CN110446953A - 偏光板及图像显示装置 - Google Patents

偏光板及图像显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110446953A
CN110446953A CN201880017823.1A CN201880017823A CN110446953A CN 110446953 A CN110446953 A CN 110446953A CN 201880017823 A CN201880017823 A CN 201880017823A CN 110446953 A CN110446953 A CN 110446953A
Authority
CN
China
Prior art keywords
protective film
polarizer
film
core
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201880017823.1A
Other languages
English (en)
Inventor
冈田康彰
中原步梦
中岛淳
阿比留健太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nittosan Engineering Co Ltd
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nittosan Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nittosan Engineering Co Ltd filed Critical Nittosan Engineering Co Ltd
Publication of CN110446953A publication Critical patent/CN110446953A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

本发明提供通过简易的构成抑制了表面的损伤的偏光板。偏光板具有；偏光件、和配置于偏光件的至少一侧的保护薄膜，保护薄膜包含：丙烯酸系树脂、分散于丙烯酸系树脂的核壳型颗粒，保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra为6.0μm以上。

Description

偏光板及图像显示装置
技术领域
本发明涉及偏光板及图像显示装置。
背景技术
对于图像显示装置(例如，液晶显示装置、有机EL显示装置)，由于其图像形成方式，大多情况下在显示单元的至少一侧配置有偏光板。通常的偏光板具备偏光件和配置于偏光件的单侧或两侧的保护薄膜。近年来，出于提高耐久性的目的，提出了使用由含有交联弹性体的(甲基)丙烯酸系树脂薄膜形成的保护薄膜(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-218478号公报
发明内容
发明要解决的问题
近年来，随着图像显示装置的薄型化的迫切要求，需要将构成图像显示装置的各光学构件贴接地配置。其结果，偏光板与邻接配置的扩散片等光学构件接触，由此在偏光板的保护薄膜上会产生损伤。对于这样的问题，以往提出了，通过在偏光板的表面形成硬涂层或扩散层来抑制保护薄膜的损伤。但是，这些方法中存在因制造工序增加而生产率会降低、耗费成本的问题。
本发明是为了解决上述现有的问题而作出的，其主要目的在于，提供通过简易的构成抑制了表面的损伤的偏光板及具备上述偏光板的图像显示装置。
用于解决问题的方案
本发明的偏光板具有：偏光件、和配置于上述偏光件的至少一侧的保护薄膜，保护薄膜包含：丙烯酸系树脂、和分散于该丙烯酸系树脂的核壳型颗粒，保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra为6.0nm以上。
1个实施方式中，上述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元组成的组中的至少1者。
1个实施方式中，在保护薄膜的与上述偏光件处于相反侧的表面形成有由上述核壳型颗粒引起的凹凸。
1个实施方式中，上述保护薄膜相对于上述丙烯酸系树脂100重量份含有上述核壳型颗粒3重量份～50重量份。
1个实施方式中，上述核壳型颗粒具有：由橡胶状聚合物构成的核、和由玻璃状聚合物构成的覆盖该核的覆盖层。
1个实施方式中，上述保护薄膜为双轴拉伸薄膜。
1个实施方式中，在上述保护薄膜的表面不具有扩散层。
根据本发明的另一方面，提供图像显示装置。该图像显示装置依次具备：显示单元、上述偏光板、扩散片、和光源，上述偏光板的上述保护薄膜以与上述扩散片相对的方式配置。
发明的效果
根据本发明，可提供通过简易的构成抑制了表面的损伤的偏光板及具备上述偏光板的图像显示装置。
附图说明
图1为本发明的1个实施方式的偏光板的截面图。
图2为本发明的又一实施方式的偏光板的截面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明，但本发明不限定于这些实施方式。
A.偏光板的整体构成
图1为本发明的1个实施方式的偏光板的截面图。偏光板10具有：偏光件1、和配置于偏光件1的一侧的保护薄膜2。保护薄膜2包含：丙烯酸系树脂、和分散于丙烯酸系树脂的核壳型颗粒。保护薄膜2的表面的算术平均粗糙度Ra为6.0nm以上。优选在保护薄膜2的与偏光件1处于相反侧的表面形成有由核壳型颗粒引起的凹凸。保护薄膜2优选相对于丙烯酸系树脂100重量份含有核壳型颗粒3重量份～50重量份。核壳型颗粒代表性的是具有：由橡胶状聚合物构成的核、和由玻璃状聚合物构成的覆盖核的覆盖层。保护薄膜2优选为双轴拉伸薄膜。1个实施方式中，偏光板10在保护薄膜2的表面不具有扩散层。本发明的偏光板例如即使在组装于图像显示装置并与扩散片等其他光学构件接触的情况下，也能抑制由与上述其他光学构件摩擦引起的损伤的产生。
图2为本发明的又一实施方式的偏光板的截面图。偏光板11具有：偏光件1、配置于偏光件1的一侧的保护薄膜2(第1保护薄膜)、和配置于偏光件1的另一侧的第2保护薄膜3。第2保护薄膜3可以为由与第1保护薄膜2相同的材料形成的薄膜，也可以为由其它材料形成的薄膜。偏光板11可以根据目的及用途具有任意适当的光学功能薄膜来代替第2保护薄膜3。
偏光板10及偏光板11可以为片状、也可以为长条状。另外，偏光板10可以在偏光件1的表面具有粘合剂层(未图示)，偏光板11可以在第2保护薄膜3的表面具有粘合剂层(未图示)。
B.偏光件
作为偏光件，可以采用任意适当的偏光件。例如，形成偏光件的树脂薄膜可以为单层的树脂薄膜，也可以为二层以上的层叠体。
作为由单层的树脂薄膜构成的偏光件的具体例，可列举出对聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分缩醛化PVA系薄膜、乙烯·乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜实施了基于碘、二色性染料等二色性物质的染色处理及拉伸处理而成者，PVA的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向薄膜等。优选的是，从光学特性优异的方面出发，使用将PVA系薄膜用碘进行染色、并单轴拉伸而得到的偏光件。
上述基于碘的染色例如通过将PVA系薄膜浸渍于碘水溶液来进行。上述单轴拉伸的拉伸倍率优选为3～7倍。拉伸可以在染色处理后进行，也可以边染色边进行。另外，可以拉伸后进行染色。根据需要，对PVA系薄膜实施溶胀处理、交联处理、清洗处理、干燥处理等。例如，通过在染色前将PVA系薄膜浸渍于水而进行水洗，不仅能够清洗PVA系薄膜表面的污迹、抗粘连剂，还能够使PVA系薄膜溶胀而防止染色不均等。
