大于120nm且小于800nm。该方案可以既可以实现电介质层的绝缘作用，还可以使电介质层的透光率在50％～90％内，从而实现根据需要调节虚拟触控区的挡光作用。

可选地，所述虚拟触控区与所述触控区相邻的边缘呈直线形、锯齿形或弧形。该方案中虚拟触控区与触控区相邻边缘的形状可以根据显示面板的边缘子像素的边缘形状适应性变化，以改善异形屏和矩形屏等不同显示屏的边缘彩边或锯齿问题。

可选地，所述虚拟触控区由所述显示区的边缘向所述显示区的中心延伸的长度为25μm～50μm。该方案既可以对显示面板显示时边缘彩边对应的部分进行覆盖，而且可以避免虚拟触控区覆盖其他子像素造成的降低显示面板的出光率的问题。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明任意实施例提供的显示面板。

本发明实施例的技术方案，通过设置触控层包括触控区和虚拟触控区，在垂直于显示基板的方向上，虚拟触控区覆盖边缘子像素的至少部分区域，触控层在虚拟触控区的透光率小于触控层在触控区的透光率。边缘子像素发出的光经虚拟触控区的触控层阻挡，使边缘子像素发出的光透射到显示面板出光面的光量比较小，从而降低边缘子像素对应的显示区的发光亮度，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。另外，虚拟触控区的触控层和触控区的触控层同层设置，即虚拟触控区的触控层与触控区的触控层可以在同一工艺中形成，从而可以在改善显示面板边缘彩边或锯齿的同时，不会额外增加制作虚拟触控区的触控层的工艺，避免增加制作显示面板的工艺流程。

附图说明

图1为现有的一种显示面板的像素排布的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；

图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

显示面板包括多个像素单元，每个像素单元包括多个子像素。在像素排布时，为了保证子像素的完整，在显示面板的边缘区域，会存在子像素与边缘处的边界线不能完全的匹配，形成锯齿状缺口，导致显示面板显示时，在边缘处形成彩边或锯齿等显示不良的问题，影响显示面板的显示效果。图1为现有的一种显示面板的像素排布的结构示意图。如图1所示，显示面板10为矩形显示面板，在显示面板10上阵列排布多个不同颜色的子像素，其中的R为红色子像素，G为绿色子像素，B为蓝色子像素，R、G和B形成一个像素单元。由于像素排布和不同颜色子像素的尺寸需求，显示面板10的第一行中只包括绿色子像素，最后一行只包括红色子像素，从而导致了显示面板10第一行子像素对应的显示区域出现边缘绿边，最后一行子像素对应的显示区域出现边缘红边，从而影响显示面板的显示效果。

针对上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示面板。该显示面板包括显示基板和位于显示基板显示侧的触控层；显示基板具有显示区和围绕显示区设置的非显示区，显示基板包括位于显示区的边缘区域且与非显示区相邻的边缘子像素；触控层包括触控区和虚拟触控区，在垂直于显示基板的方向上，虚拟触控区覆盖边缘子像素的至少部分区域，触控层在虚拟触控区的透光率小于触控层在触控区的透光率。

上述技术方案中，边缘子像素位于像素结构的最边缘，且多个相邻的边缘子像素构成的靠近非显示区的外轮廓与显示区边缘对应位置处的轮廓线不匹配。例如，在异形屏(俗称刘海屏)中，边缘子像素为位于像素结构的最边缘且靠近异形区的子像素；在具有倒角的矩形屏中，边缘子像素为位于像素结构的最边缘且靠近倒角区的子像素；另外，对于一些具有特殊像素排布的像素结构，例如图1所示的像素结构，由于每个像素单元中，各子像素呈品字形排布，使得在某一排布方向上(如行方向)，最边缘的子像素构成的靠近非显示区的外轮廓呈现明显的凹凸线条，其与显示区边缘对应位置处直线轮廓线不匹配，此时，边缘子像素即为位于像素结构的最边缘且靠近该直线轮廓线的子像素。在显示面板的设计中，由于边缘子像素的存在，导致在显示图像时显示区在对应边缘子像素的区域会呈现出彩边或锯齿现象。

