CN110478613B - 递送制剂的器件、设备及器件中针头阵列的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种递送制剂的器件、设备及器件中针头阵列的制备方法，器件包括：第一基底、第二基底和至少两种长度不同的针头，针头为具有中空结构的空心针头；其中，第一基底和第二基底之间设置有两个侧壁，以使第一基底、第二基底以及两个侧壁形成容纳制剂的第一腔室；第二基底上开设有与第一腔室连通的第一通道；针头设置在第二基底的远离第一基底的表面上，每个针头通过第一通道与第一腔室连通，以递送制剂。本发明实施例递送制剂的器件设置了至少两种长度不同的针头，不同长度的针头会达到真皮层的不同深度，实现了多点同时输送制剂，处于不同深度的制剂在扩散后，能够达到更广的扩散范围，使制剂得到更好的吸收效果，使用效果较好。

Description

递送制剂的器件、设备及器件中针头阵列的制备方法

技术领域

本发明涉及微流控芯片领域，特别涉及一种递送制剂的器件、设备及器件中针头阵列的制备方法。

背景技术

微创(微针)经皮药物递送***可以通过皮肤经毛细血管将指定制剂以一定的方式递送到体循环而发挥功效。与传统的方式相比，微创经皮药物递送具有许多优点：微创，针体直径小，在皮肤打开微小通道；无痛、无出血风险，针体只能穿透角质层，到达真皮层，无法触及神经与血管；靶向性，可通过针体高度设计，控制针体在皮肤内的位置，实现靶向性。

然而，现有技术中的微创经皮药物递送***中递送制剂的器件的制剂扩散范围有限，导致制剂的吸收效果不好，用户体验较差。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提出了一种递送制剂的器件、设备及器件中针头阵列的制备方法，用以解决现有技术的如下问题：现有技术中的微创经皮药物递送***中递送制剂的器件的制剂扩散范围有限，导致制剂的吸收效果不好，使用效果较差。

一方面，本发明实施例提出了一种递送制剂的器件，包括：第一基底、第二基底和至少两种长度不同的针头，所述针头为具有中空结构的空心针头；其中，所述第一基底和所述第二基底之间设置有两个侧壁，以使所述第一基底、所述第二基底以及所述两个侧壁形成容纳制剂的第一腔室；所述第二基底上开设有与所述第一腔室连通的第一通道；所述针头设置在所述第二基底的远离所述第一基底的表面上，每个所述针头通过所述第一通道与所述第一腔室连通，以递送所述制剂。

在一些实施例中，所述第一通道包括多个子通道，每个所述子通道对应一种长度的针头。

在一些实施例中，还包括：

温控单元，所述温控单元用于感测容纳于所述第一腔室的制剂的温度，并在所述制剂的温度超出预设范围时调节所述制剂的温度。

在一些实施例中，所述第一基底和/或所述第二基底的制作材料为柔性材料。

在一些实施例中，所述第一基底的靠近所述第二基底的表面上设置有凹陷部，所述凹陷部与所述第一腔室之间设置有弹性隔离膜，以使所述凹陷部与所述弹性隔离膜形成第二腔室；所述第一基底上还开设有第二通道，所述第二通道的一端与所述第二腔室连通，所述第二通道的另一端与外界连通，以将外界的气体导入到所述第二腔室中。

在一些实施例中，所述凹陷部为多个。

在一些实施例中，所述第二通道的所述另一端设置有阀门，以控制由外界进入所述第二腔室的气体的流量。

在一些实施例中，所述第一基底开设有第三通道，所述第三通道的一端与所述第一腔室连通，以将由所述第三通道的另一端导入的所述制剂导入到所述第一腔室内。

在一些实施例中，所述针头内壁与所述第二基板的远离所述第一基板的表面互相垂直。

在一些实施例中，所述针头内壁的亲疏水性与所述制剂的亲疏水性相匹配。

在一些实施例中，每种所述针头的内部直径均不相同。

在一些实施例中，所述针头的内部直径范围为10μm至80μm。

在一些实施例中，各个所述针头之间的距离范围为100μm至500μm。

在一些实施例中，所述针头的长度范围为25μm至1000μm。

在一些实施例中，所述针头的尖端具有10°至25°的倾斜角。

另一方面，本发明实施例提出了一种递送制剂的设备，所述设备包括用于贮存制剂的贮存部和本发明任一实施例所述的递送制剂的器件，所述贮存部与所述器件连通，以将所述制剂提供给所述递送制剂的器件。

另一方面，本发明实施例提出了一种递送制剂的器件中针头阵列的制备方法，包括：在基底片的第一侧和第二侧分别沉积保护膜；通过第一预定构图工艺，在所述基底片的第一侧的保护膜上形成针头阵列的图案；以针头阵列的图案为掩模，通过第二预定构图工艺，在所述基底片上形成针头阵列图形；对去除保护膜的具有针头阵列图形的基底片进行离子轰击，并控制每个预定区域离子轰击强度和时间，以形成具有不同高度的针头阵列。

在一些实施例中，对去除保护膜的具有针头阵列图形的基底片进行离子轰击，并控制每个预定区域离子轰击强度和时间，以形成具有不同高度的针头阵列之后，还包括：利用氧等离子体处理或化学表面处理针头阵列表面的亲疏水性程度，以使每个针头内壁的亲疏水性与制剂的亲疏水性相匹配。

本发明实施例递送制剂的器件设置了至少两种长度不同的针头，不同长度的针头会达到真皮层的不同深度，实现了多点同时输送制剂，处于不同深度的制剂在扩散后，能够达到更广的扩散范围，使制剂得到更好的吸收效果，使用效果较好。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的递送制剂的器件的剖面结构示意图一；

图2为本发明第一实施例提供的递送制剂的器件的剖面结构示意图二；

图3为本发明第一实施例提供的递送制剂的器件的剖面结构示意图三；

图4为本发明第一实施例提供的递送制剂的器件的剖面结构示意图四；

图5为本发明第一实施例提供的递送制剂的器件的剖面结构示意图五；

图6为本发明第一实施例提供的当外力作用时柔性器件受力示意图；

图7为本发明第三实施例提供的递送制剂的器件中针头阵列的制备方法的工艺示意图。

附图标记说明：

10第一基底；11微流体入口；12侧壁；13控温单元；20第二基底；21第一通道；22第一子通道；23第二子通道；30第一针头；31微流体第一出口；40第二针头；41微流体第二出口。

具体实施方式

为了使得本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

除非另外定义，本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

为了保持本发明实施例的以下说明清楚且简明，本发明省略了已知功能和已知部件的详细说明。

本发明第一实施例提供了一种递送制剂的器件，该器件的剖面结构示意如图1所示，包括：

第一基底10、第二基底20和至少两种长度不同的针头(图1中每种长度的针头仅以一个为例，即30和40)，所述针头为具有中空结构的空心针头；其中，所述第一基底10和所述第二基底20之间设置有两个侧壁12，以使所述第一基底10、所述第二基底20以及所述两个侧壁12形成容纳制剂的第一腔室；所述第二基底20上开设有与所述第一腔室连通的第一通道21；所述针头设置在所述第二基底20的远离所述第一基底10的表面上，每个所述针头通过所述第一通道21与所述第一腔室连通，以递送所述制剂。

图1仅为一种示例，本领域技术人员可以根据实际需求进行设置。

现有技术中的微创经皮药物递送***中递送制剂的器件只有一种长度的针头(即阵列式的相同高度的针头)，制剂到达指定位置后扩散范围有限，导致制剂的吸收效果不好；然而，本发明实施例递送制剂的器件设置了至少两种长度不同的针头，不同长度的针头会达到真皮层的不同深度，实现了多点同时输送制剂，处于不同深度的制剂在扩散后，能够达到更广的扩散范围，使制剂得到更好的吸收效果，使用效果较好。

具体设置时，所述第一通道21可以包括多个子通道(图2中为23和22)，每个所述子通道对应一种长度的针头，其结构示意可以如图2所示。通过一个第一通道21的多个子通道输送制剂能够使得每个针头制剂的输送更为均匀。图2中仍然是仅以递送制剂的器件只包括两个长度不同的针头为例，具体实现时，第一通道的数量可以为多个，每个第一通道可以对应的设置有一个针头，也可以每个第一通道对应的设置有一种长度的针头，也可以第一通道每个子通道对应的设置有一个针头，也可以第一通道每个子通道对应的设置有一种长度的多个针头，本领域技术人员可以根据实际需求进行设置，此处不进行限定。

上述递送制剂的器件还可以如图3所示，还包括温控单元，所述温控单元用于感测容纳于所述第一腔室的制剂的温度，并在所述制剂的温度超出预设范围时调节所述制剂的温度。具体实现时，温控单元可以包括温度传感器和制冷组件，温度传感器用于实时监测第一腔室的制剂的温度，制冷组件用于在第一腔室的制剂所处环境温度超过35度的情况下，调控温度，以保证制剂在器件中处于可注射流体态。

如图4所示，上述第一基底开设有第三通道11，所述第三通道的一端与所述第一腔室连通，以将由所述第三通道11的另一端导入的所述制剂导入到所述第一腔室内。

在上述第一基底、第二基底选择材料时，可以将任一基底设置为柔性材料，当然也可以两个基底都设置为柔性材料，例如，弹性较好的有机聚合物材料，如聚二甲基硅氧烷等。

但当器件为柔性器件时，由于外界作用力的存在，可能使第一腔室内制剂注入时存在制剂的液体阻断，不利于第一腔室内被阻断部分制剂的注入。基于这种考虑，上述器件可以如图5所示，第一基底的靠近所述第二基底的表面上设置有凹陷部15，所述凹陷部15与所述第一腔室之间设置有弹性隔离膜16，以使所述凹陷部15与所述弹性隔离膜16形成第二腔室；所述第一基底上还开设有第二通道14，所述第二通道14的一端与所述第二腔室连通，所述第二通道14的另一端与外界连通，以将外界的气体导入到所述第二腔室中。

具体设置时，上述凹陷部15可以设置为多个；所述第二通道14的所述另一端设置有阀门，以控制由外界进入所述第二腔室的气体的流量。

由于针头是空心针，因此针头可能存在针头远离第二基底的端部的壁厚小于针头靠近第二基底的端部的壁厚，所以，在设置时，针头内壁与所述第二基板的远离所述第一基板的表面互相垂直。

对于不同的制剂，其有不同的亲疏水性，在通过上述递送制剂的器件来递送制剂时，如果递送的制剂本身亲水，又需要流速较快，则可以将针头内壁的亲疏水性设置为亲水；如果递送的制剂本身亲水，但需要流速较慢，则可以将针头内壁的亲疏水性设置为疏水；如果递送的制剂本身疏水，但需要流速较快，则可以将针头内壁的亲疏水性设置为亲水；如果递送的制剂本身疏水，又需要流速较慢，则可以将针头内壁的亲疏水性设置为疏水。总结而言，就是在制造时需要让所述针头内壁的亲疏水性与所述制剂的亲疏水性相匹配。

由于真皮层不同的深度需要的制剂用量可能存在不同，因此，每种所述针头的内部直径可以不相同。具体设置时，所述针头的内部直径范围为10μm至80μm。各个所述针头之间的距离范围为100μm至500μm；所述针头的长度范围为25μm至1000μm；所述针头的尖端具有10°至25°的倾斜角，该倾斜角为刺入皮肤的尖端的角度。

下面结合图5和具体实施例对上述递送制剂的器件进行说明。

该实例的制剂递送的器件包括：第一基底10和第二基底20用于限定第一腔室(也称作微流体流通腔)，其中第一基底10包括第三通道11(也称作微流体入口)，以及侧壁12(也称作微流体流通腔挡墙)。第二基底20包括微流体第一通道21，第一通道21的两个子通道，即第一子通道22和第二子通道23，并包括两个针头(也称作空心微针单元)，其中，第一针头30为主针头，包括微流体第一出口31；第二针头40为副针头，包括微流体第二出口41。此外，在每个侧壁12外侧还设置有控温单元13。在本实施例中，每个针头也可以替换为针头阵列(也称作微型针阵列)进行实施。

其中第一针头30的长度大于第二针头40，第一针头30的长度约100μm-1000μm，第二针头40的长度约25μm-100μm。主、副针头内部直径均10～80μm。主、副针头的针间距100μm-500μm。主、副针头的尖端倾斜角为10°～25°。具体实现时，还可以包括三种不同高度的针头，例如，一个主针头和两个副针头。进一步的，控温单元13也可设置在第一基底10的一面；进样口11可设置在挡墙12上。另外，第一基底10和第二基底20可选材质可选自玻璃、硅、聚合物、镍等金属等材质。

为适用商业需要，制剂递送的器件可为柔性器件，第一基底10和第二基地20可选自弹性较好的有机聚合物材料，如聚二甲基硅氧烷等。因此，本实施例的制剂递送的器件在第一基底10中增设气体凹陷部15，并且在凹陷部15的侧壁至第一基底10的侧面边缘处设置有第二通道14，第二通道14的端口设置有开关阀门(图中未示意)以在需要时控制气体进入及进入量。另外，在凹陷部15表面对应凹陷部15开口位置处设置有弹性隔离膜16。

当外界利施加到柔性器件，第二通道14的端口的开关阀门打开，向气体凹陷部15输入气体，由于外力作用，凹陷部15内的气体将弹性隔离膜16顶起，相当于形成了一气动阀，气动阀能够通过压力的作用实现开(弹性隔离膜16凸起)或关(弹性隔离膜16为平面)，进而实现第一腔室内更改液体流向的作用力。因此，当外力作用时，气动阀的开启促使附近的生物制剂向第一通道21方向流去。其中，用于气液隔离的弹性隔离膜16可选自商业化的低渗透膜，如聚甲基戊烯等。优选的，可以在第一基底10上设置多个的凹陷部。图6为当外力作用时柔性器件受力示意图。

下面将以多种生物制剂递送为例说明本设计的有益效果：

人体皮肤主要分为3层：表皮层、真皮层和皮下脂肪层，其中表皮层包括角质层和活性表皮层，角质层厚约15μm～20μm，真皮层内有神经、血管等，真皮层厚度约2000μm。

(1)美容。

多肽，介于蛋白质和氨基酸之间的一种物质，它能参与人体多种代谢过程，调节内分泌，能在本质上改善皮肤的一系列问题，但皮肤表皮层涂覆多肽，由于人体皮肤角质层独特的生理结构，很难透过表皮到达真皮或皮下脂肪层被吸收，因此外用多肽被肌肤吸收少。而口服会易被降解和难穿越肠黏膜。

采用本发明实施例的递送制剂的器件，可以实现皮下注射如多肽类的生物制剂，多肽扩散效果好，能够达到有效的美容效果。

(2)黑色素瘤给药。

黑色素瘤是皮肤恶性黑色素瘤的一种，最常发生在躯干和四肢皮肤，也可能出现在很少接触阳光的部位。近年来，黑色素瘤已成为所有恶性肿瘤中发病率增长最快的恶性肿瘤，年增长率3％-5％。然而，传统的全身肿瘤治疗方法对于黑色素瘤的治疗效果并不理想，反应率差。近年来，在黑色素瘤的的治疗上出现了新的方式，其中定点靶向药物治疗，即通过皮下注射将靶向药物直接递送到黑色素瘤部位，再先后释放，成为了有效的治疗方法。

人体的真皮层既可支撑表皮层，还为表皮层提供营养，是皮下药物注射的直接作用层。然而，人体真皮层厚度约2000μm，是否能够有效的通过体外注射器件将如多肽或黑色素瘤靶向药物有效的注射到真皮层，将直接影响这些生物制剂在真皮层内的药效。

因此，本实施例选用的针头包括主针头30和副针头40，其中主针头30的和副针头40具有一定高度差，主针头30的长度约800μm～1000μm，副针头40的长度约50μm～100μm，主、副针头内部直径均10μm～30μm，主、副针头针间距200μm，针头尖端倾斜角为15°。

通过上述主、副针头具有一定高度差的设计，在生物制剂能够顺利到达真皮层的同时，可实现生物制剂在真皮层多层内的有效注入，进一步报告目标注射皮肤区域内生物制剂的有效释放。

通过微针尖端倾斜角设计，保证针头尖端顺畅穿透表皮层，并降低刺痛感。主、副针头制作材料可选自硅、金属、聚合物等。

在(2)中距离的本设计***的两种应用场景中，多肽和黑色素瘤靶向药物，基本都是通过具有生物相容性的聚合物和交联剂混合而成。以具有美容功能的多肽为例，部分多肽具有温度敏感性，在室温条件下以某种形态存在的多肽随着温度的升高，转变为凝胶形态。这些生物制剂在体外＜35℃的环境中均为液体形式存在，而当进入人体37℃的皮肤组织环境内，这些生物直接的粘性会逐渐增加，并在一段时间后即形成凝胶状，然后在目标皮肤组织区域慢慢释放。

基于该种现象，本设计通过侧壁12外侧设置的控温单元13，实现检测及第一腔室内温度的效果，即在侧壁12外温度在高于35℃的情况下，控温单元13将通过该***内置的控温单元调节其温度至35℃以下，以保证生物制剂在该***中为可注射的流体态。

流体态通过第三通道11引入递送制剂的器件，通过器件中流体毛细力流向第一腔室，并充满全部的第一腔室，每个腔体内约能容纳大约2μl的生物制剂。

然后，通过机械摇摆台等外力作用下，使生物制剂在第一腔室中形成均匀分散的溶液。

其中，控温单元13可包括温度传感器和制冷单元，温度传感器用于实时监测流通腔内温度，制冷单元用于在微流体生物栓塞制剂递送器件所处环境温度超过35度的情况下，调控温度，以保证生物栓塞制剂在递送器件中的可注射流体态。

本实施例提供的制剂递送的器件包括具有一定高度差的设计的主、副针头，可实现多层生物制剂的有效渗透。另外，器件结合温控单元，在制剂递送的器件所处环境温度超过35度的情况下，调控温度，以保证生物栓塞制剂在器件中的可注射流体态。

本发明第二实施例提供了一种递送制剂的设备，该设备包括用于贮存制剂的贮存部和第一实施例中的递送制剂的器件，所述贮存部与所述器件连通，以将所述制剂提供给所述递送制剂的器件。具体设置时，可以在第一腔室任意一侧的侧壁上设置第三通道11与贮存部连通，也可以是在第一基体10上设置第三通道11与贮存部连通，此处不进行限定。第一实施例中的递送制剂的器件的结构不再赘述。

本发明第三实施例提供了一种递送制剂的器件中针头阵列的制备方法，由于递送制剂的器件的针头阵列的材料多样化，包括硅、玻璃、聚合物、镍、不锈钢等金属，所以以下制备流程以硅材质针头为例，该针头阵列的制备方法的工艺示意图如图7所示，其中(a)-(j)为制备方法各个阶段中基底材料的状态，其包括如下步骤：

(1)在基底片的第一侧和第二侧分别沉积保护膜。

该过程具体示意如图7中的(a)-(c)，下面对(a)-(c)进行说明：

(a)基底片备料。采用硅作基底片，其厚度约1200μm-1500μm，进行清洗并干燥。

(b)在基底片的两个表面分别沉积一层二氧化硅或氮化硅保护膜。

(c)在沉积有保护膜的基底片上涂布光刻胶(液体或干膜)，进行烘干和坚膜。

(2)通过第一预定构图工艺，在所述基底片的第一侧的保护膜上形成针头阵列的图案。

该过程具体示意如图7中的(d)，即制掩模的过程。掩模底片用玻璃或薄膜，在掩模底片上生成针头阵列图案，应使掩模底片上的每个针头图案轮廓是透光的。

(3)以针头阵列的图案为掩模，通过第二预定构图工艺，在所述基底片上形成针头阵列图形。

该过程具体示意如图7中的(e)和(f)。其中，(e)即通过掩模板底片对涂布有光刻胶的基底片进行曝光处理，通过掩膜对已涂覆光刻胶的基底片实施单面或双面曝光。(f)为显影过程，用三氟甲烷或四氟甲烷干法蚀刻未受光刻胶保护处的二氧化硅或氮化硅，以形成需要的针头阵列图形。

(4)对去除保护膜的具有针头阵列图形的基底片进行离子轰击，并控制每个预定区域离子轰击强度和时间，以形成具有不同高度的针头阵列。

该过程具体示意如图7中的(g)-(j)。下面对(g)-(j)进行说明：

(g)用NaOH或KOH溶液去除光刻胶。

(h)用湿法腐蚀未受二氧化硅或氮化硅保护的部分，在基底片上形成基础针头阵列图形。

(i)采用例如湿法清洗或干法刻蚀来去除剩余二氧化硅或氮化硅保护层，以得到具有针头阵列基础形状的基底片。

(j)对针头阵列进行离子轰击，如氩离子进行轰击，精确控制不同区域离子轰击强度和时间，以形成不同高度针尖。

在对针头阵列的成型时，因针头的尺寸很小，还可以采用其它特殊的加工工艺来实现，如气射流、水射流或***成型等方法，在与基底片的垂直方向形成针头阵列。

针头阵列成型后，可再进一步腐蚀抛光，可使针头针体变得较为光滑，针头更为尖锐，并且可进一步精确主空心针头单元和副空心针头单元的高度差。

针头阵列成型后，可利用氧等离子体处理及化学表面处理针头阵列表面的亲水/疏水性程度，可使针头单元实现对特定生物制剂的引流。

此外，尽管已经在本文中描述了示例性实施例，其范围包括任何和所有基于本发明的具有等同元件、修改、省略、组合(例如，各种实施例交叉的方案)、改编或改变的实施例。权利要求书中的元件将被基于权利要求中采用的语言宽泛地解释，并不限于在本说明书中或本申请的实施期间所描述的示例，其示例将被解释为非排他性的。因此，本说明书和示例旨在仅被认为是示例，真正的范围和精神由以下权利要求以及其等同物的全部范围所指示。

以上描述旨在是说明性的而不是限制性的。例如，上述示例(或其一个或更多方案)可以彼此组合使用。例如本领域普通技术人员在阅读上述描述时可以使用其它实施例。另外，在上述具体实施方式中，各种特征可以被分组在一起以简单化本发明。这不应解释为一种不要求保护的公开的特征对于任一权利要求是必要的意图。相反，本发明的主题可以少于特定的公开的实施例的全部特征。从而，以下权利要求书作为示例或实施例在此并入具体实施方式中，其中每个权利要求独立地作为单独的实施例，并且考虑这些实施例可以以各种组合或排列彼此组合。本发明的范围应参照所附权利要求以及这些权利要求赋权的等同形式的全部范围来确定。

以上对本发明多个实施例进行了详细说明，但本发明不限于这些具体的实施例，本领域技术人员在本发明构思的基础上，能够做出多种变型和修改实施例，这些变型和修改都应落入本发明所要求保护的范围之内。

Claims (14)