作为使用层叠体而得到的偏光件的具体例，可列举出使用树脂基材与层叠于该树脂基材的PVA系树脂层(PVA系树脂薄膜)的层叠体、或者树脂基材与涂布形成于该树脂基材的PVA系树脂层的层叠体而得到的偏光件。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材的PVA系树脂层的层叠体而得到的偏光件例如可以如下来制作：将PVA系树脂溶液涂布于树脂基材，使其干燥从而在树脂基材上形成PVA系树脂层，得到树脂基材与PVA系树脂层的层叠体；对该层叠体进行拉伸及染色，将PVA系树脂层制成偏光件。本实施方式中，拉伸代表性的是包括将层叠体浸渍于硼酸水溶液中而进行拉伸。进而，拉伸根据需要可以还包括在硼酸水溶液中的拉伸之前将层叠体在高温(例如95℃以上)下进行空中拉伸。得到的树脂基材/偏光件的层叠体可以直接使用(即，可以将树脂基材作为偏光件的保护层)，也可以从树脂基材/偏光件的层叠体将树脂基材剥离，在该剥离面层叠符合目的的任意适当的保护层而使用。这样的偏光件的制造方法的详细情况例如记载于日本特开2012-73580号公报中。该公报其整体的记载作为参考被援引到本说明书中。
偏光件的厚度例如为1μm～80μm。1个实施方式中，偏光件的厚度优选为1μm～15μm、进一步优选为3μm～10μm、特别优选为3μm～8μm。
C.保护薄膜
C-1.保护薄膜的特性
保护薄膜如上所述包含丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂的核壳型颗粒，保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra为6.0nm以上。上述算术平均粗糙度Ra优选为6nm～50nm、更优选为6nm～40nm。通过将算术平均粗糙度Ra设为上述的范围内的值，能够抑制保护薄膜表面的滑动性变得过高，其结果，能抑制将保护薄膜(及偏光板)长条化时的卷取偏移。上述算术平均粗糙度Ra可以通过保护薄膜中的核壳型颗粒的含量、后述的保护薄膜的制造方法中的拉伸条件等来调整至期望的范围内。保护薄膜的厚度优选为5μm～150μm、更优选为10μm～100μm。
保护薄膜优选实质上在光学上具有各向同性。本说明书中，“实质上在光学上具有各向同性”是指面内相位差Re(550)为0nm～10nm、厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm～+10nm。面内相位差Re(550)更优选为0nm～5nm、进一步优选为0nm～3nm、特别优选为0nm～2nm。厚度方向的相位差Rth(550)更优选为-5nm～+5nm、进一步优选为-3nm～+3nm、特别优选为-2nm～+2nm。保护薄膜的Re(550)及Rth(550)为这样的范围时，能够防止将偏光板应用于图像显示装置时对显示特性的不良影响。需要说明的是，Re(550)是在23℃下以波长550nm的光测定的薄膜的面内相位差。Re(550)通过式：Re(550)＝(nx-ny)×d来求出。Rth(550)是在23℃下以波长550nm的光测定的薄膜的厚度方向的相位差。Rth(550)通过式：Rth(550)＝(nx-nz)×d来求出。此处，nx为面内的折射率为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，ny为在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，nz为厚度方向的折射率，d为薄膜的厚度(nm)。
保护薄膜的厚度80μm时的380nm的透光率越高越优选。具体而言，透光率优选为85％以上、更优选为88％以上、进一步优选为90％以上。透光率为这样的范围时，能够确保期望的透明性。透光率例如可以通过基于ASTM-D-1003的方法来测定。
保护薄膜的雾度越低越优选。具体而言，雾度优选为5％以下、更优选为3％以下、进一步优选为1.5％以下、特别优选为1％以下。若雾度为5％以下，则能够对薄膜赋予良好的清晰(clear)感。进而，即使在用于图像显示装置的可视侧偏光板的情况下，也能够良好地看到显示内容。
保护薄膜的厚度80μm时的YI优选为1.27以下、更优选为1.25以下、进一步优选为1.23以下、特别优选为1.20以下。若YI超过1.3，则有时光学透明性变不充分。需要说明的是，YI例如可以根据通过使用了高速积分球式分光透过率测定器(商品名DOT-3C：村上色彩技术研究所制)的测定得到的颜色的三刺激值(X、Y、Z)、通过下式来求出。
YI＝[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
保护薄膜的厚度80μm时的b值(基于Hunter的色度体系的色相的尺度)优选不足1.5、更优选为1.0以下。b值为1.5以上的情况下，有时会出现不期望的色调。需要说明的是，b值例如可以如下来得到：将保护薄膜样品裁切成3cm见方，使用高速积分球式分光透过率测定器(商品名DOT-3C：村上色彩技术研究所制)测定色相，基于Hunter的色度体系对该色相进行评价。
保护薄膜的透湿度优选为300g/m2·24hr以下、更优选为250g/m2·24hr以下、进一步优选为200g/m2·24hr以下、特别优选为150g/m2·24hr以下、最优选为100g/m2·24hr以下。保护薄膜的透湿度为这样的范围时，可得到耐久性及耐湿性优异的偏光板。
保护薄膜的拉伸强度优选为10MPa以上且不足100MPa、更优选为30MPa以上且不足100MPa。不足10MPa的情况下，有时不能表现出充分的机械强度。若超过100MPa，则有加工性变得不充分的担心。拉伸强度例如可以基于ASTM-D-882-61T来测定。
保护薄膜的拉伸伸长率优选为1.0％以上、更优选为3.0％以上、进一步优选为5.0％以上。拉伸伸长率的上限例如为100％。拉伸伸长率不足1％的情况下，有时韧性变得不充分。拉伸伸长率例如可以基于ASTM-D-882-61T来测定。
保护薄膜的拉伸弹性模量优选为0.5GPa以上、更优选为1GPa以上、进一步优选为2GPa以上。拉伸弹性模量的上限例如为20GPa。拉伸弹性模量不足0.5GPa的情况下，有时不能表现出充分的机械强度。拉伸弹性模量例如可以基于ASTM-D-882-61T来测定。
保护薄膜根据目的可以包含任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例，可列举出紫外线吸收剂；受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化剂；耐光稳定剂、耐候稳定剂、热稳定剂等稳定剂；玻璃纤维、碳纤维等增强材料；近红外线吸收剂；三(二溴丙基)磷酸酯、三烯丙基磷酸酯、锑氧化物等阻燃剂；阴离子系、阳离子系、非离子系的表面活性剂等抗静电剂；无机颜料、有机颜料、染料等着色剂；有机填料或无机填料；树脂改性剂；有机填充剂、无机填充剂；增塑剂；润滑剂；等。添加剂可以在丙烯酸系树脂的聚合时添加，也可以在薄膜形成时添加。添加剂的种类、数量、组合、添加量等可以根据目的来适当地设定。
1个实施方式中，第2保护薄膜可以由与第1保护薄膜相同的材料形成。又一实施方式中，第2保护薄膜可以由与第1保护薄膜不同的材料形成。第2保护薄膜由与第1保护薄膜不同的材料形成的情况下，作为第2保护薄膜的形成材料，例如，可列举出不含有核壳型颗粒的丙烯酸系树脂、二醋酸纤维素、三醋酸纤维素等纤维素系树脂、环烯烃系树脂、聚丙烯等烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂等酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚碳酸酯系树脂、它们的共聚物树脂等。第2保护薄膜的厚度优选为10μm～100μm。