具体地，显示基板可以包括驱动电路和发光器件。即在基板上形成薄膜晶体管和电容等器件以形成驱动电路，驱动电路与发光器件连接，用于驱动发光器件发光。触控层的触控区和虚拟触控区均设置有触控单元，而触控区的触控单元可以与触控电路连接，使其具有触控功能，虚拟触控区的触控单元不与触控电路连接，使其不具有触控功能。触控层在虚拟触控区的透光率小于触控层在触控区的透光率，当虚拟触控区覆盖边缘子像素的至少部分区域时，边缘子像素发出的光经虚拟触控区的触控层阻挡，使边缘子像素发出的光透射到显示面板出光面的光量比较小，从而降低边缘子像素对应的显示区的发光亮度，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。另外，虚拟触控区的触控层和触控区的触控层同层设置，即虚拟触控区的触控层与触控区的触控层可以在同一工艺中形成，从而可以在改善显示面板边缘彩边或锯齿的同时，不会额外增加制作虚拟触控区的触控层的工艺，避免增加制作显示面板的工艺流程。

示例性地，图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图2所示，显示面板包括显示基板100和位于显示基板100上的触控层200。显示基板100包括显示区110和非显示区120，显示基板100包括位于显示区110边缘区域且与非显示区120相邻的边缘子像素P1。触控层200包括触控区210和虚拟触控区220，在垂直于显示基板100的方向上，虚拟触控区220覆盖边缘子像素P1的至少部分区域。

具体地，虚拟触控区220的触控层200的透光率比较低，被虚拟触控区220至少部分覆盖的边缘子像素P1发出的光透射至显示面板出光面的光量比较少，使得边缘子像素P1对应的显示区110的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘子像素P1对应的显示区110显示不良的问题，提高了显示面板的显示效果。

需要说明的是，图2中示例性地示出了显示面板为矩形显示面板，其边缘子像素P1为显示面板的第一行子像素和最后一行子像素。在一些实施例中，针对不同的像素排布或显示区边缘的设计，边缘子像素还可以为显示面板的第一列子像素和最后一列子像素。而在其他实施例中，当显示面板为异形显示面板时，边缘子像素还可以包括异形区边缘的子像素。图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。如图3所示，显示面板存在圆角，在圆角处，显示面板的边缘子像素P1分布在多行子像素中。虚拟触控区220可以将不同行的边缘子像素P1至少部分覆盖，以减少边缘子像素P1发出的光透射至显示面板出光面的光量，使得边缘子像素P1对应的显示区110的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘子像素P1对应的显示区110显示不良的问题，提高了显示面板的显示效果。

可选地，边缘子像素包括第一边缘子像素和第二边缘子像素，第一边缘子像素相对于第二边缘子像素朝向非显示区凸出设置，在垂直于显示基板的方向上，虚拟触控区覆盖第一边缘子像素朝向非显示区凸出的部分。

示例性地，参考图1和图2，第一行边缘子像素中，绿色子像素G为第一边缘子像素，蓝色子像素B为第二边缘子像素，绿色子像素G相对于蓝色子像素B朝向非显示区120凸出设置。此时，在垂直于显示基板的方向上，通过设置虚拟触控区覆盖绿色子像素G朝向非显示区120凸出的部分，可以降低绿色子像素G朝向非显示区120凸出的部分光的透过率，从而降低所覆盖的该绿色子像素G的垂直光的发光亮度，进而改善显示区的边缘彩边(绿色线条)问题。

由此，通过设置虚拟触控区覆盖边缘子像素中第一边缘子像素相对于第二边缘子像素朝向非显示区凸出的部分，即可实现对显示面板显示时边缘显示不良对应的部分进行覆盖，从而改善显示面板的显示效果。

可选地，虚拟触控区由显示区的边缘向显示区的中心延伸的长度为25μm～50μm。

示例性地，不同颜色子像素构成一个像素单元，一个像素单元的边长为50μm～100μm。边缘子像素(第一边缘子像素)相对于其他子像素(第二边缘子像素)朝向非显示区凸出的部分的长度，占据像素单元边长的三分之一至二分之一，因此可以设置虚拟触控区由显示区的边缘向显示区的中心延伸的长度为25μm～50μm，使虚拟触控区覆盖边缘子像素相对于其他子像素朝向非显示区凸出的部分，既可以对显示面板显示时边缘显示不良对应的部分进行覆盖，又可以避免虚拟触控区覆盖其他子像素造成的显示面板的出光率降低。

