CN110045702A - 一种tft玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，包括：将配料、窑炉、通道、检验实时数据流以及历史相关数据相结合，然后采用大数据技术分析并建立数据模型，分析、发掘各个参数间的关系；将窑炉数据参数作为诱导因素，某个拟修改参数输入数据模型后进行效果推演，推演结果会被分析、对比，查看与预期结果的差距；窑炉实时数据流经过窑炉DCS***筛选、发现的异常数据输入数据模型进行效果推演，推演结果反馈至窑炉以采取相应的措施；本发明可以掌握、了解窑炉工艺调整后大体的发展方向，在宏观层面拥有更好的洞察力，从而优化玻璃生产工艺。
Description
技术领域
本发明涉及电子玻璃生产技术领域，具体是一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法。
背景技术
在TFT液晶玻璃基板制造中，窑炉是对玻璃进行熔化、澄清的重要设备。窑炉的工艺调整目前都是根据工艺人员长期积累的经验来进行，一套成熟的生产工艺制度需要在生产线上经过长期的实践才能摸索出来,摸索期间时有玻璃良率下降甚至没有良品的情况发生，在资金成本和时间成本上需要承担很大的风险。
此外，由于窑炉操作岗位对工艺人员的经验要求较高，培养一个合格的技术人员时间长、见效慢；然而，窑炉操作岗位的现场操作环境较差，需要本岗位人员能够吃苦耐劳，有良好的服从性和职业素质，从而导致人员流动较大。这就对窑炉工艺的控制和优化造成了一定制约。
随着信息化、数字化技术的不断发展，为解决上述问题，利用数值模拟的方法，对玻璃窑炉、通道生产工艺进行优化也正在被越来越多的人研究，特别是进行窑炉的数值模拟正越来越受到重视。如专利《玻璃电熔窑工作模拟方法及其应用》（公开号CN105574280A），基于fluent软件对窑炉工况进行数学模拟，解析了电熔窑工作原理；《基于混合高斯分布相关学习机的玻璃窑炉温度预报方法》（公开号CN106600001 A），基于混合高斯分布相关学习机，针对玻璃窑炉池底温度指标提出了一种玻璃窑炉温度预报方法。
但是上述方法，受采用技术原理的限制，主要倾向于玻璃窑炉工艺参数的优化，未将工艺调整与调整效果联系起来，不能反映工艺参数与调整效果之间的关系，也未对窑炉工艺的调整指出较为明确的方向。
发明内容
本发明的目的在于提供一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，该方法能够在窑炉某些工艺参数调整后对其它参数以及玻璃缺陷可能造成的影响进行评估，优化玻璃生产工艺，明确调整方向。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，包括：
将配料、窑炉、通道、检验实时数据流以及历史相关数据相结合，然后采用大数据技术分析并建立数据模型，分析、发掘各个参数间的关系；
将窑炉数据参数作为诱导因素，某个拟修改参数输入数据模型后进行效果推演，推演结果会被分析、对比，查看与预期结果的差距；
窑炉实时数据流经过窑炉DCS***筛选、发现的异常数据输入数据模型进行效果推演，推演结果反馈至窑炉以采取相应的措施。
进一步的，所述配料数据包括原料参数、配料工艺主控参数、特殊操作记录。
进一步的，所述窑炉数据包括窑炉工艺参数，加料***参数、燃烧***参数、冷却***参数、除尘***参数、环境参数、其他附属设备参数、操作记录。
进一步的，所述操作记录包括常规记录和非常规记录。
进一步的，所述通道数据包括通道工艺主控参数、特殊操作记录。
进一步的，所述检验数据包括熔配缺陷数据、其他参数、特殊操作记录。
进一步的，所述熔配缺陷数据包括条纹、气泡、结石数据。
进一步的，所述其他参数包括过板节拍、玻璃基板规格参数、人员。
进一步的，所述数据模型包括模拟工艺调整输入端与异常数据输入端两个数据模拟输入端口。
本发明的有益效果是：
一、可以掌握、了解窑炉工艺调整后大体的发展方向，在宏观层面拥有更好的洞察力，从而优化玻璃生产工艺。
二、可以分析更多的数据，处理和某个玻璃缺陷相关的所有数据，不再依赖于随机采样，明确了窑炉工艺调整的方向。
三、可以找出窑炉方面影响玻璃良率的因素，对之前忽略或不重视的不良因素进行规避。
四、通过模拟窑炉工艺调整，强化窑炉操作人员的实操水平，提高窑炉员工的业务能力。
五、通过对窑炉异常数据的评估，及时采取措施，避免产生更大的损失。
六、发现窑炉在运行过程中的不合理点，优化窑炉设计。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：
图1是本发明的流程示意图；
图2是本发明配料数据图；
图3是本发明通道数据图；
图4是本发明窑炉数据图；
图5是本发明检验数据图。
具体实施方式
结合图1～5所示，本发明提供一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，将配料、窑炉、通道、检验实时数据流以及历史相关数据相结合，然后采用大数据技术分析并建立数据模型，分析、发掘各个参数间的关系。
窑炉实时数据流经过窑炉DCS***筛选、发现的异常数据输入数据模型进行效果推演，推演结果反馈至窑炉以采取相应的措施。配料数据包括原料参数、配料工艺主控参数、特殊操作记录。窑炉数据包括窑炉工艺参数，加料***参数、燃烧***参数、冷却***参数、除尘***参数、环境参数、其他附属设备参数、操作记录。操作记录包括常规记录和非常规记录。通道数据包括通道工艺主控参数、特殊操作记录。检验数据包括熔配缺陷数据、其他参数、特殊操作记录。
熔配缺陷数据包括条纹、气泡、结石数据。其他参数包括过板节拍、玻璃基板规格参数、人员。
所述数据模型包括模拟工艺调整输入端与异常数据输入端两个数据模拟输入端口。
模拟工艺调整输入端主要用于输入某个参数，进行工艺调整前的模拟、预判以及对工艺人员的调整训练。将窑炉数据参数作为诱导因素，某个拟调整参数从模拟工艺调整输入端输入数据模型后进行效果推演，推演结果会被分析、对比，查看与预期结果的差距。
异常数据输入端主要用于异常数据输入，对异常数据可能造成的影响进行推演。窑炉实时数据流通过窑炉DCS***筛选、发现的异常数据输入数据模型进行效果推演，帮助预测和预防未来运行中断和性能问题，推演结果根据其是否不利于生产采用不同的处理流程：
一、推演结果中出现缺陷恶化或主控参数异常，向窑炉发送报警，并对数据异常点进行检查、确认，若该异常数据是数据采集错误引起的，实际数据无异常，则修复数据采集点；若该异常数据是真实的，窑炉则采取相应的措施，减少或避免对生产的不利影响。数据的真实性判定、采取的措施会以实时数据的形式传入数据库。
二、推演结果中出现缺陷正常或主控参数无异常，只对数据异常点检查、确认，若该异常数据是数据采集错误引起的，实际数据无异常，则修复数据采集点；若该异常数据是真实的，采取措施排除异常。数据的真实性判定、采取的措施会以实时数据的形式传入数据库。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
Claims (9)
1.一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，包括：
将配料、窑炉、通道、检验实时数据流以及历史相关数据相结合，然后采用大数据技术分析并建立数据模型，分析、发掘各个参数间的关系；
将窑炉数据参数作为诱导因素，某个拟修改参数输入数据模型后进行效果推演，推演结果会被分析、对比，查看与预期结果的差距；
窑炉实时数据流经过窑炉DCS***筛选、发现的异常数据输入数据模型进行效果推演，推演结果反馈至窑炉以采取相应的措施。
2.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述配料数据包括原料参数、配料工艺主控参数、特殊操作记录。
3.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述窑炉数据包括窑炉工艺参数，加料***参数、燃烧***参数、冷却***参数、除尘***参数、环境参数、其他附属设备参数、操作记录。
4.根据权利要求3所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述操作记录包括常规记录和非常规记录。
5.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述通道数据包括通道工艺主控参数、特殊操作记录。
6.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述检验数据包括熔配缺陷数据、其他参数、特殊操作记录。
7.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述熔配缺陷数据包括条纹、气泡、结石数据。
8.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述其他参数包括过板节拍、玻璃基板规格参数、人员。
9.根据权利要求1所述的一种TFT玻璃窑炉生产工艺模拟及参数调整评价方法，其特征在于，所述数据模型包括模拟工艺调整输入端与异常数据输入端两个数据模拟输入端口。
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