CN110430947A - 使用w/o乳液清洗液的清洗方法 - Google Patents
使用w/o乳液清洗液的清洗方法 Download PDFInfo
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Abstract
提供:从漂洗槽有效地排出水分和水溶性的污物的使用W/O乳液清洗液的清洗方法。本发明的使用W/O乳液清洗液的清洗方法的特征在于,包括如下工序:清洗工序(A),将被清洗物用包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的W/O乳液清洗液进行清洗;漂洗工序(B),将夹带前述W/O乳液清洗液的被清洗物用由前述烃系溶剂和前述表面活性剂形成的漂洗液、或由前述烃系溶剂形成的漂洗液进行漂洗;水分去除工序(C),从前述漂洗液至少去除水分的一部分;和,分离工序(D),从前述水分去除工序(C)后的前述漂洗液去除经分离的分离物。
Description
技术领域
本发明涉及使用W/O乳液清洗液的清洗方法,特别是涉及:能对附着于汽车、机械、精密仪器、电气、电子、光学等各种工业领域中要处理的部件的、极性低的污物与极性高的污物复合而成的污物进行清洗并去除的利用W/O乳液清洗液的清洗方法。
背景技术
作为清洗附着有水溶性加工油的部件的用途,提出了一种清洗剂组合物,其以规定比率包含烃系溶剂、表面活性剂和水,且形成乳液(参照专利文献1和2)。在污物包含水分的情况、或者在使用包含水分的清洗剂组合物的清洗***中清洗槽中的水分管理和之后的漂洗槽中的水分去除未适当进行的情况下,成为产生清洗不良、积水的原因。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-174106号公报
专利文献2:日本特开2015-40217号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,这些提案中,从运用中的清洗机中排出作为污物的水溶性的污物的方法存在大的问题。
例如,对于专利文献1的清洗剂,在清洗处理后,进行清洗槽的清洗剂的静置,将根据比重分离得到的水层排出,从而将水溶性的污物排出至体系外。然而,对于运转中从清洗槽引入至漂洗槽的水分,未作任何考虑,所引入的水分量如果变多,则有成为积水的原因的担心。
另外,专利文献2中,将清洗处理后的清洗剂蒸馏,将包含水溶性的污物的表面活性剂以蒸馏残渣的形式排出至体系外,在所回收的基础溶剂和水中补充必要量的表面活性剂,并供给至储备罐。然而,专利文献2中,对于引入至漂洗槽的污物,虽然能通过蒸馏再生而去除,但是对于所引入的水分,未作任何考虑,所引入的水分与基础溶剂一起被再次供给至漂洗槽,因此,漂洗槽的水分量如果变多,则成为积水的原因。
本发明是鉴于上述问题而作出的,其目的在于,提供:从漂洗槽有效地排出水分和水溶性的污物的使用W/O乳液清洗液的清洗方法。
用于解决问题的方案
鉴于上述情况,本发明人等为了解决前述问题,反复进行了各种研究,结果发现:在被清洗物中不易产生积水的使用W/O乳液清洗液的清洗方法、和W/O乳液清洗液用的清洗装置,至此完成了本发明。
本发明的使用W/O乳液清洗液的清洗方法的特征在于,包括如下工序:清洗工序(A),将被清洗物用包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的W/O乳液清洗液进行清洗;漂洗工序(B),将夹带前述W/O乳液清洗液的被清洗物用由前述烃系溶剂和前述表面活性剂形成的漂洗液、或由前述烃系溶剂形成的漂洗液进行漂洗;水分去除工序(C),从前述漂洗液至少去除水分的一部分;和,分离工序(D),从前述水分去除工序(C)后的前述漂洗液去除经分离的分离物。