可选地，虚拟触控区与触控区相邻的边缘在显示基板上的正投影呈直线形、锯齿形或弧形。

具体地，虚拟触控区与触控区相邻边缘在显示基板上的正投影的形状可以根据显示面板的边缘子像素排布适应性变化。示例性地，继续参考图2，当部分边缘子像素相对于其他边缘子像素朝向非显示区凸出设置，且各部分边缘子像素凸出的部分在同一矩形区域时，虚拟触控区220与触控区210相邻的边缘在显示基板上的正投影可以呈直线型。如图3所示，当显示面板的边缘子像素在靠近倒角区呈阶梯排布时，虚拟触控区220与触控区210相邻的边缘在显示基板上的正投影可以呈弧形。另外，图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。如图4所示，当显示面板的边缘子像素在靠近倒角区呈阶梯排布时，虚拟触控区220与触控区210相邻的边缘在显示基板上的正投影还可以呈锯齿形。本实施例对虚拟触控区220与触控区210相邻边缘在显示基板上的正投影的形状不作限定，只要虚拟触控区220可以覆盖边缘子像素的至少部分即可。

图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。如图5所示，触控层包括多个触控单元201，触控单元201在虚拟触控区220的分布密度大于触控单元201在触控区210的分布密度。

需要说明的是，本发明各实施例中，分布密度是指单位面积内，触控单元或触控电极所占面积的大小。

具体地，触控区210的触控单元201与触控电路电连接，具有触控功能。而虚拟触控区220的触控单元201为虚拟触控单元，即不与触控电路电连接，不具有触控功能。触控单元201的透光率比较低，当触控单元201在虚拟触控区220的分布密度大于触控单元201在触控区210的分布密度时，虚拟触控区220的透光率小于触控区210的透光率，使得虚拟触控区220覆盖边缘子像素P1的至少部分区域时，边缘子像素P1发出的光经虚拟触控区220的触控层阻挡，透射到显示面板的出光侧的光量比较小，从而降低边缘子像素P1对应的显示区110的发光亮度，进而改善了显示面板边缘子像素P1对应的显示区110显示不良的问题，提高了显示面板的显示效果。

另外，继续参考图5，触控单元201的面积大于像素单元的面积，可以设置在虚拟触控区220的触控单元201延伸至非显示区120，使得虚拟触控区220的触控单元201覆盖边缘子像素P1的至少部分区域，避免虚拟触控区220的触控单元201减弱触控区210的子像素发出的光透射至显示面板出光面的光量，保证了显示面板的发光亮度。

需要说明的是，触控单元201的形状不做具体限定，图5中仅是示例性地示出了一种触控单元201的形状。在其他实施例中，触控单元201还可以为菱形等其他形状。

继续参考图5，触控单元201在虚拟触控区220的面积小于触控单元201在触控区210的面积。

具体地，基于上述技术方案，在触控单元在虚拟触控区的分布密度大于触控单元在触控区的分布密度的情况下，触控单元201的面积越小，在相同的面积内，触控单元201排布的更加密集，有利于实现触控单元201在虚拟触控区220的设置，同时降低虚拟触控区220对光的透过率，即虚拟触控区220的透光率小于触控区的透光率，从而降低了虚拟触控区220覆盖的边缘子像素P1至少部分区域的光透射至显示面板出光面的光量，从而降低边缘子像素P1对应的显示区110的发光亮度，进而改善了显示面板边缘子像素P1对应的显示区110显示不良的问题，提高了显示面板的显示效果。

继续参考图5，触控层包括触控电极，触控电极在虚拟触控区220的分布密度大于触控电极在触控区210的分布密度。

具体地，触控电极可以组成触控层中的触控单元201。当显示面板的触控为电容式触控时，触控电极可以为形成电容极板的导电层。触控电极的材料可以为金属，也可以为半导体导电材料，例如为氧化铟锡等。触控电极的透光率比较低，当显示基板100的出光侧设置有触控电极时，触控电极在显示基板100上正投影覆盖的子像素发出的光，经触控电极挡光作用，相对于没有触控电极在显示基板100上正投影覆盖的子像素发出的光，其透射至显示面板出光面的光量减少。因此设置触控电极在虚拟触控区220的分布密度大于触控电极在触控区210的分布密度时，触控电极对虚拟触控区220对应的边缘子像素P1的挡光作用大于触控电极对触控区210对应的子像素的挡光作用，使得虚拟触控区220覆盖的边缘子像素P1发出的光，相对于触控区210覆盖的子像素发出的光，边缘子像素P1发出的光透射至显示面板出光面的光量比较少，因此边缘子像素P1对应的显示区110的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘子像素P1对应的显示区110显示不良的问题，提高了显示面板的显示效果。