C-2.丙烯酸系树脂
C-2-1.丙烯酸系树脂的构成
作为丙烯酸系树脂，可以采用任意适当的丙烯酸系树脂。对于丙烯酸系树脂，代表性的是，作为单体单元，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主成分。本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。作为构成丙烯酸系树脂的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例示出直链状或支链状的烷基的碳数为1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯。它们可以单独使用或者组合使用。进而，可以通过共聚向丙烯酸系树脂中导入任意适当的共聚单体。这样的共聚单体的种类、数量、共聚比等可以根据目的来适当地设定。对于丙烯酸系树脂的主骨架的构成成分(单体单元)，参照通式(2)在后面叙述。
丙烯酸系树脂优选具有选自戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元中的至少1者。具有内酯环单元的丙烯酸系树脂例如记载于日本特开2008-181078号公报中，该公报的记载作为参考被援引至本说明书中。戊二酰亚胺单元优选由下述通式(1)表示，
通式(1)中，R1及R2各自独立地表示氢原子或碳数1～8的烷基，R3表示氢原子、碳数1～18的烷基、碳数3～12的环烷基、或碳数6～10的芳基。通式(1)中，优选R1及R2各自独立地为氢原子或甲基、R3为氢原子、甲基、丁基或环己基。更优选R1为甲基、R2为氢原子、R3为甲基。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯代表性的是由下述通式(2)表示，
通式(2)中，R4表示氢原子或甲基，R5表示氢原子、或者任选被取代的碳数1～6的脂肪族或脂环式烃基。作为取代基，例如，可列举出卤素、羟基。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯。通式(2)中，R5优选为氢原子或甲基。因此，特别优选的(甲基)丙烯酸烷基酯为丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。
上述丙烯酸系树脂可以仅包含单一的戊二酰亚胺单元，也可以包含上述通式(1)中的R1、R2及R3不同的多个戊二酰亚胺单元。
上述丙烯酸系树脂中的戊二酰亚胺单元的含有比例优选为2摩尔％～50摩尔％、更优选为2摩尔％～45摩尔％、进一步优选为2摩尔％～40摩尔％、特别优选为2摩尔％～35摩尔％、最优选为3摩尔％～30摩尔％。含有比例比2摩尔％少时，有源自戊二酰亚胺单元而表现出的效果(例如，高的光学特性、高的机械强度、与偏光件的优异的粘接性、薄型化)不会充分发挥的担心。若含有比例超过50摩尔％，则有例如耐热性、透明性变不充分的担心。
上述丙烯酸系树脂可以仅包含单一的(甲基)丙烯酸烷基酯单元，也可以包含上述通式(2)中的R4及R5不同的多种(甲基)丙烯酸烷基酯单元。
上述丙烯酸系树脂中的(甲基)丙烯酸烷基酯单元的含有比例优选为50摩尔％～98摩尔％、更优选为55摩尔％～98摩尔％、进一步优选为60摩尔％～98摩尔％、特别优选为65摩尔％～98摩尔％、最优选为70摩尔％～97摩尔％。含有比例比50摩尔％少时，有源自(甲基)丙烯酸烷基酯单元而表现出的效果(例如，高的耐热性、高的透明性)不会充分发挥的担心。上述含有比例比98摩尔％多时，有树脂脆而容易破裂、不能充分发挥高的机械强度、生产率差的担心。
上述丙烯酸系树脂可以包含除戊二酰亚胺单元及(甲基)丙烯酸烷基酯单元以外的单元。
1个实施方式中，丙烯酸系树脂可以含有不参与后述分子内酰亚胺化反应的不饱和羧酸单元例如0～10重量％。不饱和羧酸单元的含有比例优选为0～5重量％、更优选为0～1重量％。含量为这样的范围时，能够维持透明性、滞留稳定性及耐湿性。
1个实施方式中，丙烯酸系树脂可以含有上述以外的可共聚的乙烯基系单体单元(其他乙烯基系单体单元)。作为其他乙烯基系单体，例如，可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基缩水甘油醚、马来酸酐、衣康酸酐、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸丙基氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸乙基氨基丙酯、甲基丙烯酸环己基氨基乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙酰基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-异丙烯基噁唑啉、2-乙烯基噁唑啉、2-丙烯酰基噁唑啉、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸苯基氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对缩水甘油基苯乙烯、对氨基苯乙烯、2-苯乙烯基噁唑啉等。这些可以单独使用，也可以组合使用。优选为苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体。其他乙烯基系单体单元的含有比例优选为0～1重量％、更优选为0～0.1重量％。为这样的范围时，能够抑制不期望的相位差的显现及透明性的降低。
上述丙烯酸系树脂中的酰亚胺化率优选为2.5％～20.0％。酰亚胺化率为这样的范围时，可得到耐热性、透明性及成形加工性优异的树脂，能防止薄膜成形时的结垢的产生、机械强度的降低。对于上述丙烯酸系树脂，酰亚胺化率由戊二酰亚胺单元与(甲基)丙烯酸烷基酯单元的比表示。该比例如可以根据丙烯酸系树脂的NMR谱、IR谱等来得到。本实施方式中，酰亚胺化率可以通过使用1HNMRBRUKER AvanceIII(400MHz)通过树脂的1H-NMR测定来求出。更具体而言，将3.5～3.8ppm附近的源自(甲基)丙烯酸烷基酯的O-CH3质子的峰面积设为A、将3.0～3.3ppm附近的源自戊二酰亚胺的N-CH3质子的峰的面积设为B，通过下式来求出。
酰亚胺化率Im(％)＝{B/(A+B)}×100
上述丙烯酸系树脂的酸值优选为0.10mmol/g～0.50mmol/g。酸值为这样的范围时，能够得到耐热性、机械物性及成形加工性的平衡优异的树脂。若酸值过小，则有时会产生由使用用于调整为期望的酸值的改性剂而引起的成本增加、由改性剂的残存引起的凝胶状物的产生等问题。若酸值过大，则有容易引起薄膜成形时(例如，熔融挤出时)的发泡，成形品的生产率降低的倾向。对于上述丙烯酸系树脂，酸值为该丙烯酸系树脂中的羧酸单元及羧酸酐单元的含量。本实施方式中，酸值例如可以通过WO2005/054311或日本特开2005-23272号公报中记载的滴定法来算出。
上述丙烯酸系树脂的重均分子量优选为1000～2000000、更优选为5000～1000000、进一步优选为10000～500000、特别优选为50000～500000、最优选为60000～150000。重均分子量例如可以使用凝胶渗透色谱(GPC***，东曹株式会社制)、通过聚苯乙烯换算来求出。需要说明的是，作为溶剂，可以使用四氢呋喃。
