CN110176484A - 一种显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种显示装置,涉及显示技术领域,在显示阶段,可提高多个纹路识别单元的寿命。该显示装置具有显示区,显示区包括纹路识别区;纹路识别区包括多个子像素区域和非子像素区域;显示装置包括发光结构、设置于发光结构出光侧的第一调光结构和多个间隔设置的纹路识别单元,多个纹路识别单元位于第一调光结构背离发光结构一侧;多个纹路识别单元位于非子像素区域;第一调光结构包括第一调光部和第二调光部,第一调光部位于子像素区域,第二调光部位于非子像素区域,纹路识别单元在发光结构上的正投影与所第二调光部在发光结构上的正投影重叠;在纹路检测阶段,至少第二调光部透光;在显示阶段,第一调光部透光,第二调光部遮光。

Description

一种显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示装置。
背景技术
近几年来,随着显示技术的不断发展,生物识别技术在显示行业运用的越来越广泛,其中指纹识别尤为突出。指纹作为人类唯一的身份特征,备受生活识别领域的关注。
指纹识别包括电容式、光学式、超声波式三种方式。电容式指纹识别应用于全屏指纹识别时仅限于固定位置,无法有效的实现全屏位置指纹识别;超声波式指纹识别结构复杂,技术不成熟,在全屏指纹识别中应用目前可实行性不高;光学指纹识别结构简单,可实施性较高。
光学式指纹识别需在显示面板内设置光学传感器,以将其接收的光信号转换为电信号,从而进行指纹识别。
然而,若光电传感器长期暴露在光照下,则可能大大降低光学传感器的寿命。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示装置,在显示阶段,可避免多个纹路识别单元长期处于光照环境下,以提高多个纹路识别单元的寿命。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
提供一种显示装置,具有显示区,所述显示区包括纹路识别区;所述纹路识别区包括多个子像素区域和位于相邻所述子像素区域之间的非子像素区域;所述显示装置包括发光结构、设置于所述发光结构出光侧的第一调光结构和多个间隔设置的纹路识别单元,多个所述纹路识别单元位于所述第一调光结构背离所述发光结构一侧;多个所述纹路识别单元位于所述非子像素区域;所述第一调光结构包括第一调光部和第二调光部,所述第一调光部位于所述子像素区域,所述第二调光部位于所述非子像素区域,所述纹路识别单元在所述发光结构上的正投影与所述第二调光部在所述发光结构上的正投影重叠;在纹路检测阶段,至少所述第二调光部透光;在显示阶段,所述第一调光部透光,所述第二调光部遮光。
可选的,所述显示装置还包括设置于多个所述纹路识别单元背离所述第一调光结构一侧的第二调光结构,所述第二调光结构设置于所述非子像素区域,且所述第二调光结构在所述发光结构上的正投影覆盖多个所述纹路识别单元在所述发光结构上的正投影;在所述纹路检测阶段,所述第二调光结构透光;在所述显示阶段,所述第二调光结构遮光。
可选的,沿所述显示装置的厚度方向,所述第一调光结构包括依次层叠设置的第一电极层、第一绝缘层、第二电极层、以及第一调光层;所述第一电极层包括多个间隔设置的第一电极,所述第二电极层包括多个间隔设置的第二电极;所述第一电极与所述第二电极一一对应,且所述第一电极和与其对应的所述第二电极在所述发光结构上的正投影重叠;所述第一调光层包括第一调光单元和第二调光单元;所述第一调光单元位于所述子像素区域,所述第二调光单元位于所述非子像素区域;每个所述第一调光单元和每个所述第二调光单元均与一个所述第二电极对应且直接接触,在所述第一电极与所述第二电极之间的电压的作用下,所述第一调光单元和所述第二调光单元的透光率发生变化;沿所述显示装置的厚度方向,所述第二调光结构包括依次层叠设置的第三电极层、第二绝缘层、第四电极层、以及第二调光层,所述第二调光层与所述第四电极层直接接触;在所述第三电极层与所述第四电极层之间的电压的作用下,所述第二调光层的透过率发生变化。
可选的,第一调光层和所述第二调光层的材料包括电致发光材料或蓝相液晶。