发明的效果
如上述,根据本发明的清洗方法,可以从漂洗槽有效地排出水分和水溶性污物。
附图说明
图1为示出本发明的实施方式1所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
图2为示出本发明的实施方式2所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
图3为示出本发明的实施方式3所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
图4为示出本发明的实施方式4所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
图5为示出本发明的实施方式5所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
图6为示出本发明的实施方式6所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
具体实施方式
以下,对本发明的使用W/O乳液清洗液的清洗方法的优选实施方式,边参照附图边进行说明,但具体的记载内容不限定本发明。
本发明的使用W/O乳液清洗液的清洗方法的特征在于,包括如下工序:清洗工序(A),将被清洗物用包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的W/O乳液清洗液进行清洗;漂洗工序(B),将夹带W/O乳液清洗液的被清洗物用由烃系溶剂和表面活性剂形成的漂洗液、或由烃系溶剂形成的漂洗液进行漂洗;水分去除工序(C),从漂洗液至少去除水分的一部分;和,分离工序(D),从水分去除工序(C)后的漂洗液去除经分离的分离物。以下,对每个工序依次进行说明。
清洗工序(A)的目的在于,用包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的W/O乳液清洗液,从部件等被清洗物去除污物。作为去除污物的手法,没有特别限定,优选对W/O乳液清洗液赋予物理力并进行清洗的方法。例如,可以从超声波照射、利用搅拌机的搅拌、利用泵的喷流、喷淋、喷射、利用部件的揺动、旋转、移动的清洗等手法中单独使用或组合多种而使用。
清洗工序(A)中被清洗的被清洗物上,作为污物附着有水溶性加工油。没有特别限定,作为水溶性的污物,包括:用于赋予润滑性的脂肪酸金属盐、用于赋予防铁锈性能的有机·无机抑制剂、水溶性高分子、有机·无机碱、水溶性防腐剂等加工油原液中本来添加的成分。除此之外,还包括:稀释中使用的工业用水中的钙成分、随着加工而从被清洗物溶出的铝、镁等的金属离子等。这些水溶性的污物具有如下特征:不易溶解于烃系溶剂、或烃系溶剂与表面活性剂的混合物,W/O乳液清洗液的水分量如果减少,则在清洗液中析出而不溶解。
清洗工序(A)中使用的W/O乳液清洗液没有特别限定,是包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的,水在烃系溶剂与表面活性剂的混合物中以水滴的形式分散。根据该水滴直径而呈透明或不透明且白浊的外观。W/O乳液清洗液可以从如果不施加物理力则分离者至进行混合从而自然乳化那样的稳定者中选择。另外,根据需要也可以配混抗氧化剂、防腐剂等添加剂。
清洗工序(A)中使用的清洗液的W/O化不稳定时,对清洗液施加利用超声波震荡子的超声波照射、利用搅拌机、均化器的搅拌、利用泵的液循环,从而可以进行W/O乳液化。它们可以单独使用或组合多种而使用,而且也可以兼有清洗所需的物理力。
本发明中使用的成为W/O乳液清洗液的基础的烃系溶剂没有特别限定,可以从碳数8以上的正构烷烃溶剂、异构烷烃溶剂、环烷系溶剂、芳香族系溶剂中单独使用或混合多种而使用。期望与后段的漂洗工序(B)中使用的烃系溶剂通用。而且,也可以包含醇、二醇醚等有机溶剂,只要为不妨碍清洗性的范围就没有问题。
本发明中使用的表面活性剂没有特别限定,可以从非离子系或阴离子系表面活性剂中单独使用或组合多种而使用。表面活性剂的浓度也没有特别限定,相对于烃系溶剂,为0.01质量%以上且10质量%以下、优选分别为0.1质量%以上且低于4质量%。含量低于0.01质量%的情况下,无法得到充分的清洗效果,超过10质量%而含有也无法期待清洗效果的改善。
作为非离子系表面活性剂,可以举出:多元醇与脂肪酸经酯键合了的酯型、高级醇、烷基酚等具有羟基的原料中加成了环氧乙烷、环氧丙烷、环氧丁烷等环氧烷而成的醚型、由多元醇和脂肪酸形成的酯中加成了上述环氧烷而成的酯·醚型、由烷基胺和脂肪酸形成的脂肪酸胺型、由烷基乙醇酰胺和脂肪酸形成的脂肪酸乙醇酰胺型等。
作为阴离子系表面活性剂,可以举出石油磺酸盐、硫酸化油等磺酸盐型、硫酸酯盐型等。
本发明中使用的W/O乳液清洗液中使用的水没有特别限定,可以使用离子交换水、蒸馏水、自来水等,即使包含醇、二醇醚、无机盐类等,只要在不妨碍清洗性的范围内就也可以使用。水分浓度也没有特别限定,相对于烃系溶剂,为0.1质量%以上且70质量%以下、优选分别为1质量%以上且低于20质量%。含量低于0.1质量%的情况下,无法得到对水溶性的污物的充分的清洗效果,超过70质量%而含有也无法期待清洗效果的改善。
清洗工序(A)中使用的W/O乳液清洗液通常使用的是,水溶性的污物的允许浓度为2g/L以上的W/O乳液清洗液,进一步优选30g/L以上。水溶性的污物浓度低于2g/L时,清洗力消失而不优选。
本发明中,优选保持清洗工序(A)中被清洗物引入的水溶性的污物量、与清洗后被清洗物从清洗工序(A)带出的水溶性的污物量的均衡性。前者与后者为等量的情况下,W/O乳液清洗液中的水溶性的污物浓度成为平衡状态。
该平衡状态下的水溶性的污物浓度如以下计算。
Cconst=Mout÷Vout (1)
此处
Cconst:清洗工序(A)的W/O乳液清洗液中的水溶性的污物平衡浓度(g/L)
Mout:从清洗工序(A)带出的每单位时间的W/O乳液中的水溶性的污物量(g/hr)
Vout:从清洗工序(A)带出的每单位时间的W/O乳液清洗液的量(L/hr)
运转中的W/O乳液清洗液的蒸发所导致的减少量充分小而能忽视,因此,(1)式进一步以(2)式表示。
Cconst≒Min÷Vsupplid (2)
此处
Min:附着于被清洗物、且引入至清洗工序(A)的水溶性的污物量(g/hr)
Vsupplid:附着于被清洗物、且补充从清洗工序(A)带出的量的W/O乳液清洗液量(L/hr)
作为通常的数值,例如将Min设为2g/hr、Vsupplid设为2L/hr时,Cconst成为1g/L。该数值充分小于本发明中使用的W/O乳液清洗液的水溶性的污物浓度(g/L)的通常的污物允许量30g/L左右,因此可知,清洗工序(A)可以仅以例如清洗液的补充而运用。
以水溶性的污物量成为允许浓度以上的方式引入的情况下,在多个清洗槽中进行清洗工序(A),根据需要,从成为污物的允许浓度的槽进行W/O乳液清洗液的一部分的废弃,从其后段的清洗槽向前段的清洗槽在W/O乳液清洗液中溢流,向后段的清洗槽补充新液,从而可以运用各槽而没有破绽。
漂洗工序(B)的目的在于,将附着于被清洗物的W/O乳液清洗液用由烃系溶剂形成的漂洗液、或由烃系溶剂和表面活性剂形成的漂洗液置换。作为置换W/O乳液清洗液的手法,没有特别限定,期望对漂洗液施加物理力的手法。例如,可以从利用超声波震荡子的超声波照射、利用搅拌机的搅拌、利用泵的喷流、喷淋、喷射、利用被清洗物的揺动、旋转的清洗等中单独使用或组合多种而使用。
漂洗工序(B)中使用的漂洗液只要以W/O乳液清洗液溶解或分散的烃系溶剂为主成分、且水分少即可。可以为烃系溶剂中添加有表面活性剂的物质,也可以为不添加表面活性剂的烃系溶剂。W/O乳液清洗液的引入多的情况下、附着于被清洗物的颗粒状的污物多的情况下,优选添加有表面活性剂的烃系溶剂,W/O乳液清洗液的引入少的情况下,为了减少装置的槽数,适合的是,以不含表面活性剂的烃系溶剂为漂洗液。
水分去除工序(C)为从含有W/O乳液清洗液的漂洗液去除水分的一部分的工序。其目的在于,通过将作为W/O乳液清洗液的成分引入的水分从漂洗液去除,从而使W/O乳液清洗液中所含的水溶性的污物析出。水分去除工序(C)优选使漂洗液中的水气化而去除。作为水分去除的手法,没有特别限定,可以从减压、加温、气液接触、超声波照射等中单独使用或组合多种而使用。
分离工序(D)的目的在于,从水分去除工序(C)后的漂洗液去除经分离的水溶性的污物。如上述,水溶性的污物不易溶解于烃系溶剂、或烃系溶剂与表面活性剂的混合物,漂洗液中的水分量如果减少,则在漂洗液中析出而不溶解。分离工序(D)中,去除通过水分去除工序(C)而从漂洗液中析出·分离的水溶性的污物。作为水溶性污物的去除方法,没有特别限定,只要基于利用过滤器的过滤、吸附、膜分离、重力沉降、离心分离、蒸馏浓缩等固液浓缩分离即可,特别是利用过滤器的过滤、离心分离或蒸馏浓缩在经济上优选。此时,根据需要也可以使用絮凝剂、过滤助剂等。
作为过滤器,没有特别限定,可以从绕纱过滤器、无纺布、海绵等深度过滤器、金属网、滤纸、膜滤器等表面过滤器等中单独使用或组合多种而使用。水溶性的污物或微粒等异物多的情况下,优选捕集保持量多的深度过滤器,要求过滤精度的情况下,优选表面过滤器。
作为离心分离,没有特别限定,可以从倾析器型、篮型、盘型、旋风型等中单独使用或组合多种而使用。其中,旋风型具有结构简单且不具有可动部、容易小型化的特征,盘型具有容易得到高离心力、容易去除微粒的特征。
作为蒸馏浓缩,没有特别限定,可以使用常压蒸馏、水蒸气蒸馏、减压蒸馏等,其中,减压蒸馏的蒸馏再生液不易劣化,是适合的。
本发明中,也可以在同一槽内进行漂洗工序(B)和水分去除工序(C)。但是,上述情况下,需要事先顾虑,使得所分离的水溶性的污物不再次附着于被清洗物。在同一槽中进行漂洗工序(B)和水分去除工序(C)的情况下,优选使用由烃系溶剂和表面活性剂形成的漂洗液作为漂洗液。这是由于,漂洗液包含表面活性剂,从而经析出·分离的水溶性的污物被表面活性剂所分散,可以防止对被清洗物的再次附着。
另外,也可以在同一槽中进行水分去除工序(C)和分离工序(D)。例如可以举出:通过蒸馏,将水分和烃系溶剂分馏,去除水分的同时,将作为釜底液的水溶性污物、或包含水溶性污物的表面活性剂去除,将所得烃系溶剂、或烃系溶剂中添加有表面活性剂的混合物供给至漂洗槽的工序。
接着,参照图对本发明的使用W/O乳液清洗液的清洗方法详细进行说明。图1~6为示出本发明的实施方式1~6所涉及的清洗装置的主要部分构成例的说明图。
图1所示的实施方式1中,附着有水溶性的污物的被清洗物以清洗槽1、第1漂洗槽2、第2漂洗槽3、第3漂洗槽4和减压干燥槽5的顺序被输送,经清洗、干燥,成为纯净的被清洗物。
清洗槽1是用于利用W/O乳液清洗液进行清洗工序(A)的装置,W/O乳液清洗液6被贮存于槽内。使被清洗物浸渍于W/O乳液清洗液6内,用超声波震荡子7照射超声波,去除水溶性的污物等。
第1漂洗槽2是用于进行漂洗工序(B)的装置,由表面活性剂和烃系溶剂形成的漂洗液8被贮存于槽内。通过清洗槽1中的清洗工序(A),使附着有W/O乳液清洗液6的被清洗物浸渍于漂洗液8内,用超声波震荡子7照射超声波。通过该漂洗工序(B),附着于被清洗物的W/O乳液清洗液6被分散于漂洗液8内,附着于被清洗物的W/O乳液6被置换为漂洗液8。
气泡槽9是用于进行水分去除工序(C)的装置。分散有引入至第1漂洗槽2的W/O乳液清洗液6的漂洗液8被输送至气泡槽9,用空气或氮气气体10进行鼓泡。与烃系溶剂相比,水的蒸气压高,因此,通过鼓泡,水分以水蒸气的形式优先被气化去除至体系外。与W/O乳液清洗液6一起被引入至第1漂洗槽2、且溶解于漂洗液8中的水溶性的污物由于漂洗液8中的水分的降低而无法溶解于漂洗液8中,在漂洗液8中析出·分离。
过滤器元件11是用于进行分离工序(D)的装置。气泡槽9中被去除了水分的漂洗液8通过泵12从气泡槽9送液至过滤器元件11,过滤经析出·分离的水溶性的污物。去除了水溶性的污物的漂洗液8返回至第1漂洗槽2。
第2漂洗槽3和第3漂洗槽4是用于去除残留于经漂洗工序(B)的被清洗物表面的表面活性剂的装置。第2漂洗槽3和第3漂洗槽4中,以漂洗液13的形式贮存有烃系溶剂。使被清洗物浸渍于漂洗液13内,用超声波震荡子7照射超声波,从而去除附着于被清洗物的表面活性剂。
减压干燥槽5是用于使残留于被清洗物表面的漂洗液13气化并干燥的装置。利用真空泵14,减压干燥槽5内成为减压,漂洗液13气化而从被清洗物表面被去除。根据需要,也可以设置导入漂洗液13的蒸气的工序,在干燥前将被清洗物预热。
蒸馏再生槽15是用于去除溶解于第2漂洗槽3和第3漂洗槽4内的漂洗液13的表面活性剂、其他污物的装置。包含污物的漂洗液13从第2漂洗槽3被引入至蒸馏再生槽15,经加热气化成为蒸气,将其在冷却器16中液化。成为澄清的漂洗液13被供给至第3漂洗槽4。另外,漂洗液13从第3漂洗槽4向第2漂洗槽3溢流,因此,也可以抑制第2漂洗槽3内的漂洗液13的污物浓度的上升。
图2所示的实施方式2是将图1所示的实施方式1的第1漂洗槽2替换为减压漂洗槽17、过滤器元件11替换为旋风型离心分离器18而成的方式。附着有水溶性的污物的被清洗物以清洗槽1、减压漂洗槽17、第2漂洗槽3、第3漂洗槽4和减压干燥槽5的顺序被输送、清洗、干燥而变得纯净。
减压漂洗槽17是用于进行漂洗工序(B)和水分去除工序(C)的装置。减压漂洗槽17中,贮存有由表面活性剂和烃系溶剂形成的漂洗液8。通过清洗槽1中的清洗工序(A),使附着有W/O乳液清洗液6的被清洗物浸渍于漂洗液8内后,在用真空泵14使减压漂洗槽17内成为减压的状态下,用超声波震荡子7照射超声波。通过该漂洗工序(B),附着于被清洗物的W/O乳液清洗液6被置换为漂洗液8。另一方面,漂洗液8中所引入的水分与构成漂洗液8的烃系溶剂相比,蒸气压高,因此,通过使减压漂洗槽17内为减压,从而水分以水蒸气的形式优先被气化去除至体系外。与W/O乳液清洗液6一起被引入减压漂洗槽17、并溶解于漂洗液8中的水溶性的污物由于漂洗液8中的水分的降低而无法溶解于漂洗液8中,在漂洗液8中析出·分离。漂洗液8中析出的水溶性的污物由于漂洗液8中所含的表面活性剂的作用而成为分散的状态,不产生对被清洗物的再次附着。
实施方式2中,通过使用兼具漂洗工序(B)和水分去除工序(C)的减压漂洗槽17,从而即使具有袋孔的部件为被清洗物,用包含表面活性剂的漂洗液8也容易置换W/O乳液清洗液6,有不易产生积水的优点。
旋风型离心分离器18是用于进行分离工序(D)的装置,去除了水分的漂洗液8通过泵12被送液至旋风型离心分离机18。析出的水溶性的污物用该旋风型离心分离器18被去除后,返回至减压漂洗槽17。
图3所示的实施方式3是将图1所示的实施方式1的气泡槽9替换为减压脱水槽19、减压干燥槽5替换为热风干燥槽20的方式。附着有水溶性的污物的被清洗物以清洗槽1、第1漂洗槽2、第2漂洗槽3、第3漂洗槽4和热风干燥槽20的顺序被输送、清洗、干燥而变得纯净。
减压脱水槽19是用于进行水分去除工序(C)的装置。第1漂洗槽2内的由表面活性剂和烃系溶剂形成的漂洗液8中,分散有从清洗槽1引入的W/O乳液清洗液6。分散有W/O乳液清洗液6的漂洗液8被输送至减压脱水槽19,减压脱水槽19内用真空泵14被减压。与烃系溶剂相比,水的蒸气压高,因此,漂洗液8中的水分以水蒸气的形式优先被气化去除至体系外。漂洗液8中的水分降低,从而水溶性的污物无法溶解,在漂洗液8中析出·分离。减压脱水槽19内的漂洗液8根据需要,使用通有蒸汽、热介质油等的加热线圈21而也可以促进水分的气化。
热风干燥槽20是用于干燥残留于被清洗物表面的由烃系溶剂形成的漂洗液13的装置,通过来自热风送风机22的热风,将漂洗液13气化而从被清洗物表面去除。
图3所示的实施方式3中,清洗槽1、第1漂洗槽2、第2漂洗槽3、第3漂洗槽4和热风干燥槽20在大气压下被运用,因此,例如可以进行将带状的部件连续引出的清洗。
图4所示的实施方式4是省略了图1所示的实施方式1的第1漂洗槽2的方式。附着有水溶性的污物的被清洗物以清洗槽1、第2漂洗槽3、第3漂洗槽4和减压干燥槽5的顺序被输送、清洗、干燥而变得纯净。
第2漂洗槽3是用于进行漂洗工序(B)的装置,贮存有由烃系溶剂形成的漂洗液13。通过清洗槽1中的清洗工序(A),使附着有W/O乳液清洗液6的被清洗物浸渍于漂洗液13内后,用超声波震荡子7照射超声波。通过该漂洗工序(B),从而附着于被清洗物的W/O乳液清洗液6被置换为漂洗液13。
实施方式4所涉及的清洗装置中,通过省略图1的第1漂洗槽2,从而有装置尺寸变小的优点。
图5所示的实施方式5中,设有在1个槽中进行W/O乳液清洗液6和漂洗液13的进出、减压干燥的清洗干燥槽23。附着有水溶性的污物的被清洗物如果被安装于清洗干燥槽23内,则从储存W/O乳液清洗液6的罐24向清洗干燥槽23输送W/O乳液清洗液6,进行清洗工序(A)。之后从储存有由烃系溶剂形成的漂洗液13的罐25向清洗干燥槽23输送漂洗液13,进行漂洗工序(B)。接着,清洗干燥槽23内用真空泵14进行减压,被清洗物被干燥,变得纯净。
罐24中储存有用于进行清洗工序(A)的W/O乳液清洗液6,根据需要通过搅拌器26进行搅拌。
通过阀27、阀28,将W/O乳液清洗液6输送至清洗干燥槽23,从设置于清洗干燥槽23的清洗喷嘴29向被清洗物吹送W/O乳液清洗液6,进一步在使被清洗物浸渍于存储的W/O乳液清洗液6内的状态下,使W/O乳液清洗液6鼓泡,从而进行被清洗物的清洗。
清洗工序(A)后,W/O乳液清洗液6从清洗干燥槽23通过阀30、泵12、阀31在罐24中被回收。
用于进行漂洗工序(B)的由烃系溶剂形成的漂洗液13潮流在罐25中。
通过阀32、阀28,将漂洗液13输送至清洗干燥槽23,从设置于清洗干燥槽23的清洗喷嘴29向被清洗物吹送漂洗液13,进一步在使被清洗物浸渍于存储的漂洗液13内的状态下,使漂洗液13鼓泡,从而进行被清洗物的漂洗。
漂洗工序(B)后的漂洗液13通过阀30、泵12、阀33,从清洗干燥槽23在罐25中被回收。漂洗工序(B)结束后,清洗干燥槽23内通过真空泵14进行减压,将残留于被清洗物表面的漂洗液13气化·干燥。根据需要,也可以设置在清洗干燥槽23内导入漂洗液13的蒸气的工序,在干燥前将被清洗物预热。
漂洗工序(B)后,利用通有蒸汽、热介质油等的加热线圈21将罐25内的漂洗液13加温,用真空泵35进行减压,进行水分去除工序(C)。与烃系溶剂相比,水的蒸气压高,因此,水分以水蒸气的形式优先被气化去除至体系外。降低漂洗液13中的水分,从而水溶性的污物无法溶解,在液体中析出·分离。
过滤器元件11是用于进行分离工序(D)的装置,析出的水溶性的污物析出的漂洗液13通过泵36被送液至过滤器元件11,并过滤。而且,送液的漂洗液13的一部分可以在蒸馏再生槽15中浓缩表面活性剂、水溶性污物,并去除至体系外。
图5所示的实施方式5的装置中,被清洗物的输送变少,因此,有可以使搬送体系最小的优点。
图6所示的实施方式6是将图4所示的实施方式4的气泡槽9和过滤器元件11替换为蒸馏再生槽15、冷却器16、油水分离槽34的方式。附着有水溶性的污物的部件以清洗槽1、第2漂洗槽3、第3漂洗槽4和减压干燥槽5的顺序被输送、清洗、干燥而变得纯净。
蒸馏再生槽15是用于进行水分去除工序(C)和水溶性的污物的分离工序(D)的装置,而且也是用于去除溶解于漂洗液13的污物的装置。包含污物的漂洗液13从第2漂洗槽3被送液至蒸馏再生槽15。蒸馏再生槽15中被加热气化的漂洗液13成为蒸气,在冷却器16中被液化,被注入至油水分离槽34。在蒸馏再生槽15中被加热气化、在冷却器16中被液化的漂洗液13是澄清的。油水分离槽34中馏出的构成漂洗液13的烃系溶剂成为上清,引入的水分作为排水被排出。蒸馏再生槽15中,被漂洗液13引入的水溶性的污物通过蒸馏被浓缩而去除至体系外。
附图标记说明
1 清洗漕
2 第1漂洗槽
3 第2漂洗槽
4 第3漂洗槽
5 减压干燥槽
6 W/O乳液清洗液
7 超声波震荡子
8 漂洗液(添加有表面活性剂的烃系溶剂)
9 气泡槽
10 空气或氮气气体
11 过滤器元件
12 泵
13 漂洗液(烃系溶剂)
14 真空泵
15 蒸馏再生槽
16 冷却器
17 减压漂洗槽
18 旋风型离心分离器
19 减压脱水槽
20 热风干燥槽
21 加热线圈
22 热风送风机
23 清洗干燥槽
24 罐
25 罐
26 搅拌器
27 阀
28 阀
29 清洗喷嘴
30 阀
31 阀
32 阀
33 阀
34 油水分离槽
35 真空泵
36 泵
Claims (5)
1.一种使用W/O乳液清洗液的清洗方法,其特征在于,包括如下工序:
清洗工序(A),将被清洗物用包含烃系溶剂、表面活性剂和水而成的W/O乳液清洗液进行清洗;
漂洗工序(B),将夹带所述W/O乳液清洗液的被清洗物用由所述烃系溶剂和所述表面活性剂形成的漂洗液、或由所述烃系溶剂形成的漂洗液进行漂洗;
水分去除工序(C),从所述漂洗液至少去除水分的一部分;和,
分离工序(D),从所述水分去除工序(C)后的所述漂洗液去除经分离的分离物。
2.根据权利要求1所述的使用W/O乳液清洗液的清洗方法,其中,所述水分去除工序(C)通过使水气化而进行。
3.根据权利要求1或2所述的使用W/O乳液清洗液的清洗方法,其中,所述分离工序(D)通过利用过滤器的过滤、离心分离或蒸馏浓缩而进行。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的使用W/O乳液清洗液的清洗方法,其中,所述漂洗工序(B)和所述水分去除工序(C)在同一槽内进行。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的使用W/O乳液清洗液的清洗方法,其中,所述水分去除工序(C)和所述分离工序(D)在同一槽内进行。
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