上述丙烯酸系树脂的Tg(玻璃化转变温度)优选为110℃以上、更优选为115℃以上、进一步优选为120℃以上、特别优选为125℃以上、最优选为130℃以上。Tg为110℃以上时，包含由这样的树脂得到的保护薄膜的偏光板的耐久性容易变得优异。Tg的上限值优选为300℃以下、更优选为290℃以下、进一步优选为285℃以下、特别优选为200℃以下、最优选为160℃以下。Tg为这样的范围时，成形性优异。
C-2-2.丙烯酸系树脂的聚合
上述丙烯酸系树脂例如可以通过以下的方法来制造。该方法包括：(I)使与通式(2)所示的(甲基)丙烯酸烷基酯单元相对应的(甲基)丙烯酸烷基酯单体与不饱和羧酸单体和/或其前体单体共聚而得到共聚物(a)；及(II)用酰亚胺化剂对该共聚物(a)进行处理，由此进行该共聚物(a)中的(甲基)丙烯酸烷基酯单体单元与不饱和羧酸单体和/或其前体单体单元的分子内酰亚胺化反应，将通式(1)所示的戊二酰亚胺单元导入到共聚物中。
作为不饱和羧酸单体，例如，可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸。作为其前体单体，例如，可列举出丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等。这些可以单独使用，也可以组合使用。优选的不饱和羧酸单体为丙烯酸或甲基丙烯酸、优选的前体单体为丙烯酰胺。
作为用酰亚胺化剂对共聚物(a)进行处理的方法，可以使用任意适当的方法。作为具体例，可列举出使用挤出机的方法、使用间歇式反应槽(压力容器)的方法。使用挤出机的方法包括使用挤出机将共聚物(a)加热熔融、将其用酰亚胺化剂进行处理。该情况下，作为挤出机，可以使用任意适当的挤出机。作为具体例，可列举出单螺杆挤出机、双螺杆挤出机、多螺杆挤出机。对于使用间歇式反应槽(压力容器)的方法，可以使用任意适当的间歇式反应槽(压力容器)。
作为酰亚胺化剂，只要能够生成上述通式(1)所示的戊二酰亚胺单元，就可以使用任意适当的化合物。作为酰亚胺化剂的具体例，可列举出甲胺、乙胺、正丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、正己胺等含脂肪族烃基的胺、苯胺、苄胺、甲苯胺、三氯苯胺等含芳香族烃基的胺、环己胺等含脂环式烃基的胺。进而，也可以使用例如通过加热会产生这样的胺的脲系化合物。作为脲化合物，例如，可列举出脲、1,3-二甲基脲、1,3-二乙基脲、1,3-二丙基脲。酰亚胺化剂优选为甲胺、氨、环己基胺，更优选为甲胺。
对于酰亚胺化，除了添加上述酰亚胺化剂以外，根据需要还可以添加闭环促进剂。
酰亚胺化中的酰亚胺化剂的用量相对于共聚物(a)100重量份优选为0.5重量份～10重量份、更优选为0.5重量份～6重量份。若酰亚胺化剂的用量比0.5重量份少，则有时不会达成期望的酰亚胺化率。其结果，有时得到的树脂的耐热性变得极其不充分，会诱发成形后的结垢等外观缺陷。若酰亚胺化剂的用量超过10重量份，则有时酰亚胺化剂会残存在树脂中，会由该酰亚胺化剂诱发成形后的结垢等外观缺陷、发泡。
本实施方式的制造方法根据需要除了上述酰亚胺化以外，还可以包括基于酯化剂的处理。
作为酯化剂，例如，可列举出碳酸二甲酯、2,2-二甲氧基丙烷、二甲基亚砜、原甲酸三乙酯、原乙酸三甲酯、原甲酸三甲酯、碳酸二苯酯、硫酸二甲酯、甲苯磺酸甲酯、甲基三氟甲烷磺酸酯、乙酸甲酯、甲醇、乙醇、异氰酸甲酯、对氯苯基异氰酸酯、二甲基碳二亚胺、二甲基叔丁基氯硅烷、乙酸异丙烯基酯、二甲基脲、四甲基氢氧化铵、二甲基二乙氧基硅烷、四-N-丁氧基硅烷、二甲基(三甲基硅烷)亚磷酸酯、亚磷酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、重氮甲烷、环氧乙烷、环氧丙烷、氧化环己烯、2-乙基己基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、苄基缩水甘油醚。这些当中，从成本及反应性等观点出发，优选碳酸二甲酯。
酯化剂的添加量可以以丙烯酸系树脂的酸值成为期望的值的方式来设定。
C-2-3.其他树脂的组合使用
本发明的实施方式中，可以将上述丙烯酸系树脂和其他树脂组合使用。即，可以使构成丙烯酸系树脂的单体成分和构成其他树脂的单体成分共聚，将该共聚物供于后面在D项中叙述的薄膜形成；也可以将丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物供于薄膜形成。作为其他树脂，例如，可列举出苯乙烯系树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚砜、聚苯醚(polyphenylene oxide)、聚缩醛、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等其他热塑性树脂、酚系树脂、三聚氰胺系树脂、聚酯系树脂、有机硅系树脂、环氧系树脂等热固化性树脂。组合使用的树脂的种类及配混量可以根据目的及得到的薄膜所期望的特性等来适当地设定。例如，可以组合使用苯乙烯系树脂(优选丙烯腈-苯乙烯共聚物)来作为相位差控制剂。
组合使用丙烯酸系树脂和其他树脂的情况下，丙烯酸系树脂和其他树脂的共混物中的丙烯酸系树脂的含量优选为50重量％～100重量％、更优选为60重量％～100重量％、进一步优选为70重量％～100重量％、特别优选为80重量％～100重量％。含量不足50重量％的情况下，有不能充分反映丙烯酸系树脂本来具有的高耐热性、高透明性的担心。
C-3.核壳型颗粒
上述保护薄膜中，核壳型颗粒相对于丙烯酸系树脂100重量份优选配混3重量份～50重量份、更优选3重量份～40重量份。由此，能将保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra调整为期望的范围内。核壳型颗粒可以通过一部分在保护薄膜的表面露出来在保护薄膜的表面形成凹凸，也可以不在保护薄膜的表面露出地(以被丙烯酸系树脂覆盖的状态)在保护薄膜的表面形成凹凸。
核壳型颗粒代表性的是具有由橡胶状聚合物构成的核和由玻璃状聚合物构成的覆盖该核的覆盖层。核壳型颗粒可以具有1层以上由玻璃状聚合物构成的层作为最内层或中间层。
构成核的橡胶状聚合物的Tg优选为20℃以下、更优选为-60℃～20℃、进一步优选为-60℃～10℃。若构成核的橡胶状聚合物的Tg超过20℃，则有丙烯酸系树脂的机械强度的提高不充分的担心。构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)的Tg优选为50℃以上、更优选为50℃～140℃、进一步优选为60℃～130℃。若构成覆盖层的玻璃状聚合物的Tg低于50℃，则有丙烯酸系树脂的耐热性降低的担心。
核壳型颗粒中的核的含有比例优选为30重量％～95重量％、更优选为50重量％～90重量％。核中的玻璃状聚合物层的比例相对于核的总量100重量％为0～60重量％，优选为0～45重量％、更优选为10重量％～40重量％。核壳型颗粒中的覆盖层的含有比例优选为5重量％～70重量％、更优选为10重量％～50重量％。
1个实施方式中，分散于丙烯酸系树脂中的核壳型颗粒可以具有扁平形状。核壳型颗粒可以通过后面在C-4项中叙述的拉伸进行扁平化。进行了扁平化的核壳型颗粒的长度/厚度的比为7.0以下。长度/厚度的比优选为6.5以下、更优选为6.3以下。另一方面，长度/厚度的比优选为4.0以上、更优选为4.5以上、进一步优选为5.0以上。本说明书中，“长度/厚度的比”是指核壳型颗粒的俯视形状的代表长度与厚度的比。此处，对于“代表长度”，在俯视形状为圆形的情况下是指直径、为椭圆形的情况下是指长径、为矩形或多边形的情况下是指对角线的长度。该比可以通过例如以下的步骤来求出。用透射型电子显微镜(例如，加速电压80kV、RuO4染色超薄切片法)对得到的薄膜截面进行拍摄，从存在于所得照片中的核壳型颗粒中长的颗粒(得到接近代表长度的截面的颗粒)起依次抽出30个，算出(长度的平均值)/(厚度的平均值)，由此可得到该比。
