CN110231886B - 一种触控显示面板及触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控显示面板及触控显示装置。所述触控显示面板包括显示区和光学电子元件预留区，所述显示区和所述光学电子元件预留区的边界为第一边界，所述触控显示面板还包括显示基板和触控基板，所述触控基板位于所述显示基板的出光侧；所述显示基板包括多个有机发光单元，多个所述有机发光单元设置于所述显示区内；所述触控基板包括第一衬底和位于所述第一衬底上的触控层，所述触控层包括至少一个触控电极层；所述触控层在所述显示基板上的垂直投影覆盖所述第一边界在所述显示基板上的垂直投影。本发明实施例提供的技术方案，保证了第一边界附近的触控电极层具有良好的触控性能，进而提升了触控显示装置的整体触控性能。

Description

一种触控显示面板及触控显示装置

技术领域

本发明实施例涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板及触控显示装置。

背景技术

屏占比高的全面屏设计深受用户青睐，成为现阶段显示领域的研究热点。全面屏通常采用超窄边框设计，并将部分显示区改造为透光区，以放置摄像头等光学电子元件。

触控全面屏在全面屏优势的基础上增加了触控功能，带给用户更佳的使用体验。现有技术中触控全面屏中透光区内的触控电极层被完全去除，触控电极层在显示区和透光区的边界位置处存在边缘，受切割不良的影响，该边缘的触控性能不佳，导致显示区靠近透光区的区域内的触控性能较差，进而影响了触控全面屏的整体触控性能。

发明内容

本发明提供一种触控显示面板及触控显示装置，以改善第一边界附近的触控电极层的触控性能，进而提升触控显示装置的整体触控性能。

第一方面，本发明实施例提供了一种触控显示面板，该触控显示面板包括显示区和光学电子元件预留区，所述显示区和所述光学电子元件预留区的边界为第一边界，

所述触控显示面板还包括显示基板和触控基板，所述触控基板位于所述显示基板的出光侧；所述显示基板包括多个有机发光单元，多个所述有机发光单元设置于所述显示区内；

所述触控基板包括第一衬底和位于所述第一衬底上的触控层，所述触控层包括至少一个触控电极层；

所述触控层在所述显示基板上的垂直投影覆盖所述第一边界在所述显示基板上的垂直投影。

第二方面，本发明实施例还提供了一种触控显示装置，该触控显示装置包括上述第一方面所述的触控显示面板以及光学电子元件，所述光学电子元件设置于所述光学电子元件预留区。

本发明实施例提供的触控显示面板包括显示区和光学电子元件预留区，显示区和光学电子元件预留区的边界为第一边界，触控显示面板还包括显示基板和触控基板，触控基板位于显示基板的出光侧，显示基板包括多个有机发光单元，多个有机发光单元设置于显示区内，触控基板包括第一衬底和位于第一衬底上的触控层，触控层包括至少一个触控电极层，触控层在显示基板上的垂直投影覆盖第一边界在显示基板上的垂直投影，使得切割产生的触控电极层边缘不会出现在第一边界位置处，保证了第一边界附近的触控电极层具有良好的触控性能，用户在显示区中靠近第一边界的区域内的触控操作能够被有效识别和响应，进而提升了触控显示装置的整体触控性能。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1是本发明实施例提供的一种触控显示面板的俯视结构示意图；

图2是沿图1中虚线AB的剖面结构示意图；

图3是本发明实施例提供的又一种触控显示面板的俯视结构示意图；

图4是沿图3中虚线CD的剖面结构示意图；

图5是沿图3中虚线CD的又一种剖面结构示意图；

图6是沿图3中虚线CD的又一种剖面结构示意图；

图7是沿图3中虚线CD的又一种剖面结构示意图；

图8是本发明实施例提供的又一种触控显示面板的俯视结构示意图；

图9是本发明实施例提供的一种触控基板的俯视结构示意图；

图10是沿图9中虚线EF的剖面结构示意图；

图11是本发明实施例提供的又一种触控基板的俯视结构示意图；

图12是沿图11中虚线GH的剖面结构示意图；

图13是本发明实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种触控显示面板及触控显示装置的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