1.一种递送制剂的器件，其特征在于，包括：

第一基底、第二基底和至少两种长度不同的针头，所述针头为具有中空结构的空心针头；其中，

所述第一基底和所述第二基底之间设置有两个侧壁，以使所述第一基底、所述第二基底以及所述两个侧壁形成容纳制剂的第一腔室；

所述第二基底上开设有与所述第一腔室连通的第一通道；

所述针头设置在所述第二基底的远离所述第一基底的表面上，每个所述针头通过所述第一通道与所述第一腔室连通，以递送所述制剂；

其中，所述第一基底和/或所述第二基底的制作材料为柔性材料；

所述第一基底的靠近所述第二基底的表面上设置有凹陷部，所述凹陷部与所述第一腔室之间设置有弹性隔离膜，以使所述凹陷部与所述弹性隔离膜形成第二腔室；

所述第一基底上还开设有第二通道，所述第二通道的一端与所述第二腔室连通，所述第二通道的另一端设置有阀门，并通过所述阀门与外界连通，以将外界的气体导入到所述第二腔室中，以通过所述阀门控制由外界进入所述第二腔室的气体的流量；

其中，当外界力施加到所述器件时，所述第二通道的另一端的阀门打开，向所述凹陷部输入气体，所述凹陷部内的气体将所述弹性隔离膜顶起，以使所述制剂向所述第一通道方向流去；

所述递送制剂的器件还包括温控单元，所述温控单元包括温度传感器和制冷单元，所述温度传感器用于感测容纳于所述第一腔室的制剂的温度，所述制冷单元用于在所述制剂的温度超出预设范围时调节所述制剂的温度。

2.如权利要求1所述的器件，其特征在于，所述第一通道包括多个子通道，每个所述子通道对应一种长度的针头。

3.如权利要求1所述的器件，其特征在于，所述凹陷部为多个。

4.如权利要求1所述的器件，其特征在于，所述第一基底开设有第三通道，所述第三通道的一端与所述第一腔室连通，以将由所述第三通道的另一端导入的所述制剂导入到所述第一腔室内。

5.如权利要求1所述的器件，其特征在于，所述针头内壁与所述第二基底的远离所述第一基底的表面互相垂直。

6.如权利要求1所述的器件，其特征在于，所述针头内壁的亲疏水性与所述制剂的亲疏水性相匹配。

7.如权利要求1至6中任一项所述的器件，其特征在于，每种所述针头的内部直径均不相同。

8.如权利要求1至6中任一项所述的器件，其特征在于，所述针头的内部直径范围为10μm至80μm。

9.如权利要求1至6中任一项所述的器件，其特征在于，各个所述针头之间的距离范围为100μm至500μm。

10.如权利要求1至6中任一项所述的器件，其特征在于，所述针头的长度范围为25μm至1000μm。

11.如权利要求1至6中任一项所述的器件，其特征在于，所述针头的尖端具有10°至25°的倾斜角。

12.一种递送制剂的设备，其特征在于，所述设备包括用于贮存制剂的贮存部和如权利要求1-11中任一项所述的递送制剂的器件，所述贮存部与所述器件连通，以将所述制剂提供给所述递送制剂的器件。

13.一种递送制剂的器件中针头阵列的制备方法，其特征在于，所述递送制剂的器件为权利要求1至11中任一项所述的递送制剂的器件，包括：

在基底片的第一侧和第二侧分别沉积保护膜；

通过第一预定构图工艺，在所述基底片的第一侧的保护膜上形成针头阵列的图案；

以针头阵列的图案为掩模，通过第二预定构图工艺，在所述基底片上形成针头阵列图形；

对去除保护膜的具有针头阵列图形的基底片进行离子轰击，并控制每个预定区域离子轰击强度和时间，以形成具有不同高度的针头阵列。

14.如权利要求13所述的制备方法，其特征在于，对去除保护膜的具有针头阵列图形的基底片进行离子轰击，并控制每个预定区域离子轰击强度和时间，以形成具有不同高度的针头阵列之后，还包括：

利用氧等离子体处理或化学表面处理针头阵列表面的亲疏水性程度，以使每个针头内壁的亲疏水性与制剂的亲疏水性相匹配。

Images