关于构成核壳型颗粒的核的橡胶状聚合物、构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)、它们的聚合方法、及其他构成的详细情况，例如记载于日本特开2016-33552号公报中。该公报的记载作为参考被援引至本说明书中。
C-4.保护薄膜的形成
本发明的实施方式的保护薄膜代表性的是可以通过包括将包含上述丙烯酸系树脂(组合使用其他树脂的情况下，为与该其他树脂的共混物)及核壳型颗粒的组合物形成薄膜的方法来形成。进而，形成保护薄膜的方法可以包括对上述薄膜进行拉伸。
薄膜形成中使用的核壳型颗粒的平均粒径优选为1nm～500nm。为这样的平均粒径时，能将得到的保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra调整至期望的范围内。核的平均粒径优选为50nm～300nm、更优选为70nm～300nm。
作为形成薄膜的方法，可以采用任意适当的方法。作为具体例，可列举出流延涂布法(例如，流延法)、挤出成形法、注射成形法、压缩成形法、传递成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、压延成形法、热压法。优选为挤出成形法或流延涂布法。这是因为，能够提高得到的薄膜的平滑性，得到良好的光学均匀性。特别优选为挤出成形法。这是因为，不必考虑由残存溶剂引起的问题。其中，使用了T模的挤出成形法从薄膜的生产率及之后的拉伸处理的容易性的观点出发是优选的。成形条件可以根据使用的树脂的组成、种类、得到的薄膜所期望的特性等来适宜设定。
作为拉伸方法，可以采用任意适当的拉伸方法、拉伸条件(例如，拉伸温度、拉伸倍率、拉伸速度、拉伸方向)。作为拉伸方法的具体例，可列举出自由端拉伸、固定端拉伸、自由端收缩、固定端收缩。这些可以单独使用，可以同时使用，也可以逐次使用。通过在适当的拉伸条件下对适当地调整了核壳型颗粒相对于丙烯酸系树脂的配混量的薄膜进行拉伸，从而核壳型颗粒移动(渗出)到薄膜的表面，其结果，在薄膜的表面形成凹凸，可将得到的保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra调整至上述期望的范围内。
拉伸方向可以根据目的采用适当的方向。具体而言，可列举出长度方向、宽度方向、厚度方向、斜向。拉伸方向可以为一个方向(单轴拉伸)、可以为两个方向(双轴拉伸)、也可以为三个方向以上。本发明的实施方式中，代表性的是可以采用长度方向的单轴拉伸、长度方向及宽度方向的同时双轴拉伸、长度方向及宽度方向的逐次双轴拉伸。优选为双轴拉伸(同时或逐次)。这是因为，面内相位差的控制容易，容易实现光学的各向同性。
拉伸温度可以根据保护薄膜所期望的光学特性、机械特性及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸倍率、拉伸速度等而变化。具体而言，拉伸温度优选为Tg～Tg+50℃、进一步优选为Tg+15℃～Tg+50℃、最优选为Tg+35℃～Tg+50℃。通过以这样的温度进行拉伸，由此可得到具有适当的特性的保护薄膜。具体的拉伸温度例如为110℃～200℃，优选为120℃～190℃。拉伸温度为这样的范围时，通过适当地调整拉伸倍率及拉伸速度，从而核壳型颗粒渗出到薄膜的表面，能将得到的保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra调整至上述期望的范围内。
另外，拉伸倍率也与拉伸温度同样地，可以根据保护薄膜所期望的表面的算术平均粗糙度Ra、光学特性、机械特性及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸速度等而变化。采用双轴拉伸的情况下，宽度方向(TD)的拉伸倍率与长度方向(MD)的拉伸倍率的比(TD/MD)优选为1.0～1.5、更优选为1.0～1.4、进一步优选为1.0～1.3。另外，采用双轴拉伸时的面倍率(长度方向的拉伸倍率与宽度方向的拉伸倍率的积)优选为2.0～6.0、更优选为3.0～5.5、进一步优选为3.5～5.2。拉伸倍率为这样的范围时，通过适当地调整拉伸温度及拉伸速度，从而核壳型颗粒渗出到薄膜的表面，能将得到的保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra调整至上述期望的范围内。
另外，拉伸速度也与拉伸温度同样地，可以根据保护薄膜所期望的表面的算术平均粗糙度Ra、光学特性、机械特性及厚度、使用的树脂的种类、使用的薄膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸倍率等而变化。拉伸速度优选为3％/秒～20％/秒、更优选为3％/秒～15％/秒、进一步优选为3％/秒～10％/秒。采用双轴拉伸的情况下，1个方向的拉伸速度与另1个方向的拉伸速度可以相同，也可以不同。拉伸速度为这样的范围时，通过适当地调整拉伸温度及拉伸倍率，从而核壳型颗粒渗出到薄膜的表面，能将得到的保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra调整至上述期望的范围内。
如上这样操作，可形成保护薄膜。
D.图像显示装置
上述A～C项中记载的偏光板可以应用于图像显示装置。因此，本发明也包含使用了这种偏光板的图像显示装置。作为图像显示装置的代表例，可列举出液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置。图像显示装置代表性的是依次具备显示单元、偏光板、扩散片、和光源(背光灯)，偏光板的保护薄膜以与扩散片相对的方式配置。
实施例
以下，通过实施例具体地对本发明进行说明，但本发明不受这些实施例限定。各特性的测定方法如下。需要说明的是，只要没有特别说明，则实施例中的“份”及“％”为重量基准。
(1)厚度
使用数显千分表(ANRITSU CORPORATION制、制品名“KC-351C”)进行测定。
(2)保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra
对于算术平均粗糙度Ra，使用光学式轮廓测量仪(Veeco Instruments公司制、商品名“Optical Profilometer NT3300”)进行测定。
(3)损伤评价
将裁切为50mm×1500mm的尺寸的上述偏光板借助粘合剂层贴合于玻璃板(MICROSLIDE GLASS Pre-cleaned水縁磨t1.3(MATSUNAMI公司制)、制品型号“S200423”、尺寸：65mm×165mm、Thickness 1.2～1.5mm)，制作玻璃板和偏光板的层叠体。上述层叠体模拟再现了液晶面板的构成。
在托盘中配置扩散片(Sumitomo 3M Limited制、制品名“DBEF-D2-400”)，将上述层叠体以偏光板侧的面为下方的方式配置在上述扩散片上。接着，使上述托盘在200次/分钟×10分钟的条件下振动。其后，取出层叠体，目视确认偏光板的第1保护薄膜的磨耗损伤(擦伤块)的有无。
<实施例1>
(偏光板的制作)
1.保护薄膜的制作