可选的,所述纹路识别区的面积小于所述显示区的面积。
可选的,在所述纹路检测阶段,所述第一调光部透光。
可选的,在所述纹路检测阶段,与任意一个透光的所述第一调光部相邻的所述第一调光部遮光。
可选的,所述显示装置为自发光显示装置;所述发光结构为多个发光器件。
可选的,所述纹路识别区的面积等于显示区的面积;所述发光器件发出的光为白光;所述显示装置还包括设置于所述发光器件的显示侧的彩色滤光层,所述彩色滤光层包括多个间隔设置的色阻单元;所述第二调光部在所述彩色滤光层上的正投影位于相邻所述色阻单元之间;在所述显示阶段,所述第二调光部复用作所述显示装置中的黑矩阵。
可选的,所述显示装置为液晶显示装置;所述纹路识别区的面积等于显示区的面积;在所述显示阶段,所述第二调光部复用作所述液晶显示装置中的黑矩阵。
本发明实施例提供一种显示装置,该显示装置包括发光结构和设置于发光结构出光侧的多个纹路识别单元,考虑到在显示装置显示时,多个纹路识别单元长期暴露在光照下,进而会大大降低纹路识别单元的寿命。基于此,本发明实施例在发光结构与多个纹路识别单元之间设置第一调光结构,第一调光层包括第一调光部和第二调光部。其中,第一调光部位于子像素区域,第二调光部位于非子像素区域,同时,纹路识别单元也位于非子像素区域。在纹路识别阶段,至少第二调光部透光,以确保照射至手指、经手指反射、并照射到多个纹路识别单元上的反射光的强度足够大,以检测出准确的指纹信息;在显示阶段,由于多个纹路识别单元和第二调光部均位于非子像素区域,且透过第一调光部的大角度光线非常少,可忽略不计,因此,可通过使第一调光部透光、第二调光部遮光,来改善在显示阶段,多个纹路识别单元长期处于光照环境下的问题,进而提高多个纹路识别单元的寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种显示装置的俯视示意图;
图2为本发明实施例提供的一种显示装置的俯视示意图;
图3为本发明实施例提供的一种显示装置的侧视示意图;
图4为本发明实施例提供的一种自发光显示装置的侧视示意图;
图5为本发明实施例提供的一种自发光显示装置的侧视示意图;
图6为本发明实施例提供的一种液晶显示装置的侧视示意图;
图7为本发明实施例提供的一种液晶显示装置的侧视示意图;
图8为本发明实施例提供的一种显示装置的侧视示意图;
图9为本发明实施例提供的一种显示装置的侧视示意图;
图10为本发明实施例提供的一种显示装置的侧视示意图;
图11为本发明实施例提供的一种自发光显示装置的侧视示意图;
图12为本发明实施例提供的一种液晶显示装置的侧视示意图。
附图标记:
1-框架;2-显示面板;301-下偏光片;302-上偏光片;3-电路板;4-盖板;41-光学膜片;42-扩散板;43-光源;44-反射片;45-胶框;46-背板;47-黑黑胶;48-导光板;11-发光结构;111-发光器件;1111-阳极;1112-发光功能层;1113-阴极;112-像素界定层;12-第一调光结构;121-第一调光部;122-第二调光部;1211-第一电极;1212-第一绝缘层;1213-第二电极;1214-第一调光层;2214-第一调光单元;2215-第二调光单元;13-纹路识别单元;14-第二调光结构;141-第三电极层;142-第二绝缘层;143-第四电极层;144-第二调光层;15-彩色滤光层;100-显示区;101-纹路识别区;1011-子像素区域;1012-非子像素区域。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种显示装置,如图1和图2所示,具有显示区100,显示区100包括纹路识别区101;纹路识别区101包括多个子像素区域1011和位于相邻子像素区域1011之间的非子像素区域1012;如图3所示,显示装置包括发光结构11、设置于发光结构11出光侧的第一调光结构12和多个间隔设置的纹路识别单元13,多个纹路识别单元13位于第一调光结构12背离发光结构11一侧;多个纹路识别单元13位于非子像素区域1012;第一调光结构12包括第一调光部121和第二调光部122,第一调光部121位于子像素区域1011,第二调光部122位于非子像素区域1012,纹路识别单元13在发光结构11上的正投影与第二调光部122在发光结构11上的正投影重叠;在纹路检测阶段,至少第二调光部122透光;在显示阶段,第一调光部121透光,第二调光部122遮光。
