CN110611048A - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法，显示面板定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区和设置在所述像素区之间的间隔区；其中所述显示面板包括依次设置的薄膜晶体管基板、阴极层和功能层；其中所述像素区上方的所述阴极层的厚度小于所述间隔区上方的所述阴极层的厚度。本发明提供一种显示面板及其制备方法，一方面设置在像素区上方的阴极层厚度较小，采用高透光的材料作为阴极，能够提高显示面板透光率；另一方面在间隔区上方的阴极层厚度较大，避免产生压降的问题，从而避免了升高外接电压，达到降低功耗的目的；另外制备方法简单易行，可操作性强。

Description

一种显示面板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)由于具有能主动发光、可在低温下工作、发光响应速度快、视角广、效率高、可制作柔性显现器件、驱动电压及能耗低等优点吸引了全球众多显示厂商的目光，被认为下一代的显示技术。
随着新型显示技术的飞速发展，OLED显示器被赋予了更多的期待，例如更广的色域、更高的对比度、更低的能耗、更高的分辨率等。在当前主流的顶发射显示面板结构中，主要采用镁/银合金作为半透明阴极材料，为了减少阴极对于出光的吸收，降低出光效率的损失，通常阴极厚度较薄(约120nm)，但阴极厚度太薄会使其电阻升高，即显示面板的压降(IRdrop)上升，为保证显示面板显示亮度均一性需升高外接电压，最终导致显示面板的功耗增加。
因此，确有必要来开发一种新型的显示面板的制备方法，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种显示面板，其能够解决现有技术中显示面板阴极较薄导致的压降问题。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，其定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区和设置在所述像素区之间的间隔区；其中所述显示面板包括依次设置的薄膜晶体管基板、阴极层和功能层；其中所述像素区上方的所述阴极层的厚度小于所述间隔区上方的所述阴极层的厚度。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述像素区上方的所述阴极层的厚度范围为100nm～150nm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述间隔区上方的所述阴极层的厚度范围为400nm～600nm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述阴极层采用的材料包括镁合金或银合金中的一种。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述像素区上方的所述阴极层的透光率大于90％。
为实现上述目的，本发明还提供一种制备本发明涉及的所述显示面板的方法，包括以下步骤：
步骤S1：提供一薄膜晶体管基板，其定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区和和设置在所述像素区之间的间隔区，在所述薄膜晶体管基板上蒸镀第一阴极层；
步骤S2：在位于所述像素区的第一阴极层上方制备马来酸酐层；
步骤S3：在所述像素区和间隔区蒸镀第二阴极层，其中在所述像素区，所述第二阴极层位于所述马来酸酐层上；
步骤S4：将像素区上方的所述马来酸酐和所述第二阴极层剥离，使得该区域处仅保留步骤S1中形成的所述第一阴极层，而在所述间隔区则同时保留上下相接的所述第一阴极层和第二阴极层；
步骤S5：制备功能层。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述步骤S1中使用开放式掩模版蒸镀所述第一阴极层。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述步骤2是使用喷墨打印技术在所述像素区上方覆盖马来酸酐。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述步骤S3中使用开放式掩模版蒸镀所述第二阴极层。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述第一阴极层的厚度范围为100nm～150nm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述第二阴极层的厚度范围为300～500nm。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种显示面板及其制备方法，一方面设置在像素区上方的阴极层厚度较小，采用高透光的材料作为阴极，能够提高显示面板透光率；另一方面在间隔区上方的阴极层厚度较大，避免产生压降的问题，从而避免了升高外接电压，达到降低功耗的目的；另外制备方法简单易行，可操作性强。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1提供的显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例1提供的显示面板的制备方法的流程图；
图3为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S1时显示面板的结构示意图；
图4为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S2时显示面板的结构示意图；
图5为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S3时显示面板的结构示意图；
图6为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S4时显示面板的结构示意图；
图7为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S5时显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
实施例1
本实施例提供一种显示面板，请参阅图1，图1所示为本实施例提供的显示面板的结构示意图，显示面板定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区100和设置在像素区100之间的间隔区200。
显示面板包括薄膜晶体管基板1、设置于薄膜晶体管背板1上的阴极层2和设置于阴极层2上的功能层3。
其中像素区100上方的阴极层2的厚度小于间隔区100上方的阴极层2的厚度，在本实施例中，像素区100上方的阴极层2的厚度范围为100nm～150nm，间隔区100上方的阴极层2的厚度范围为400nm～600nm。
其中阴极层2采用的材料为镁合金，也可以采用银合金，在此不做限定。
其中像素区100上方的阴极层2厚度较小，其透光率大于90％，能够提高显示面板透光率；间隔区100上方的阴极层2的厚度较大，其不透光。
由于间隔区100上方的阴极层2的厚度较大，能够避免产生压降的问题，从而避免了升高外接电压，达到降低功耗的目的。
本实施例还提供一种本实施例涉及的所述显示面板的制备方法，请参阅图2，图2所示为本实施例提供的显示面板的制备方法的流程图，包括以下步骤：
步骤S1：提供一薄膜晶体管基板1，其定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区100和和设置在像素区100之间的间隔区200，在薄膜晶体管基板1上蒸镀第一阴极层21；
请参阅图3，图3所示为本实施例提供的制备方法中步骤S1时显示面板的结构示意图。
其中使用开放式掩模版蒸镀第一阴极层21，第一阴极层21的厚度范围为100nm～150nm。
步骤S2：在位于像素区100的第一阴极层21上方制备马来酸酐层20；
请参阅图4，图4所示为本实施例提供的制备方法中步骤S2时显示面板的结构示意图。
其中使用喷墨打印技术在像素区100上方覆盖马来酸酐层20。
步骤S3：在像素区100和间隔区200蒸镀第二阴极层22，其中在像素区100，第二阴极层22位于马来酸酐层20上；
请参阅图5，图5所示为本实施例提供的制备方法中步骤S3时显示面板的结构示意图。
其中使用开放式掩模版蒸镀第二阴极层22，第二阴极层22的厚度范围为300～500nm。
步骤S4：利用马来酸酐20容易升华蒸发的特性，将像素区100上方的马来酸酐层20和第二阴极层22剥离，使得像素区100处仅保留步骤S1中形成的第一阴极层21，而在间隔区200则同时保留上下相接的第一阴极层21和第二阴极层22，形成阴极层2；
请参阅图6，图6所示为本实施例提供的制备方法中步骤S4时显示面板的结构示意图。
其中像素区100上方的阴极层2厚度较小，其透光率大于90％，能够提高显示面板透光率；间隔区100上方的阴极层2的厚度较大，其不透光。
由于间隔区100上方的阴极层2的厚度较大，能够避免产生压降的问题，从而避免了升高外接电压，达到降低功耗的目的。
步骤S5：制备功能层3；
请参阅图7，图7所示为本实施例提供的制备方法中步骤S5时显示面板的结构示意图。
本发明的有益效果在于：本发明提供一种显示面板及其制备方法，一方面设置在像素区上方的阴极层厚度较小，采用高透光的材料作为阴极，能够提高显示面板透光率；另一方面在间隔区上方的阴极层厚度较大，避免产生压降的问题，从而避免了升高外接电压，达到降低功耗的目的；另外制备方法简单易行，可操作性强。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，其定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区和设置在所述像素区之间的间隔区；其中所述显示面板包括依次设置的薄膜晶体管基板、阴极层和功能层；其中所述像素区上方的所述阴极层的厚度小于所述间隔区上方的所述阴极层的厚度。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素区上方的所述阴极层的厚度范围为100nm～150nm。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隔区上方的所述阴极层的厚度范围为400nm～600nm。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阴极层采用的材料包括镁合金或银合金中的一种。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素区上方的所述阴极层的透光率大于90％。
6.一种制备根据权利要求1-5任一项所述的显示面板的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S1：提供一薄膜晶体管基板，其定义有相互间隔并呈阵列排布的像素区和和设置在所述像素区之间的间隔区，在所述薄膜晶体管基板上蒸镀第一阴极层；
步骤S2：在位于所述像素区的第一阴极层上方制备马来酸酐层；
步骤S3：在所述像素区和间隔区蒸镀第二阴极层，其中在所述像素区，所述第二阴极层位于所述马来酸酐层上；
步骤S4：将像素区上方的所述马来酸酐和所述第二阴极层剥离，使得该区域处仅保留步骤S1中形成的所述第一阴极层，而在所述间隔区则同时保留上下相接的所述第一阴极层和第二阴极层；
步骤S5：制备功能层。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中使用开放式掩模版蒸镀所述第一阴极层。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2是使用喷墨打印技术在所述像素区上方覆盖所述马来酸酐。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一阴极层的厚度范围为100nm～150nm。
10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第二阴极层的厚度范围为300～500nm。
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