用单甲基胺将MS树脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(摩尔比)＝80/20的共聚物，新日铁化学株式会社制)酰亚胺化(酰亚胺化率：5％)。得到的酰亚胺化MS树脂具有通式(1)所示的戊二酰亚胺单元(R1及R3为甲基、R2为氢原子)、通式(2)所示的(甲基)丙烯酸酯单元(R4及R5为甲基)、及苯乙烯单元。需要说明的是，上述酰亚胺化中使用口径15mm的啮合型同向旋转式双螺杆挤出机。将挤出机的各温度控制区域的设定温度设为230℃、将螺杆转速设为150rpm，以2.0kg/hr供给MS树脂，单甲基胺的供给量相对于MS树脂100重量份设为2重量份。从料斗投入MS树脂，用捏合块使树脂熔融及充满后，从喷嘴注入单甲基胺。在反应区域的末端放入密封环，使树脂充满。将排气口的压力减压至-0.08MPa，使反应后的副产物及过剩的甲基胺脱挥。从设置于挤出机出口的模具以线料形式出来的树脂在水槽中冷却后，用造粒机进行造粒。得到的酰亚胺化MS树脂的酰亚胺化率为5.0％、酸值为0.5mmol/g。
将上述中得到的酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒10重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，通过T模进行薄膜形成，由此得到厚度40μm的挤出薄膜。对得到的挤出薄膜在拉伸温度160℃下沿长度方向及宽度方向分别进行同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向均为10％/秒。
如此制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为10μm，算术表面粗糙度Ra为22.18nm、面内相位差Re(550)为2nm、厚度方向相位差Rth(550)为2nm。
2.偏光件的制作
将厚度30μm的聚乙烯醇(PVA)系树脂薄膜(KURARAY CO.,LTD制、制品名“PE3000”)的长条卷一边用卷拉伸机以在沿长度方向成为5.9倍的方式沿长度方向进行单轴拉伸，一边同时实施溶胀、染色、交联、清洗处理，最后实施干燥处理，由此制作厚度12μm的偏光件。
具体而言，对于溶胀处理，一边在20℃的纯水中进行处理一边拉伸至2.2倍。接着，对于染色处理，一边在以得到的偏光件的单片透过率成为45.0％的方式调整了碘浓度的碘与碘化钾的重量比为1：7的30℃的水溶液中进行处理，一边拉伸至1.4倍。进而，对于交联处理，采用2阶段的交联处理，对于第1阶段的交联处理，一边在40℃的溶解有硼酸和碘化钾的水溶液中进行处理一边拉伸至1.2倍。第1阶段的交联处理的水溶液的硼酸含量为5.0重量％，碘化钾含量设为3.0重量％。对于第2阶段的交联处理，一边在65℃的溶解有硼酸和碘化钾的水溶液中进行处理一边拉伸至1.6倍。第2阶段的交联处理的水溶液的硼酸含量为4.3重量％、碘化钾含量设为5.0重量％。另外，对于清洗处理，在20℃的碘化钾水溶液中进行处理。清洗处理的水溶液的碘化钾含量设为2.6重量％。最后，对于干燥处理，在70℃下干燥5分钟，得到偏光件。
3.偏光板的制作
(第2保护薄膜)
借助聚乙烯醇系粘接剂，将上述中得到的保护薄膜贴合于上述偏光件的一个面作为第1保护薄膜，借助聚乙烯醇系粘接剂将TAC薄膜(大日本印刷株式会社制、商品名“DSG-03”、厚度70μm)贴合于上述偏光件的另一面作为第2保护薄膜。
(粘合剂层)
在具备冷凝管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中将丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份、及相对于前述单体合计(固体成分)100份为0.3份的过氧化二苯甲酰与乙酸乙酯一起加入，在氮气气流下、在60℃反应7小时后，向该反应液中加入乙酸乙酯，得到含有重均分子量220万、分散比3.9的丙烯酸系聚合物(B)的溶液(固体成分浓度30％)。相对于前述含有丙烯酸系聚合物(B)的溶液的固体成分100份，配混0.6份三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.制：CoronateL)和0.075份的γ-环氧丙氧基丙基甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制：KBM-403)，得到粘合剂的溶液。对前述的溶液以固体成分浓度成为15％的方式用乙酸乙酯进行稀释而制备粘合剂涂布液。在实施了有机硅处理的、38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(三菱化学ポリエステルフィルム(株)制，MRF38)的单面，用喷泉式模涂机以涂布厚度成为134.0μm的方式涂布上述中制备的粘合剂涂布液。接着，在155℃进行1分钟干燥，形成厚度20μm的粘合剂层。将该粘合剂层转印到上述TAC薄膜的表面，制作偏光板(带粘合剂层)。将得到的偏光板供于上述的评价。将结果示于表1。
<实施例2>
形成厚度80μm的挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为20μm、算术平均粗糙度Ra为12.37nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例3>
形成厚度160μm的挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为40μm、算术平均粗糙度Ra为6.48nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例4>
形成厚度120μm的挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为8.17nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例5>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒3重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为6.11nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例6>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒5重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为6.79nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例7>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒20重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为23.45nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例8>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒30重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为31.37nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例9>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒40重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为32.79nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例10>