在一些实施例中,所述显示装置可用于检测指纹、掌纹等有纹路的受测物,本发明实施例对此不作特殊限定。为了方便说明,后文均以“手指”、“指纹”来说明。
此处,本领域的技术人员应该知道,光学式指纹识别的原理是:从显示装置出射的显示光照射到手指后经手指反射,经手指反射的反射光再照射到纹路识别单元13上。
其中,手指的纹路包括谷和脊,谷、脊反射的显示光的强度存在差异,纹路识别单元13接收到谷、脊反射的反射光后,将光信号转换为电信号,纹路识别电路根据电信号形成纹路图像,并与预先存储的纹路信息进行比较,以完成指纹识别。
在一些实施例中,纹路识别区的面积小于或等于显示区的面积。
其中,如图1所示,若纹路识别区101的面积等于显示区100的面积,则显示装置的整个显示区100均可用于纹路识别;如图2所示,若纹路识别区101的面积小于显示区100的面积,则仅纹路识别区101可用于纹路识别。
可选的,纹路识别区101的面积小于显示区100的面积,这样一来,在进行纹路检测时,显示区100中除纹路识别区101以外的区域还可以正常显示。
在一些实施例中,不对纹路识别单元13在发光结构11上的正投影的形状进行限定。
示例的,如图1和图2所示,纹路识别单元13在发光结构11上的正投影的形状为圆形、椭圆形、矩形等。
在一些实施例中,纹路识别单元13用于将光信号转化为电信号,其可以是光敏传感器、光电传感器等。
在一些实施例中,所述显示装置可以是有机电致(organic lightemittingdiode,简称OLED)显示装置,或微发光二极管(light emittingdiode,简称Micro-LED)显示装置,或量子点电致(Quantum Dot LightEmitting Diodes,简称QLED)显示装置等自发光显示装置;或者,所述显示装置也可以是液晶显示装置。
如图4和图5所示,若显示装置为OLED显示装置、QLED显示装置、或Micro-LED显示装置中的一种,则发光结构11包括多个发光器件111。
如图4所示,以显示装置为OLED显示装置或QLED显示装置为例,发光器件111包括层叠设置的阳极1111、发光功能层1112、以及阴极1113。其中,OLED显示装置的发光功能层1112为有机发光功能层,QLED显示装置的发光功能层1112为量子点发光功能层。
此处,图4仅示出阴极1113相较于阳极1111更靠近第一调光结构12、且共阴极的方案。此外,阴极1113也可以设置在阳极1111背离第一调光结构12一侧。发光器件中,也可以是共阳极。
在此基础上,相邻发光器件111之间还设置有像素界定层112。
如图5所示,以显示装置为Micro-LED显示装置为例,发光器件111为多个Micro-LED发光单元。
此处,自发光显示装置包括阵列基板和封装层。第一调光结构11可以设置在阵列基板上,也可以设置在封装层上。
如图6和图7所示,若显示装置为液晶显示装置,则发光结构11为背光模组。背光模组4可以是直下式背光模组,也可以是侧入式背光模组。
在此基础上,显示装置还包括显示面板2与背光模组之间的下偏光片301和位于显示面板2出光侧的上偏光片302。
示例的,如图6所示,直下式背光模组包括背板46、胶框45、设置在背板46上的光源43、设置在光源43上的扩散板42、以及设置在扩散板42出光侧的光学膜片41。此外,还可以包括设置在背板46与光源43之间的反射片44。
示例的,如图7所示,侧入式背光模组包括背板46、胶框45、设置在背板46上的导光板48、设置在导光板48出光侧的光学膜片41、以及设置在导光板48一侧的光源43。此外,还可以包括设置在背板46与导光板48之间的反射片44。
其中,显示面板2可以与胶框45可以通过黑黑胶47固定。光源43例如可以是发光二极管(Light-Emitting Diode,简称LED)。导光板48的断面形状有楔形和平板型等。图6和图7中的背光模组4的结构仅为示意,不做任何限定。
此处,液晶显示装置包括阵列基板和对盒基板。第一调光结构11可以设置在阵列基板上,也可以设置在对盒基板上。
在一些实施例中,在纹路检测阶段,第一调光部121可以透光,或者第一调光部121也可以不透光。
此处,为了增大从手指反射至纹路识别单元13上的反射光的强度,以提高纹路识别的准确性,可选的,在纹路检测阶段,第一调光部121和第二调光部122均透光。
在一些实施例中,对于液晶显示装置,虽然在非子像素区域1012,发光结构11与第二调光部122之间设置有遮光的薄膜晶体管和走线等,但薄膜晶体管和走线所占的区域非常小,由发光结构11发出的光线大多可以通过第二调光部122照射到手指上,因此,在纹路检测阶段,即使仅第二调光部122透光,仍不会影响纹路检测效果。
在一些实施例中,子像素区域1011为光实际可透过的区域。
以显示装置为共阴极的OLED显示装置为例,像素界定层112完全覆盖显示装置中的像素电路,子像素区域1011为阳极111所在区域中除与像素界定层112重叠的区域以外的区域。
非子像素区域1012为像素界定层112所在的区域。
在一些实施例中,由于在显示阶段,第一调光部121透光,第二调光部122遮光,为了不影响正常的显示亮度,第二调光部122仅位于非像素区域1012。
在一些实施例中,第一调光部121可以位于整个子像素区域1011,也可以位于部分子像素区域1011,只要在显示时,整个子像素区域1011均可透光即可。
第二调光部122可以位于整个非子像素区域1012,也可以位于部分非子像素区域1012。
在一些实施例中,纹路识别单元13在发光结构11上的正投影与第二调光部122在发光结构11上的正投影重叠,包括:
纹路识别单元13在发光结构11上的正投影,与第二调光部122在发光结构11上的正投影完全重叠,且纹路识别单元13在发光结构11上的正投影的面积,与第二调光部122在发光结构11上的正投影的面积相等。
纹路识别单元13在发光结构11上的正投影,与第二调光部122在发光结构11上的正投影完全重叠,且第二调光部122在发光结构11上的正投影的面积,大于纹路识别单元13在发光结构11上的正投影的面积。
纹路识别单元13在发光结构11上的正投影,与第二调光部122在发光结构11上的正投影部分重叠。
此处,为了尽可能避免纹路识别单元13受到发光结构11发出的光照射,可选的,纹路识别单元13在发光结构11上的正投影,与第二调光部122在发光结构11上的正投影完全重叠。
在一些实施例中,非子像素区域1012可以是网格状;或者,非子像素区域1012也可以是多个块状等。具体的,与子像素区域1011的排布有关。
基于此,第二调光部122也可以是网格状或多个块状等,其排布也与子像素区域1011的排布有关。
在一些实施例中,如图1和图2所示,显示装置包括多个子像素区域,多个子像素区域包括红色子像素区域、绿色子像素区域、蓝色子像素区域。或者,多个子像素区域包括品红色子像素区域、黄色子像素区域、青色子像素区域。
在上述基础上,上述多个子像素区域还可以包括白色子像素区域。
在一些实施例中,不对显示装置的用途进行限定。
示例的,显示装置可以用作手机、平板电脑、个人数字助理(personal digitalassistant,PDA)、车载电脑等。
在一些实施例中,如图8所示,不对显示装置的结构进行限定,所述显示装置例如可以包括框架1、显示面板2、电路板3、盖板4、以及包括摄像头等的其他电子配件。
以上述显示装置的出光方向为顶发光为例,框架1可以是U形框架,显示面板2和电路板3设置于框架1中。盖板4设置于显示面板2的出光侧,电路板3设置于显示面板2背离盖板4一侧。
在一些实施例中,不对第一调光结构12的结构进行限定,只要在显示阶段,至少可以使得第二调光部122透光;在纹路检测阶段,第一调光部121透光,第二调光部122遮光即可。
本发明实施例提供一种显示装置,该显示装置包括发光结构11和设置于发光结构11出光侧的多个纹路识别单元13,考虑到在显示装置显示时,多个纹路识别单元13长期暴露在光照下,进而会大大降低纹路识别单元的寿命。基于此,本发明实施例在发光结构11与多个纹路识别单元13之间设置第一调光结构12,第一调光层12包括第一调光部121和第二调光部122。其中,第一调光部121位于子像素区域1011,第二调光部1012位于非子像素区域,同时,纹路识别单元13也位于非子像素区域1012。在纹路识别阶段,至少第二调光部1012透光,以确保照射至手指、经手指反射、并照射到多个纹路识别单元13上的反射光的强度足够大,以检测出准确的指纹信息;在显示阶段,由于多个纹路识别单元13和第二调光部122均位于非子像素区域1012,且透过第一调光部121的大角度光线非常少,可忽略不计,因此,可通过使第一调光部121透光、第二调光部122遮光,来改善在显示阶段,多个纹路识别单元13长期处于光照环境下的问题,进而提高多个纹路识别单元13的寿命。
可选的,如图9所示,显示装置还包括设置于多个纹路识别单元13背离第一调光结构12一侧的第二调光结构14,第二调光结构14设置于非子像素区域1012;在纹路检测阶段,第二调光结构14透光;在显示阶段,第二调光结构14遮光。
在一些实施例中,不对第二调光结构14的结构进行限定,只要在纹路检测阶段,第二调光结构14透光;在所述显示阶段,第二调光结构14遮光即可。
本发明实施例中,通过在多个纹路识别单元13背离第一调光结构12一侧设置第二调光结构14,且第二调光结构14位于非子像素区域1012。在纹路检测阶段,第二调光结构14透光,可不影响光线的传播;在显示阶段,可防止环境光照射到多个纹路识别单元13上,从而增加多个纹路识别单元13的寿命。
可选的,如图10所示,沿显示装置的厚度方向,第一调光结构12包括依次层叠设置的第一电极层、第一绝缘层1212、第二电极层、以及第一调光层1214;第一电极层包括多个间隔设置的第一电极1211,第二电极层包括多个间隔设置的第二电极1213;第一电极1211与第二电极1213一一对应,且第一电极1211和与其对应的第二电极1213在发光结构11上的正投影重叠。
第一调光层1214包括第一调光单元2214和第二调光单元2215;第一调光单元2214位于子像素区域1011,第二调光单元2215位于非子像素区域1012;每个第一调光单元2214和每个第二调光单元2215均与一个第一电极1211对应且直接接触,在第一电极1211与第二电极1213之间的电压的作用下,第一调光单元2214和第二调光单元2215的透光率发生变化。
在纹路识别阶段,在第一电极1211与第二电极1213之间的电压的作用下,可以控制第一调光单元2214的透过率,使得第一调光单元2214透光或遮光,进而使得第一调光部121透光或遮光;在第一电极1211与第二电极1213之间的电压的作用下,可以控制第二调光单元2215的透过率,使得第二调光单元2215透光,进而使得第二调光部122透光。
在显示阶段,在第一电极1211与第二电极1213之间的电压的作用下,可以控制第一调光单元2214的透过率,使得第一调光单元2214透光,进而使得第一调光部121透光;在第一电极1211与第二电极1213之间的电压的作用下,可以控制第二调光单元2215的透过率,使得第二调光单元2215遮光,进而使得第二调光部122遮光。
在一些实施例中,根据子像素区域1011的排布,第二调光部122可以是网格状或多个块状等,进而第二调光单元2215的形状也可以是网状或多个块状等。
在一些实施例中,第一电极层在发光结构11上的正投影,可以与第二电极层在发光结构11上的正投影完全重叠;或者,第一电极层在发光结构11上的正投影,可以与第二电极层在发光结构11上的正投影部分重叠。
本发明实施例中,通过在电压的作用下,来调节第一调光单元2214和第二调光单元2215的透过率,以使得第一调光部121和第二调光部122透光或遮光,操作简便,易实现。
如图10所示,沿显示装置的厚度方向,第二调光结构14包括依次层叠设置的第三电极层141、第二绝缘层142、第四电极层143、以及第二调光层144,第二调光层144与第四电极层143直接接触;在第三电极层141与第四电极层143之间的电压的作用下,第二调光层144的透过率发生变化。
在纹路识别阶段,在第三电极层141与第四电极层143之间的电压的作用下,可以控制第二调光层144的透过率,使得第二调光层144透光。
在显示阶段,在第三电极层141与第四电极层143之间的电压的作用下,可以控制第二调光层144的透过率,使得第二调光层144遮光。
在一些实施例中,由于第二调光结构14仅位于非子像素区域1012,因此,根据子像素区域1011的排布,第二调光结构14可以是网格状或多个块状等,进而第二调光层144的形状也可以是网状或多个块状等。
示例的,若第二调光层144的形状为网状,则第三电极层141和第四电极层143的形状可以是网状,也可以是块状;若第二调光层144的形状为多个块状,则第三电极层141和第四电极层143的形状也是多个块状。
在一些实施例中,第三电极层141在发光结构11上的正投影,可以与第四电极层143在发光结构11上的正投影完全重叠;或者,第三电极层141在发光结构11上的正投影,可以与第四电极层143在发光结构11上的正投影部分重叠。
本发明实施例中,通过在电压的作用下,来调节第二调光层144的透过率,以使得第二调光结构14透光或遮光,操作简便,易实现。
可选的,第一调光层1214和第二调光层144的材料包括电致发光材料或蓝相液晶。
其中,电致发光材料例如可以是硫化锌(ZnS)。
可选的,在纹路检测阶段,与任意一个透光的第一调光部121相邻的第一调光部121遮光。
在一些实施例中,相邻两个透光的第一调光部121之间可包括一个或多个遮光的第一调光部121。
在一些实施例中,在一次纹路检测阶段所在的时间内,同一第一调光部121可以从透光切换至遮光,或者,从遮光切换至透光。
本发明实施例中,考虑到若所有第一调光部121和第二调光部122均透光,则可能因混光而导致成像模糊的问题,影响到纹路识别的精确度。基于此,本发明实施例在第二调光部122透光的情况下,使得与任意一个透光的第一调光部121相邻的第一调光部121遮光,这样一来,可改善混光问题,提高纹路识别的精确度。可选的,如图11所示,所述显示装置为自发光显示装置;纹路识别区101的面积等于显示区100的面积;发光器件111发出的光为白光;显示装置还包括设置于发光器件11的显示侧的彩色滤光层,彩色滤光层15包括多个间隔设置的色阻单元;第二调光部122在彩色滤光层15上的正投影位于相邻色阻单元之间;在显示阶段,第二调光部122复用作显示装置中的黑矩阵。
此处,本领域的技术人员应该知道,黑矩阵应位于整个非像素区域1012,因此,用作黑矩阵的第二调光部122也位于整个非像素区域1012。
在一些实施例中,彩色滤光层15可以位于第一调光结构12靠近发光结构11一侧,也可以位于第一调光结构12背离发光结构11一侧。
在一些实施例中,彩色滤光层15可以设置在自发光显示装置的阵列基板上,也可以设置在自发光显示装置的封装层上。
本发明实施例中,在自发光显示装置的发光器件11发出的光为白光的情况下,自发光显示装置内需设置彩色滤光层和黑矩阵。由于在显示阶段,第二调光部122遮光,因此,在纹路识别区101的面积等于显示区100的面积的情况下,第二调光部122可复用作黑矩阵,以简化自发光显示装置的制备工艺。
可选的,如图12所示,显示装置为液晶显示装置;纹路识别区101的面积等于显示区100的面积;在显示阶段,第二调光部122复用作液晶显示装置中的黑矩阵。
此处,本领域的技术人员应该知道,背光源发出的光为白光,显示面板2包括彩色滤光层和黑矩阵。黑矩阵应位于整个非像素区域1012,因此,用作黑矩阵的第二调光部122也位于整个非像素区域1012。
在一些实施例中,彩色滤光层15可以位于第一调光结构12靠近发光结构11一侧,也可以位于第一调光结构12背离发光结构11一侧。
在一些实施例中,彩色滤光层15可以设置在液晶显示装置的阵列基板上,也可以设置在液晶显示装置的对盒基板上。
现有技术中,由于黑矩阵的存在,难以将纹路识别单元13集成在液晶显示装置中,以实现纹路检测;即使将纹路识别单元13设置在子像素区域1011,也存在纹路识别单元13挡光,从而影响液晶显示装置的显示效果的问题。
基于此,本发明实施例中,液晶显示装置内需设置彩色滤光层和黑矩阵。而本发明实施例中,在显示阶段,第二调光部122遮光,可用作黑矩阵,以简化液晶显示装置的制备工艺;在纹路检测阶段,第二调光部122透光,可进行指纹识别,以解决现有技术无法将纹路识别单元集成在液晶显示装置中的问题。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示装置,其特征在于,具有显示区,所述显示区包括纹路识别区;所述纹路识别区包括多个子像素区域和位于相邻所述子像素区域之间的非子像素区域;