在其他实施例中，触控电极包括异层设置的第一触控电极和第二触控电极，第一触控电极在虚拟触控区的分布密度大于第一触控电极在触控区的分布密度，和/或第二触控电极在虚拟触控区的分布密度大于第二触控电极在触控区的分布密度。

具体地，第一触控电极和第二触控电极均为导电电极，可以分别作为电容式触控电极中触控电容的第一电容极板和第二电容极板，第一触控电极和第二触控电极在显示基板上的正投影有交叠，从而形成触控电容。第一触控电极和第二触控电极的材料均可以为金属，也可以为半导体导电材料，因此第一触控电极和第二触控电极的透光率均比较低。当第一触控电极在虚拟触控区的分布密度大于第一触控电极在触控区的分布密度时，第一触控电极对虚拟触控区对应的边缘子像素的挡光作用大于第一触控电极对触控区对应的子像素的挡光作用。因此虚拟触控区覆盖的边缘子像素发出的光，相对于触控区覆盖的子像素发出的光，边缘子像素发出的光透射显示面板出光面的光量比较少，因此边缘子像素对应的显示区的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。同理，当第二触控电极在虚拟触控区的分布密度大于第二触控电极在触控区的分布密度时，第二触控电极对虚拟触控区对应的边缘子像素的挡光作用大于第二触控电极对触控区对应的子像素的挡光作用。因此虚拟触控区覆盖的边缘子像素发出的光，相对于触控区覆盖的子像素发出的光，边缘子像素发出的光透射显示面板出光面的光量比较少，因此边缘子像素对应的显示区的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。

另外，还可以设置第一触控电极在虚拟触控区的分布密度大于第一触控电极在触控区的分布密度，和第二触控电极在虚拟触控区的分布密度大于第二触控电极在触控区的分布密度，此时第一触控电极对虚拟触控区对应的边缘子像素的挡光作用大于第一触控电极对触控区对应的子像素的挡光作用，同时第二触控电极对虚拟触控区对应的边缘子像素的挡光作用大于第二触控电极对触控区对应的子像素的挡光作用。因此虚拟触控区覆盖的边缘子像素发出的光，相对于触控区覆盖的子像素发出的光，边缘子像素发出的光透射显示面板出光面的光量更少，边缘子像素对应的显示区的发光亮度更低，进一步地改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。

图6为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图。如图6所示，显示面板的触控层包括电介质层240，电介质层240在虚拟触控区220的透光率小于电介质层240在触控区210的透光率。

具体地，电介质层240设置于第一触控电极250和第二触控电极260之间，用于绝缘第一触控电极250和第二触控电极260，使得第一触控电极250、电介质层240和第二触控电极260形成触控电容。当电介质层240在虚拟触控区220的透光率小于电介质层240在触控区210的透光率时，触控层在虚拟触控区220的透光率小于触控层在触控区210的透光率，因此虚拟触控区220的触控层对边缘子像素的挡光作用大于触控区210的触控层对其他子像素的挡光作用，因此虚拟触控区220覆盖的边缘子像素发出的光相对于触控区210覆盖的子像素发出的光，边缘子像素发出的光透射显示面板出光面的光量比较少，因此边缘子像素对应的显示区的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。

可选地，当电介质层240在虚拟触控区220的透光率小于电介质层240在触控区210的透光率时，还可以设置第一触控电极250和/或第二触控电极260在虚拟触控区220的分布密度大于在触控区210的分布密度。可以进一步地降低虚拟触控区220的透光率，从而可以进一步的减少边缘子像素发出的光透射显示面板出光面的光量，进一步地改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。

可选地，电介质层的透光率可以为50％～90％。通过调节电介质层的透光率，可以根据需要调节虚拟触控区的挡光作用，进而可以调节虚拟触控区覆盖的边缘子像素发出的光透射至显示面板出光面的光量，从而可以根据需要更好的改善边缘彩边或锯齿的问题。示例性地，电介质层的材料包括氮氧化硅。通过调节氮氧化硅中氮氧的含量，调节氮氧化硅形成的电介质层的透光率。在上述过程中，通过设置电介质层在虚拟触控区的氮氧含量与电介质层在触控区的氮氧含量不同，从而实现电介质层在虚拟触控区的透光率小于电介质层在触控区的透光率。

图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图。如图7所示，电介质层240在虚拟触控区220的厚度大于电介质层240在触控区210的厚度。

具体地，电介质层240的透光率与电介质层240的厚度成反比。电介质层240的厚度越厚，电介质240的透光率越低。通过设置电介质层240在虚拟触控区220的厚度大于电介质层240在触控区210的厚度，使得电介质层240在虚拟触控区220的透光率小于电介质层240在触控区210的透光率。当电介质层240在虚拟触控区220的透光率小于电介质层240在触控区210的透光率时，触控层在虚拟触控区220的透光率小于触控层在触控区210的透光率，因此虚拟触控区220的触控层对边缘子像素的挡光作用大于触控区210的触控层对其他子像素的挡光作用，因此虚拟触控区220覆盖的边缘子像素发出的光相对于触控区210覆盖的子像素发出的光，边缘子像素发出的光透射显示面板出光面的光量比较少，因此边缘子像素对应的显示区的发光亮度比较低，进而改善了显示面板边缘彩边或锯齿的问题，提高了显示面板的显示效果。示例性地，电介质层240在虚拟触控区220的厚度大于120nm且小于800nm，既可以实现电介质层240的绝缘作用，还可以使电介质层240的透光率在50％～90％内，从而实现根据需要调节虚拟触控区的挡光作用。当电介质层240在虚拟触控区220的厚度可以大于120nm且小于800nm时，电介质层240在触控区220的厚度范围可以为大于120nm且小于500nm。

本发明实施例还提供一种显示装置。图8为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图8所示，该显示装置30包括本发明任意实施例提供的显示面板31，显示装置30可以是手机、电脑、平板或者可穿戴设备等，该显示装置30包括本发明任意实施例提供的像素结构，因此也具有相同的有益效果，在此不再赘述。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (12)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示基板和位于所述显示基板显示侧的触控层；

所述显示基板具有显示区和围绕所述显示区设置的非显示区，所述显示基板包括位于所述显示区的边缘区域且与所述非显示区相邻的边缘子像素；所述触控层包括触控区和虚拟触控区，在垂直于所述显示基板的方向上，所述虚拟触控区覆盖所述边缘子像素的至少部分区域，所述触控层在所述虚拟触控区的透光率小于所述触控层在所述触控区的透光率；

所述触控层包括多个触控单元，所述触控单元在所述虚拟触控区的分布密度大于所述触控单元在所述触控区的分布密度。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述边缘子像素包括第一边缘子像素和第二边缘子像素，所述第一边缘子像素相对于所述第二边缘子像素朝向所述非显示区凸出设置，在垂直于所述显示基板的方向上，所述虚拟触控区覆盖所述第一边缘子像素朝向所述非显示区凸出的部分。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控单元在所述虚拟触控区的面积小于所述触控单元在所述触控区的面积。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控层包括触控电极，所述触控电极在所述虚拟触控区的分布密度大于所述触控电极在所述触控区的分布密度。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述触控电极包括异层设置的第一触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极在所述虚拟触控区的分布密度大于所述第一触控电极在所述触控区的分布密度，和/或所述第二触控电极在所述虚拟触控区的分布密度大于所述第二触控电极在所述触控区的分布密度。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控层包括电介质层，所述电介质层在所述虚拟触控区的透光率小于所述电介质层在所述触控区的透光率。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述电介质层的透光率为50％～90％。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述电介质层的材料包括氮氧化硅。

9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述电介质层在所述虚拟触控区的厚度大于所述电介质层在所述触控区的厚度。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述电介质层在所述虚拟触控区的厚度大于120nm且小于800nm。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述虚拟触控区由所述显示区的边缘向所述显示区的中心延伸的长度为25μm～50μm。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-11任一项所述的显示面板。