对得到的挤出薄膜在拉伸温度140℃下进行拉伸，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为8.06nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例11>
对得到的挤出薄膜在拉伸温度130℃下进行拉伸，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为6.72nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例12>
对得到的挤出薄膜在拉伸温度170℃下进行拉伸，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为15.76nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<实施例13>
对得到的挤出薄膜在拉伸温度180℃下进行拉伸，除此以外，与实施例4同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为30μm、算术平均粗糙度Ra为17.29nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<比较例1>
仅将酰亚胺化MS树脂投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，对得到的挤出薄膜在拉伸温度145℃下进行拉伸，除此以外，与实施例3同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为40μm、算术平均粗糙度Ra为4.2nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<比较例2>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒1重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，使用该挤出薄膜，除此以外，与实施例3同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为40μm、算术平均粗糙度Ra为4.93nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
<比较例3>
将酰亚胺化MS树脂100重量份和核壳型颗粒5重量份投入到单螺杆挤出机中进行熔融混合，由此形成挤出薄膜，对得到的挤出薄膜在拉伸温度100℃下进行拉伸，除此以外，与实施例3同样地操作来制作保护薄膜。得到的保护薄膜的厚度为40μm、算术平均粗糙度Ra为5.14nm。使用上述保护薄膜，除此以外，与实施例1同样地操作来制作偏光板。将上述偏光板供于与实施例1同样的评价。将结果示于表1。
[表1]
根据表1可明确，比较例1～3的偏光板因在与扩散片接触的状态下振动而产生了磨耗损伤，但实施例1～13的偏光板即使在与扩散片接触的状态下振动也不会产生磨耗损伤。
产业上的可利用性
本发明的偏光板可以适当地用于图像显示装置。本发明的图像显示装置可以用于便携式信息终端(PDA)、智能电话、手机、手表、数码相机、便携式游戏机等便携式设备；电脑显示器，笔记本电脑，复印机等OA设备；摄像机、电视、微波炉等家庭用电气设备；后视监控器(back monitor)、车载导航***用监控器、汽车音响等车载用设备；数字标牌、商业店铺用信息用监控器等展示设备；监视用监控器等警备设备；护理用监控器、医疗用监控器等护理·医疗设备；等各种用途。
附图标记说明
1 偏光件
2 保护薄膜
3 第2保护薄膜
10 偏光板
11 偏光板

Claims (8)

1.一种偏光板，其具有：偏光件、和配置于该偏光件的至少一侧的保护薄膜，
所述保护薄膜包含：丙烯酸系树脂、和分散于该丙烯酸系树脂的核壳型颗粒，
所述保护薄膜的表面的算术平均粗糙度Ra为6.0nm以上。
2.根据权利要求1所述的偏光板，其中，所述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元组成的组中的至少1者。
3.根据权利要求1或2所述的偏光板，其中，在所述保护薄膜的与所述偏光件处于相反侧的表面形成有由所述核壳型颗粒引起的凹凸。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏光板，其中，所述保护薄膜相对于所述丙烯酸系树脂100重量份包含所述核壳型颗粒3重量份～50重量份。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏光板，其中，所述核壳型颗粒具有：由橡胶状聚合物构成的核、和由玻璃状聚合物构成的覆盖该核的覆盖层。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的偏光板，其中，所述保护薄膜为双轴拉伸薄膜。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的偏光板，其中，在所述保护薄膜的表面不具有扩散层。
8.一种图像显示装置，其依次具备：显示单元、权利要求1～7中任一项所述的偏光板、扩散片、和光源，
所述偏光板的所述保护薄膜以与所述扩散片相对的方式配置。
CN201880017823.1A 2017-03-15 2018-03-01 偏光板及图像显示装置 Pending CN110446953A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017050372A JP7182854B2 (ja) 2017-03-15 2017-03-15 偏光板および画像表示装置
JP2017-050372 2017-03-15
PCT/JP2018/007681 WO2018168481A1 (ja) 2017-03-15 2018-03-01 偏光板および画像表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110446953A true CN110446953A (zh) 2019-11-12

Family

ID=63523422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880017823.1A Pending CN110446953A (zh) 2017-03-15 2018-03-01 偏光板及图像显示装置

Country Status (5)

Country Link
JP (2) JP7182854B2 (zh)
KR (1) KR102641140B1 (zh)
CN (1) CN110446953A (zh)
TW (1) TWI766963B (zh)
WO (1) WO2018168481A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113917577A (zh) * 2021-12-13 2022-01-11 恒美光电股份有限公司 一种高耐水耐弯折性光学保护膜、偏光片及液晶显示设备