所述显示装置包括发光结构、设置于所述发光结构出光侧的第一调光结构和多个间隔设置的纹路识别单元,多个所述纹路识别单元位于所述第一调光结构背离所述发光结构一侧;多个所述纹路识别单元位于所述非子像素区域;
所述第一调光结构包括第一调光部和第二调光部,所述第一调光部位于所述子像素区域,所述第二调光部位于所述非子像素区域,所述纹路识别单元在所述发光结构上的正投影与所述第二调光部在所述发光结构上的正投影重叠;
在纹路检测阶段,至少所述第二调光部透光;
在显示阶段,所述第一调光部透光,所述第二调光部遮光。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括设置于多个所述纹路识别单元背离所述第一调光结构一侧的第二调光结构,所述第二调光结构设置于所述非子像素区域,且所述第二调光结构在所述发光结构上的正投影覆盖多个所述纹路识别单元在所述发光结构上的正投影;
在所述纹路检测阶段,所述第二调光结构透光;
在所述显示阶段,所述第二调光结构遮光。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,沿所述显示装置的厚度方向,所述第一调光结构包括依次层叠设置的第一电极层、第一绝缘层、第二电极层、以及第一调光层;
所述第一电极层包括多个间隔设置的第一电极,所述第二电极层包括多个间隔设置的第二电极;所述第一电极与所述第二电极一一对应,且所述第一电极和与其对应的所述第二电极在所述发光结构上的正投影重叠;
所述第一调光层包括第一调光单元和第二调光单元;所述第一调光单元位于所述子像素区域,所述第二调光单元位于所述非子像素区域;每个所述第一调光单元和每个所述第二调光单元均与一个所述第二电极对应且直接接触,在所述第一电极与所述第二电极之间的电压的作用下,所述第一调光单元和所述第二调光单元的透光率发生变化;
沿所述显示装置的厚度方向,所述第二调光结构包括依次层叠设置的第三电极层、第二绝缘层、第四电极层、以及第二调光层,所述第二调光层与所述第四电极层直接接触;
在所述第三电极层与所述第四电极层之间的电压的作用下,所述第二调光层的透过率发生变化。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,第一调光层和所述第二调光层的材料包括电致发光材料或蓝相液晶。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述纹路识别区的面积小于所述显示区的面积。
6.根据权利要求1-5任一项所述的显示装置,其特征在于,在所述纹路检测阶段,所述第一调光部透光。
7.根据权利要求1-5任一项所述的显示装置,其特征在于,在所述纹路检测阶段,与任意一个透光的所述第一调光部相邻的所述第一调光部遮光。
8.根据权利要求1-5任一项所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置为自发光显示装置;
所述发光结构包括多个发光器件。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,所述纹路识别区的面积等于显示区的面积;
所述发光器件发出的光为白光;所述显示装置还包括设置于所述发光器件的显示侧的彩色滤光层,所述彩色滤光层包括多个间隔设置的色阻单元;所述第二调光部在所述彩色滤光层上的正投影位于相邻所述色阻单元之间;
在所述显示阶段,所述第二调光部复用作所述显示装置中的黑矩阵。
10.根据权利要求1-5任一项所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置为液晶显示装置;所述纹路识别区的面积等于显示区的面积;
在所述显示阶段,所述第二调光部复用作所述液晶显示装置中的黑矩阵。
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