本发明实施例提供了一种触控显示面板，该触控显示面板包括显示区和光学电子元件预留区，所述显示区和所述光学电子元件预留区的边界为第一边界，

所述触控显示面板还包括显示基板和触控基板，所述触控基板位于所述显示基板的出光侧；所述显示基板包括多个有机发光单元，多个所述有机发光单元设置于所述显示区内；

所述触控基板包括第一衬底和位于所述第一衬底上的触控层，所述触控层包括至少一个触控电极层；

所述触控层在所述显示基板上的垂直投影覆盖所述第一边界在所述显示基板上的垂直投影。

本发明实施例提供的触控显示面板包括显示区和光学电子元件预留区，显示区和光学电子元件预留区的边界为第一边界，触控显示面板还包括显示基板和触控基板，触控基板位于显示基板的出光侧，显示基板包括多个有机发光单元，多个有机发光单元设置于显示区内，触控基板包括第一衬底和位于第一衬底上的触控层，触控层包括至少一个触控电极层，触控层在显示基板上的垂直投影覆盖第一边界在显示基板上的垂直投影，使得切割产生的触控电极层边缘不会出现在第一边界位置处，保证了第一边界附近的触控电极层具有良好的触控性能，用户在显示区中靠近第一边界的区域内的触控操作能够被有效识别和响应，进而提升了触控显示装置的整体触控性能。

以上是本申请的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他实施方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

其次，本发明结合示意图进行详细描述，在详述本发明实施例时，为便于说明，表示装置器件结构的示意图并非按照一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度以及高度的三维空间尺寸。

图1是本发明实施例提供的一种触控显示面板的俯视结构示意图。如图1所示，触控显示面板10包括显示区100和光学电子元件预留区200，显示区100和光学电子元件预留区200的边界为第一边界300。

图2是沿图1中虚线AB的剖面结构示意图。如图2所示，触控显示面板10还包括显示基板410和触控基板420，触控基板420位于显示基板410的出光侧。显示基板410包括多个有机发光单元412，多个有机发光单元412设置于显示区100内。触控基板420包括第一衬底421和位于第一衬底421上的触控层422，触控层422包括至少一个触控电极层。触控层422在显示基板410上的垂直投影覆盖第一边界300在显示基板410上的垂直投影。

值得注意的是，第一边界300为线形结构，其沿虚线AB的剖面结构为图2所示的两个点。

需要说明的是，光学电子元件预留区200为可透光区域，该区域内未设置任何对光具有明显阻挡作用的功能膜层，以使得设置于光学电子元件区200内显示基板410背离触控基板420一侧的光学电子元件能够接收到充足的光，进而使得光学电子元件正常工作。可以理解的是，由于光学电子元件预留区200内未设置有机发光单元412，因此光学电子元件预留区200并不用于进行图像的显示。

还需要说明的是，本实施例对触控层422的结构不作具体限定，触控层422中触控电极层的数量可以为1个或多个，对于后一种情况，触控层422还可以包括多个设置于相邻触控电极层之间的绝缘层，触控电极层中触控电极的数量、形状以及排列方式均可以根据实际需要进行合理设置，凡是能够实现触控功能的触控层422结构均在本实施例的保护范围内。

此外，在显示基板410和触控基板420的层叠方向上，触控层422覆盖第一边界300，使得触控层422包括位于显示区100内的第一子部和位于光学电子元件预留区200内的第二子部，本实施例对第二子部的形状以及尺寸均不作具体限定，凡是能够实现触控层422覆盖第一边界300的技术方案均在本实施例的保护范围内。

本实施例提供的触控显示面板10包括显示区100和光学电子元件预留区200，显示区100和光学电子元件预留区200的边界为第一边界300，触控显示面板10还包括显示基板410和触控基板420，触控基板420位于显示基板410的出光侧，显示基板410包括多个有机发光单元412，多个有机发光单元412设置于显示区100内，触控基板420包括第一衬底421和位于第一衬底421上的触控层422，触控层422包括至少一个触控电极层，触控层422在显示基板410上的垂直投影覆盖第一边界300在显示基板410上的垂直投影，使得切割产生的触控电极层边缘不会出现在第一边界300位置处，保证了第一边界300附近的触控电极层具有良好的触控性能，用户在显示区100中靠近第一边界300的区域内的触控操作能够被有效识别和响应，进而提升了触控显示装置的整体触控性能。

继续参见图2，在光学电子元件预留区200内，触控层422在显示基板410上的垂直投影与光学电子元件预留区200在显示基板410上的垂直投影重合。

需要说明的是，这样的设置使得触控层422布满光学电子元件预留区200，显示区100和光学电子元件预留区200内的触控层422为一连续的整体膜层结构，无需对光学电子元件预留区200内的触控层422进行切割操作，有利于简化触控显示面板10的制备工艺。

图3是本发明实施例提供的又一种触控显示面板的俯视结构示意图。图4是沿图3中虚线CD的剖面结构示意图。如图3所示，触控层(未示出)包括第一镂空结构500，如图4所示，第一镂空结构500在显示基板410上的垂直投影落于光学电子元件预留区200在显示基板410上的垂直投影内，且第一镂空结构500在显示基板410上的垂直投影与第一边界300在显示基板410上的垂直投影之间未连接。

需要说明的是，这样的设置一方面使得在显示基板410和触控基板420的层叠方向上，触控层422能够覆盖第一边界300，使得切割产生的触控电极层边缘不会出现在第一边界300位置处，保证第一边界300附近的触控电极层具有良好的触控性能，用户在显示区100中靠近第一边界300的区域内的触控操作能够被有效识别和响应，进而提升触控显示装置的整体触控性能。另一方面，使得光学电子元件预留区200中间区域的触控层422被去除，该区域内无触控功能，有效降低了光学元件预留区200内误触现象的发生几率。此外，触控层422为可透光膜层，但仍然对光具有一定的阻挡作用，因此去除光学电子元件预留区200中间区域的触控层422能够达到增大光学电子元件预留区200光透过率的有益效果。

可选的，继续参见3，第一镂空结构500在显示基板上的垂直投影的外边缘的形状与第一边界300的形状相同，且外边缘与第一边界300之间的距离k为一定值。

需要说明的是，这样的设置使得光学电子元件预留区200内切割产生的触控层边缘上各点到第一边界300的最小距离均相等，显示区100内第一边界300附近区域中的触控性能相同，提升了该区域内触控性能的均一性。

示例性的，定值的取值范围可以为大于或等于0.5且小于或等于1mm。

需要说明的是，定值的取值过小会导致光学元件预留区200内切割产生的触控层边缘仍然会对显示区100中第一边界300附近的触控性能产生影响，定值的取值多大会导致光学电子元件预留区200内需被切割掉的触控层的尺寸较小，增大切割难度，定值在上述范围内取值时，光学元件预留区200内切割产生的触控层边缘对显示区100内第一边界300附近的触控性能的影响较小，且光学电子元件预留区200内需被切割掉的触控层的尺寸适宜，不会明显增大切割难度。

继续参见图3，触控显示面板10还包括非显示区600，非显示区600围绕显示区100和光学电子元件预留区200设置。图5是沿图3中虚线CD的又一种剖面结构示意图。如图5所示，显示基板410包括第二衬底700以及形成于第二衬底700上的多个非透光层720和多个可透光层710，非透光层720设置于显示区100和非显示区600内。多个可透光层710中的至少一个膜层包括第二镂空结构800，第二镂空结构800在第一衬底421上的垂直投影落于光学电子元件预留区200在第一衬底421上的垂直投影内。

可选的，图6是沿图3中虚线CD的又一种剖面结构示意图。图6所示触控显示面板10结构与图5所示触控显示面板10结构相似，不同的是，图6中第二衬底700以及多个可透光层710均包括第三镂空结构900，第三镂空结构900在第一衬底421上的垂直投影与光学元件预留区200在第一衬底421上的垂直投影重合。

示例性的，参见图5和图6，多个可透光层710包括缓冲层711、栅极绝缘层712、层间绝缘层713、钝化层714、像素限定层715、第二电极层716以及封装层717，非透光层720包括有源层721、栅极金属层722、源漏金属层723、第一电极层724以及发光功能层725。其中，像素限定层715限定出多个有机发光单元412，有机发光单元412包括沿触控显示面板10出光方向依次设置的第一电极、发光材料层以及第二电极，第一电极所述膜层为第一电极层724，第二电极所在膜层为第二电极层716。位于非显示区600内的非透光层720用以形成驱动电路中的器件或线路。图5仅以像素限定层715、第二电极层716以及封装层717包括第二镂空结构800，且各膜层中第二镂空结构800位置和尺寸相同为例进行说明而非限定，多个可透光层710中一个或多个膜层包括第二镂空结构800的方案均在本实施例的保护范围内。且本实施例对第二镂空结构800的尺寸不作具体限定，只要第二镂空结构800在光学电子元件预留区200内即可。

还需要说明的是，显示基板410中的各功能膜层均形成于第二衬底700上，第二衬底700为上述功能膜层的支撑体，因此，对于图6中去除光学电子元件预留区200内第二衬底700的情况，光学电子元件预留区200内显示基板410中的其他膜层需要同时去除。可以理解的是，此时光学电子元件可设置于光学电子元件预留区200中多个第三镂空结构900构成的凹槽结构内，以使得光学电子元件与触控显示面板10显示面之间的距离更近，更易于接收到外界入射的光。

图5和图6所示触控显示面板10的设置方式能够减少光学电子元件预留区200中至少部分区域内的可透光层710的总厚度，进而减小可透光层710对光学电子元件预留区200内入射的光线的阻挡，有利于光学电子元件预留区200内光透过率的提升，保证了光学电子元件能够接收到更多的光量以实现更佳的性能。

示例性的，图7是沿图3中虚线CD的又一种剖面结构示意图。图7所示触控显示面板10的结构与图5所示触控显示面板10的结构相似，不同的是，第二镂空结构800在第一衬底421上的垂直投影与光学电子元件预留区200在第一衬底421上的垂直投影重合。

需要说明的是，这样的设置使得具有第二镂空结构800的可透光层710不包括设置于光学电子元件预留区200内的部分，进而该可透光层710不会对光学电子元件预留区200内的光透过率产生任何减小作用，最大程度上增大了光学电子元件预留区200的光透过率。

示例性的，继续参见图3，第一边界300的形状可以为圆形。在本实施例的其他实施方式中，第一边界300还可以为其他形状，例如U形，如图8所示。

需要说明的是，常规摄像头的形状为圆形或矩形，设置第一边界300的形状为圆形或U形能够使得光学电子元件预留区200的形状为圆形或矩形，进而光学元件预留区200的形状与摄像头的形状相同，避免了形状不相同导致部分光学元件预留区200未被有效利用的情况发生，有利于减小光学电子元件预留区200的面积，进而增大触控显示面板10的屏占比。

图9是本发明实施例提供的一种触控基板的俯视结构示意图。图10是沿图9中虚线EF的剖面结构示意图。如图9和图10所示，触控基板420包括第一衬底421和形成于第一衬底421上的触控层422，触控层422包括一个触控电极层，该触控电极层包括多个自电容触控电极431。

需要说明的是，这样的设置使得触控层422为自电容触控结构，仅包括一个自电容触控电极层，其整体厚度较小，有利于触控显示面板的薄化。

还需要说明的是，自电容触控结构实现触控检测的原理如下：各自电容触控电极431与地端形成电容，当手指触摸到触控显示面板时，手指的电容将会叠加到触控显示面板内部电容上，使电容量增加，进而根据电容信号能够确定手指触控位置。

图11是本发明实施例提供的又一种触控基板的俯视结构示意图。图12是沿图11中虚线GH的剖面结构示意图。如图11和图12所示，触控层420包括相互绝缘的第一触控电极层441和第二触控电极层442，第一触控电极层441包括多个触控驱动电极433，第二触控电极层442包括多个触控感测电极432，触控驱动电极433和触控感测电极432的延伸方向相交。

需要说明的是，这样的设置使得触控层422为互电容触控结构，其优势在于互电容触控结构能够准确实现多点触控的检测，有利于触控显示面板触控性能的提升。

还需要说明的是，互电容触控结构实现触控检测的原理如下：触控驱动电极433与触控检测电极432的交叉区域形成电容，当手指触摸到触控显示面板时，手指的电容影响了触摸点附近触控驱动电极433与触控检测电极432的耦合，从而改变了触控驱动电极433与触控检测电极432之间的电容量，进而根据电容信号确定手指触控位置。

图13是本发明实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图。如图13所示，触控显示装置20包括本发明任意实施例所述的触控显示面板10以及光学电子元件30，光学电子元件30设置于光学电子元件预留区200。由于本申请提供的触控显示装置20包括本发明任意实施例所述的触控显示面板10，其具有其所包括的触控显示面板10相同或相应的有益效果，此处不再赘述。

示例性的，光学电子元件30可以包括摄像模组、光感传感器和超声波距离传感器中的一种或多种。

例如，触控显示装置20可以为手机或平板，当光学电子元件30为摄像模组时，光学元件预留区200对应为手机或者平板的前置摄像头所在区域，光学元件预留区200的入射光线能够照射至前置摄像头，用于前置摄像头采集外部图像；而当光学电子元件30为光感传感器时，光感传感器可以是用于感应外部光线，对触控显示装置30的光亮度进行调节的光感传感器，也可以是用于感应外部是否有指纹，从而进行指纹识别的光感传感器；光感传感器同样通过光学元件预留区200接收外部光线，然后进行传感。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括显示区和光学电子元件预留区，所述显示区和所述光学电子元件预留区的边界为第一边界，

所述触控显示面板还包括显示基板和触控基板，所述触控基板位于所述显示基板的出光侧；所述显示基板包括多个有机发光单元，多个所述有机发光单元设置于所述显示区内；

所述触控基板包括第一衬底和位于所述第一衬底上的触控层，所述触控层包括至少一个触控电极层；

所述触控层在所述显示基板上的垂直投影覆盖所述第一边界在所述显示基板上的垂直投影；

其中，所述触控层包括第一镂空结构，所述第一镂空结构在所述显示基板上的垂直投影落于所述光学电子元件预留区在所述显示基板上的垂直投影内，且所述第一镂空结构在所述显示基板上的垂直投影与所述第一边界在所述显示基板上的垂直投影之间未连接；

其中，所述光学电子元件预留区不用于进行图像的显示。

2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述第一镂空结构在所述显示基板上的垂直投影的外边缘的形状与所述第一边界的形状相同，且所述外边缘与所述第一边界之间的距离为一定值。

3.根据权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，所述定值的取值范围为大于或等于0.5且小于或等于1mm。

4.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板还包括非显示区，所述非显示区围绕所述显示区和所述光学电子元件预留区设置；所述显示基板包括第二衬底以及形成于所述第二衬底上的多个非透光层和多个可透光层，所述非透光层设置于所述显示区和所述非显示区内；

所述多个可透光层中的至少一个膜层包括第二镂空结构，所述第二镂空结构在所述第一衬底上的垂直投影落于所述光学电子元件预留区在所述第一衬底上的垂直投影内；或者，

所述第二衬底以及所述多个可透光层均包括第三镂空结构，所述第三镂空结构在所述第一衬底上的垂直投影与所述光学电子元件预留区在所述第一衬底上的垂直投影重合。

5.根据权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述第二镂空结构在所述第一衬底上的垂直投影与所述光学电子元件预留区在所述第一衬底上的垂直投影重合。

6.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述第一边界的形状为圆形或U形。

7.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控电极层包括多个自电容触控电极。

8.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控层包括相互绝缘的第一触控电极层和第二触控电极层，所述第一触控电极层包括多个触控驱动电极，所述第二触控电极层包括多个触控感测电极，所述触控驱动电极和所述触控感测电极的延伸方向相交。

9.一种触控显示装置，其特征在于，包括上述权利要求1-8任一项所述的触控显示面板以及光学电子元件，所述光学电子元件设置于所述光学电子元件预留区。

10.根据权利要求9所述的触控显示装置，其特征在于，所述光学电子元件包括摄像模组、光感传感器和超声波距离传感器中的一种或多种。

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