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230034424A (ko) * 2018-07-31 2023-03-09 코니카 미놀타 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판, 및 광학 필름의 제조 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101261328A (zh) * 2007-03-08 2008-09-10 富士胶片株式会社 透明保护膜、光学补偿膜、偏振片和液晶显示装置
JP2010096919A (ja) * 2008-10-15 2010-04-30 Asahi Kasei Chemicals Corp 光学フィルム
JP2011088946A (ja) * 2009-10-20 2011-05-06 Sumitomo Chemical Co Ltd アクリル樹脂フィルム
CN102341732A (zh) * 2009-03-06 2012-02-01 柯尼卡美能达精密光学株式会社 偏振片的制造方法、利用该制造方法制造的偏振片以及使用该偏振片的液晶显示装置
CN102445717A (zh) * 2010-09-30 2012-05-09 株式会社Jiro企业策划 保护片及偏光板
WO2016157913A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社カネカ 延伸アクリル系樹脂フィルムの製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100831480B1 (ko) * 2006-07-24 2008-05-21 주식회사 에이스 디지텍 난반사 보상필름의 제조방법
US20100134879A1 (en) * 2007-04-26 2010-06-03 Masanori Yoshihara Display screen protection film and polarization plate
JP2010286827A (ja) * 2009-05-14 2010-12-24 Jiroo Corporate Plan:Kk 偏光子保護フィルム、偏光板及び液晶表示素子
JP6039168B2 (ja) * 2010-09-30 2016-12-07 恵和株式会社 保護シート、保護シートの製造方法及び偏光板
JP5789292B2 (ja) * 2011-02-21 2015-10-07 株式会社カネカ アクリル系樹脂フィルム
JP2013109116A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Konica Minolta Advanced Layers Inc 偏光膜保護フィルムの製造方法、偏光膜保護フィルム、偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
KR20140047548A (ko) * 2012-10-12 2014-04-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름 및 그 제조 방법, 편광판 및 액정 표시 장치
JP2015123618A (ja) * 2013-12-25 2015-07-06 株式会社カネカ 光学フィルムの製造方法
JP6479362B2 (ja) * 2014-07-31 2019-03-06 株式会社カネカ 偏光子保護フィルムおよび偏光板
JP2016071264A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP6100876B1 (ja) * 2015-10-02 2017-03-22 住友化学株式会社 偏光板用保護フィルム
JP2016218478A (ja) 2016-09-13 2016-12-22 住友化学株式会社 アクリル系樹脂フィルム及び偏光板

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101261328A (zh) * 2007-03-08 2008-09-10 富士胶片株式会社 透明保护膜、光学补偿膜、偏振片和液晶显示装置
JP2010096919A (ja) * 2008-10-15 2010-04-30 Asahi Kasei Chemicals Corp 光学フィルム
CN102341732A (zh) * 2009-03-06 2012-02-01 柯尼卡美能达精密光学株式会社 偏振片的制造方法、利用该制造方法制造的偏振片以及使用该偏振片的液晶显示装置
JP2011088946A (ja) * 2009-10-20 2011-05-06 Sumitomo Chemical Co Ltd アクリル樹脂フィルム
CN102445717A (zh) * 2010-09-30 2012-05-09 株式会社Jiro企业策划 保护片及偏光板
WO2016157913A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社カネカ 延伸アクリル系樹脂フィルムの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113917577A (zh) * 2021-12-13 2022-01-11 恒美光电股份有限公司 一种高耐水耐弯折性光学保护膜、偏光片及液晶显示设备
CN113917577B (zh) * 2021-12-13 2022-05-31 恒美光电股份有限公司 一种高耐水耐弯折性光学保护膜、偏光片及液晶显示设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018155809A (ja) 2018-10-04
WO2018168481A1 (ja) 2018-09-20
TW201842011A (zh) 2018-12-01
JP2022009348A (ja) 2022-01-14
KR20190121320A (ko) 2019-10-25
TWI766963B (zh) 2022-06-11
KR102641140B1 (ko) 2024-02-28
JP7182854B2 (ja) 2022-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201632925A (zh) 偏光板及偏光板的製造方法
TW201702653A (zh) 偏光板及偏光板之製造方法
CN105764982B (zh) 树脂材料及其膜
CN110446953A (zh) 偏光板及图像显示装置
CN110494779A (zh) 偏振片及图像显示装置
TW201840659A (zh) 偏光元件保護膜、偏光板及圖像顯示裝置
JP2018155809A5 (zh)
KR102604388B1 (ko) 광학 적층체, 편광판, 및 화상표시장치
TWI771403B (zh) 光學積層體、偏光板、及圖像顯示裝置
KR102609114B1 (ko) 광학 필름, 편광판, 및 화상표시장치
KR102612870B1 (ko) 편광자 보호 필름의 제조 방법
TWI763824B (zh) 光學膜、偏光板、及圖像顯示裝置
CN108627899A (zh) 偏振片及图像显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination