CN110027153A - 支承体、支承体的制造方法及光学膜的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及支承体、支承体的制造方法及光学膜的制造方法。将包含构成光学膜的树脂和溶剂的流延胶浆一边支承一边输送的支承体的制造方法包括：在金属带上形成多个衬垫层的工序(S13、S14)。最远离金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

Description

支承体、支承体的制造方法及光学膜的制造方法

技术领域

本发明涉及将流延胶浆一边支承一边输送的支承体、该支承体的制造方法和使用上述支承体来制造光学膜的光学膜的制造方法。

背景技术

目前为止已知被称为玻璃衬垫的衬垫技术。所谓玻璃衬垫，是以低碳钢板或不锈钢板为基底、在基底表面上将玻璃衬垫组合物烧结而形成玻璃衬垫层的表面加工技术。就玻璃衬垫层的表面而言，由于耐药品性及耐热性优异，因此玻璃衬垫在例如化学工业、医药工业、食品工业中的反应槽、搅拌槽的制造中广泛地得到利用(例如参照专利文献1)。

另外，就玻璃衬垫这样的衬垫技术而言，也已在矿石输送用传送带等中得到利用。例如在专利文献2中，通过在传送带的基材的上面被覆衬垫材料、且在衬垫材料中埋设耐磨损用外套材料(ラギング材)，在利用传送带的砂土等的输送时，使得通过外套材料来防止衬垫材料的磨损。

另一方面，在光学膜的领域中，随着近年来的光学器件的薄型化，需要更薄、高品质的光学膜。在光学膜的制造方法中存在各种方法，作为其中代表性的方法，广泛已知以下的溶液流延制膜法：将使聚合物(树脂)溶解于溶剂中而成的胶浆在支承体上进行流延来制膜(例如参照专利文献3、4)。

进而，在光学膜的制膜过程中，常常进行将光学膜用一对辊夹持来输送。此时，如果在光学膜的包含横向(幅手)方向的截面内在光学膜中发生了卷曲，则在光学膜通过一对辊之间时，有时在光学膜中产生折入、开裂。在这方面，例如在专利文献5中，为了在光学膜通过一对辊之间时对光学膜的横向端部所施加的压力变得比对横向中央部所施加的压力小，通过对各辊的形状下工夫，以使得减少上述的光学膜的折入等的发生。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-60746号公报(参照权利要求1、段落[0001]～[0003]、[0016]、图1等)

专利文献2：日本特开平1-267203号公报(参照专利权利要求、作用和效果的栏等)

专利文献3：日本特开2014-177089号公报(参照权利要求1、段落[0009]、[0012]等)

专利文献4：日本特开2011-183759号公报(参照权利要求1、段落[0007]、[0008]、[0010]、图1等)

专利文献5：日本特开2017-76107号公报(参照权利要求1、段落[0006]、[0017]、[0021]、[0038]～[0055]、图2、图3等)

发明内容

发明要解决的课题

但是，在溶液流延制膜法中，作为将胶浆进行支承而输送的支承体，一般使用由价格低、平面性和弹性良好的SUS(stainless steel、不锈钢)制成的金属支承体(金属带)。在该金属带的表面存在针眼(凹坑)、焊接线是众所周知的事实。如果在光学膜的制造时将上述的针眼等的形状转印于流延膜(随后成为光学膜)，则发生光学膜的面品质劣化。因此，希望对金属带的表面进行用于防止针眼等的转印的某种加工。

此时，也有如下想法：将例如专利文献1或2中记载的衬垫技术应用于在光学膜的制造中所使用的金属带，想要谋求防止针眼等的转印。但是，在光学膜的制造中，金属带绕着旋转(周回)，由此在金属带中产生弯曲部，因此认为以往即使在金属带上形成衬垫层，该衬垫层也不耐受上述弯曲部的弯曲，在衬垫层中产生开裂，而没有将上述衬垫技术应用于金属带。

另外，在溶液流延制膜法中所使用的金属带的更换时，通常需要很大的成本和时间，因此希望长期使用1个金属带。因此，定期地保养·检查金属带，例如在金属带的表面残留有胶浆的被膜的情况下，用抹布(ウエス)将其擦除变得必要。但是，在金属带的保养·检查中，在上述胶浆的被膜的擦除清扫时，有时由于与抹布的摩擦而在金属带的表面带有数微米左右的缺陷(擦除缺陷)。上述的擦除缺陷成为被转印于流延膜、与上述同样地发生光学膜的面品质劣化的原因，因此将带有擦除缺陷的金属带更换为新的带变得必要。由于这意味着金属带的长期运转适合性(连续生产适合性)降低，因此需要某种改善。即，希望在金属带的保养·检查时使得在金属带的表面难以带有擦除缺陷。

另外，在溶液流延制膜法中，需要适当地管理(调整)从支承体将流延膜剥离时的残留溶剂量。如果上述残留溶剂量的管理不适当(例如如果残留溶剂量过度地降低)，则由于流延膜的横向端部与横向中央部相比干燥更快速地进行的影响，在剥离后的流延膜(光学膜)的横向端部发生卷曲，其成为在后面工序中引起输送不良的原因。就这样的光学膜的横向端部的卷曲而言，所制成的光学膜越是成为薄膜，越显著地出现。因此，希望将用于剥离的残留溶剂量的适当的管理变得容易，容易地减少剥离后的光学膜的卷曲。应予说明，专利文献5中所公开的技术是减少光学膜的输送不良的技术，不是减少光学膜的卷曲本身的技术。

本发明为了解决上述的问题而完成，其目的在于提供支承体及其制造方法、使用了该支承体的光学膜的制造方法，所述支承体能够防止将在金属带的表面存在的针眼及焊接线的形状转印于流延膜，减轻光学膜的面品质劣化，且能够提高支承体的长期运转适合性，进而能够容易地减轻剥离后的流延膜(光学膜)的卷曲。

用于解决课题的手段

本发明的上述目的通过以下的制造方法及构成来实现。

本发明的一方面涉及的支承体的制造方法是将包含构成光学膜的树脂及溶剂的流延胶浆一边支承一边输送的支承体的制造方法，包括在金属带上形成多层衬垫层的工序，最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

本发明的另一方面涉及的支承体是将包含构成光学膜的树脂及溶剂的流延胶浆一边进行支承一边进行输送的支承体，包含金属带、和位于所述金属带上的多层衬垫层，最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

本发明的又一方面涉及的光学膜的制造方法是使用所述支承体来制造光学膜的光学膜的制造方法，包括：将包含构成所述光学膜的树脂及溶剂的胶浆在所述支承体上进行流延而形成流延膜的工序；将所述流延膜从所述支承体进行剥离的工序；和使剥离的所述流延膜干燥而得到所述光学膜的工序。

发明的效果

根据上述的支承体的制造方法及构成，能够防止将在金属带的表面所存在的针眼及焊接线的形状转印于流延膜，能够减轻光学膜的面品质劣化。另外，能够提高支承体的长期运转适合性，且能够容易地减轻剥离后的流延膜(光学膜)的卷曲。

附图说明

图1为表示本发明的实施方式涉及的光学膜的制造装置的概略的构成的说明图。

图2为表示上述光学膜的制造工序的流程的流程图。

图3为表示上述制造装置所具有的支承体的概略的构成的截面图。

图4为用于说明表面粗糙度Ra的算出方法的说明图。

图5为表示上述支承体的制造工序的流程的流程图。

图6为表示上述支承体的另一构成的截面图。

图7为用于说明维氏硬度的算出方法的说明图。

附图标记的说明

3 支承体

5 网状物(流延膜)

31 金属带

32 衬垫层

32a 衬垫层

32b 衬垫层

32c 衬垫层

F 光学膜

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的实施方式进行说明。应予说明，本说明书中，将数值范围表示为A～B的情况下，规定为在该数值范围中包含下限A和上限B的值。予以说明，本发明并不限定于以下的内容。

[光学膜的制造方法]

图1为表示本实施方式的光学膜的制造装置1的概略的构成的说明图。另外，图2为表示光学膜的制造工序的流程的流程图。就本实施方式的光学膜的制造方法而言，是通过溶液流延制膜法来制造光学膜的方法，如图2中所示那样，包含搅拌调制工序(S1)、流延工序(S2)、剥离工序(S3)、干燥工序(S4)、拉伸工序(S5)、切断工序(S6)、压花加工工序(S7)、卷取工序(S8)。以下，一边参照图1及图2一边对各工序进行说明。

(S1：搅拌调制工序)

在搅拌调制工序中，在搅拌装置100的搅拌槽101中，至少对树脂及溶剂进行搅拌，调制在支承体3(环形带)上流延的胶浆。

(S2：流延工序)

在流延工序中，将搅拌调制工序中所调制的胶浆通过加压型定量齿轮泵等，通过导管送液至流延模头2，从流延模头2将胶浆流延至由无限地进行转移的旋转驱动不锈钢制环形带构成的支承体3上的流延位置。然后，就支承体3而言，一边支承被流延的胶浆(流延胶浆)一边进行输送。由此，在支承体3上形成作为流延膜的网状物5。

就支承体3而言，被一对辊3a·3b及位于它们之间的多个辊(未图示)保持。在辊3a·3b的一者或两者，设置有对支承体3赋予张力的驱动装置(未图示)，由此将支承体3在施加张力而拉伸的状态下使用。

在流延工序中，将网状物5在支承体3上加热，使溶剂蒸发直至可通过剥离辊4将网状物5从支承体3剥离。为了使溶剂蒸发，有从网状物侧吹风的方法、从支承体3的背面通过液体来进行传热的方法、通过辐射热从表面和背面进行传热的方法等，可适当地单独使用或者组合使用。

(S3：剥离工序)

在上述的流延工序中，使其干燥固化或冷却凝固直至形成在支承体3上可将网状物5剥离的膜强度后，在剥离工序中，在使网状物5具有自支承性的状态下通过剥离辊4将其剥离。

应予说明，就在剥离时刻的支承体3上的网状物5的残留溶剂量而言，根据干燥的条件的强弱、支承体3的长度等，优选为40～120质量％的范围。在残留溶剂量较多的时刻进行剥离的情况下，如果网状物5过于柔软，则损害剥离时平面性，容易发生由剥离张力所引起的褶皱、纵条纹，因此兼顾经济速度和品质来确定剥离时的残留溶剂量。应予说明，残留溶剂量由下述式定义。

残留溶剂量(质量％)＝(网状物的加热处理前质量-网状物的加热处理后质量)/(网状物的加热处理后质量)×100

其中，所谓测定残留溶剂量时的加热处理，表示在115℃下进行1小时的加热处理。

(S4：干燥工序)

用干燥装置6将从支承体3所剥离的网状物5干燥。在干燥装置6内，通过从侧面看配置成锯齿状的多个输送辊来输送网状物5，在其间将网状物5干燥。对干燥装置6中的干燥方法并无特别限制，一般使用热风、红外线、加热辊、微波等来使网状物5干燥。从简便的方面考虑，优选用热风使网状物5干燥的方法。

就网状物5而言，在用干燥装置6干燥后，作为光学膜F将其向拉幅机7输送。

(S5：拉伸工序)

在拉伸工序中，用拉幅机7将光学膜F拉伸。作为此时的拉伸方向，为膜输送方向(MD方向；Machine Direction)、在膜面内与上述输送方向垂直的横向方向(TD方向；Transverse Direction)、这两个方向中的任一者。在拉伸工序中，将光学膜F的两侧边缘部用夹具等固定而进行拉伸的拉幅机方式，由于提高膜的平面性、尺寸稳定性，因此优选。予以说明，在拉幅机7内，除了拉伸以外，还可进行干燥。在拉伸工序中，通过对光学膜F在MD方向及TD方向这两方向上进行拉伸，也能够将光学膜F在相对于MD方向及TD方向倾斜地交叉的方向上进行拉伸(倾斜拉伸)。

(S6：切断工序、S7：压花加工工序)

在拉幅机7与卷取装置10之间，依次配置切断部8及压花加工部9。在切断部8中，进行一边将制成了的光学膜F输送一边通过纵切机将其横向方向的两端部切断的切断工序。在光学膜F中，就在两端部的切断后残留的部分而言，构成成为膜制品的制品部。另一方面，就从光学膜F所切断的部分而言，用喷射器来回收、再次作为原材料的一部分在膜的制膜中进行再利用。

切断工序后，对光学膜F的横向方向的两端部通过压花加工部9来实施压花加工(滚花加工)。就压花加工而言，通过将被加热的压花辊压靠光学膜F的两端部来进行。在压花辊的表面形成细小的凹凸，通过将压花辊压靠光学膜F的两端部，在上述两端部形成凹凸。通过这样的压花加工，能够极力地抑制下一个的卷取工序中的卷绕错位、粘连(膜彼此的贴附)。

(S8：卷取工序)

最后，通过卷取装置10将压花加工结束了的光学膜F卷取，得到光学膜F的原卷(元巻)(膜卷)。即，在卷取工序中，通过一边输送光学膜F一边卷取于卷芯，制造膜卷。就光学膜F的卷取方法而言，可使用一般所使用的卷绕器，有定扭矩法、定张力法、渐变张力法、内部应力一定的程序张力控制法等控制张力的方法，可将这些分开来使用。光学膜F的卷长优选为1000～7200m。另外，此时的宽度优选为1000～3200mm宽，膜厚优选为10～60μm。

[光学膜]

就本实施方式的光学膜而言，通过上述的溶液流延制膜法来制造。就光学膜而言，只要是由热塑性树脂构成的膜则均可，在光学用途中使用的情况下，优选为由具有对于所期望的波长具有透明的性质的树脂构成的膜。作为构成这样的膜的树脂，可列举出聚碳酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚砜系树脂、聚芳酯系树脂、聚乙烯系树脂、聚氯乙烯系树脂、具有脂环结构的烯烃聚合物系树脂(脂环式烯烃聚合物系树脂)、纤维素酯系树脂等。予以说明，在光学膜中，根据需要可含有消光材料等添加剂。

[支承体的详细情况]

接着，对上述的光学膜的制造装置1所具有的支承体3的详细情况进行说明。图3为表示上述支承体3的概略的构成的截面图。在本实施方式中，支承体3具有金属带31和多个衬垫层32而构成。

金属带31为由SUS等金属制成的环状的带。就多个衬垫层32而言，以覆盖金属带31的表面的方式来形成，在此，由衬垫层32a·32b构成。将衬垫层32a·32b依次在金属带31上层叠。因此，衬垫层32a为最接近金属带的衬垫层，衬垫层32b为最远离金属带31的(最表层的)衬垫层。就各衬垫层32而言，通过例如玻璃加工等衬垫技术来形成。

在本实施方式中，最远离金属带31的最表层的衬垫层32b的表面粗糙度(计算平均粗糙度)Ra为3～200nm。就上述范围的表面粗糙度Ra而言，能够通过适当地选择构成衬垫层32b的材料(例如玻璃材料)而实现。

其中，表面粗糙度Ra是JIS B0601-1994或JIS B 0601-2001中定义的值。即，就表面粗糙度Ra而言，如图4中所示，从粗糙度曲线中在其平均线m的方向只抽出(抜き取る)基准长度L，在该抽出部分的平均线m的方向上取X轴，在纵倍率的方向上取Y轴，将粗糙度曲线用y＝f(x)表示时，用微米(μm)表示根据该图中的式所求出的值。

图5为表示上述构成的支承体3的制造工序的流程的流程图。就支承体3的制造方法而言，包含调制工序(S11)、喷砂工序(S12)、衬垫层(第1层)形成工序(S13)、衬垫层(第2层)形成工序(S14)。以下对各工序的详细情况进行说明。

在S11的调制工序中，调制衬垫层形成用组合物。在玻璃加工的情况下，作为衬垫层形成用组合物，只要是包含选自SiO₂、B₂O₃、Al₂O₃、CaO、MgO、Na₂O、CoO、NiO、MnO₂、K₂O、Li₂O、BaO、ZnO、TiO₂、ZrO₂和CaF₂等中的成分的组合物，则能够无特别限定地使用。予以说明，在衬垫层形成用组合物中，将从金属带31侧起第1层的衬垫层32a的形成用组合物也称为“下釉”，将第2层的衬垫层32b的形成用组合物也称为“上釉”。在调整工序中，分别调制下釉、上釉而准备。

在S12的喷砂工序中，通过以高速度向金属带31的表面喷射固体金属、矿物性或植物性的研磨材料，将金属带31的表面的污垢除去，使表面洁净化。

在S13的衬垫层形成工序中，使用在S11中调制的下釉，在在S12中将表面洁净化的金属带31上形成衬垫层32a。在该工序中，通过将下釉的涂布、干燥、烧成反复进行多次，以规定厚度(例如0.1～0.3mm)形成衬垫层32a。

在S14的衬垫层形成工序中，使用S11中所调制的上釉，在S13中形成的衬垫层32a的表面形成衬垫层32b。在该工序中，通过将上釉的涂布、干燥、烧成反复进行多次，以规定厚度(例如0.3～0.7mm)形成衬垫层32b。即，衬垫层32a·32b的总厚度例如为0.4～1.0mm。由此,得到在金属带31上形成有多个衬垫层32的支承体3。

予以说明，就下釉、上釉的涂布而言,可用湿式下的手涂、喷涂式、浸渍式、干式等的任一者来进行。下釉、上釉的干燥后可在玻璃软化熔融的温度下进行烧成。另外，从耐蚀性、耐磨损性的方面考虑，衬垫层32a·32b的总厚度优选为0.8mm以上。

予以说明，在本实施方式中，在由SUS等不锈钢制成的金属带31上，通过玻璃加工形成衬垫层32，但就能够应用玻璃加工的金属而言,并不限定于不锈钢。例如,对于低碳钢板、铸铁、镍·钼合金(哈斯特洛伊合金(ハステロイ))、镍·铬·铁合金(因科镍合金(インコネル))等，也能够通过玻璃加工来形成衬垫层。即，即使在用不锈钢以外的上述金属构成金属带31的情况下，也能够在该金属带31上通过玻璃加工来形成衬垫层32。

另外，在金属带31上通过玻璃加工形成多个衬垫层32以外，例如也能够通过硬铬(硬质铬、HCr)镀敷加工来形成多个衬垫层32。就硬铬镀敷加工而言,能够例如通过使用公知的电镀法将硬铬进行镀敷而进行。

如上所述，本实施方式的支承体3的制造方法包括在金属带31上形成多个衬垫层32的工序(S13、S14)。因此，在通过该制造方法所制造了的支承体3中，多层衬垫层32位于金属带31上(参照图3)。在这样的支承体3的构成中，由于用多层衬垫层32将金属带31的表面覆盖，因此在通过上述的溶液流延制膜法来制造光学膜F的情况下，能够通过多层衬垫层32防止将在金属带31的表面所存在的针眼及焊接线的形状转印至支承体3上的流延膜(网状物5)。由此，能够减轻所制造的光学膜F的面品质由于上述形状的转印而劣化。

另外，金属带31上的衬垫层32由于为多层，因此如后所述，通过适当地设定各衬垫层32的硬度(例如通过使内侧的衬垫层32a***，使外侧的衬垫层32b***)，在金属带31的弯曲部(沿着辊3a·3b的外周面的部分)能够使各衬垫层32的开裂难以发生。其结果，以往困难的衬垫技术应用于金属带31成为可能，如本实施方式，在金属带31上设置衬垫层32的构成成为可能。

另外，在将被制造的光学膜F应用于例如大型的液晶显示装置的偏振片的保护膜的情况下，即使在光学膜F带有少许上述针眼等的转印所产生的缺陷(转印缺陷)，这样的转印缺陷也不会使显示图像的可视性大幅地降低(这是由于：相对于图像的显示区域全体，受到转印缺陷的影响的图像的显示区域的比例小)。另一方面，在将上述光学膜F应用于例如摄像光学系(例如配置于摄像元件的光入射侧的红外线阻隔膜)的情况下，由于摄像元件的像素微小，因此上述转印缺陷对摄像元件的摄像性能产生大的影响。因此，就能够减轻上述光学膜F的面品质劣化的本实施方式的构成而言，特别是在将光学膜F应用于摄像光学系的情况下变得非常有效。

另外，在用衬垫层32覆盖金属带31的构成中，用比金属带31硬的材料来构成衬垫层32成为可能。由此，在支承体3的保养·检查中，即使在进行在支承体3的表面所残留的胶浆被膜的擦除清扫的情况下，在支承体3(衬垫层32)的表面也难以带有擦除缺陷。因此，长期地使用支承体3成为可能，能够提高支承体3的长期运转适合性(连续生产适合性)。另外，由于长期运转适合性的提高，支承体3的更换频率降低，因此支承体3的更换所需的极大的成本、时间也得到削减。

另外，由于最表层的衬垫层32b的表面粗糙度Ra为3～200nm、例如比SUS的表面粗糙度(例如1nm左右)足够大，因此在剥离时从支承体3将网状物5剥离变得容易。因此，用于剥离的网状物5的残留溶剂量的适当的管理(特别是不使残留溶剂量过度地降低的调整)变得容易，由此，容易地减轻剥离后的网状物5和光学膜F的卷曲成为可能。另外，由于残留溶剂量的适当的管理变得容易，因此例如为了使剥离变得容易，不再需要在以不损害光学膜F所要求的功能的方式使胶浆的挥发性变化的配方研究上花费很多时间，另外，也不需要追加用于使剥离变得容易的设备(例如专利文献4的冷却体)，也不再担心由设备追加所引起的成本增加等。

另外，本实施方式的光学膜F的制造方法是使用上述的支承体3l来制造光学膜F的光学膜的制造方法，包括：将包含构成光学膜F的树脂及溶剂的胶浆在支承体3上流延而形成流延膜(网状物5)的工序(S2)、将流延膜从支承体3剥离的工序(S3)、和使剥离的流延膜干燥而得到光学膜F的工序(S5)。由此，能够长期使用支承体3而谋求支承体3的更换所需的成本减少，同时能够制造面品质良好且卷曲减轻的光学膜F。

[支承体的其他构成]

图6为表示支承体3的其他构成的截面图。如该图中所示，在金属带31上所形成的多个衬垫层32可以为3层。另外，虽然未图示，但多个衬垫层32可以为4层以上。即使在该情况下，由于用多层衬垫层32将金属带31的表面覆盖，因此能够得到:能够减轻在金属带31的表面存在的针眼等的转印所引起的光学膜F的面品质劣化、能够提高支承体3的长期运转适合性(连续生产适合性)等与上述的本实施方式的效果同样的效果。

另外，在从金属带31侧设置衬垫层32a、衬垫层32b、衬垫层32c这3层的情况下，通过使最表层的衬垫层32c的表面粗糙度Ra为3～200nm，在剥离时从支承体3将网状物5剥离变得容易，残留溶剂量的管理变得容易，因此容易地减轻光学膜F的卷曲成为可能。

[关于各衬垫层的硬度]

就各衬垫层32而言,如上所述,通过例如使用有玻璃材料的玻璃加工而分别形成。此时的各衬垫层32的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下。另外，在各衬垫层32由硬铬镀敷或硬铬镀层来分别构成的情况下，各衬垫层32的硬度用维氏硬度表示为500以上且1200以下。

在此，所谓维氏硬度(也有时表示为“HV”)，指的是如下的值：如图7中所示那样，对压头P(对角(対面角)136°的金刚石正四棱锥)施加试验力F(N)，将压头P压入计量对象物OB，由将压头P移除时所产生的永久变形的凹坑的对角线长度d(mm)来算出接触面积S(mm²)，试验力F除以接触面积S所得的值。

在本实施方式中，就最表层的衬垫层32的硬度而言,比相对于最表层的衬垫层32更位于金属带31侧的至少一层的衬垫层32的硬度高。例如，如图3那样，在金属带31上设置2层衬垫层32的构成中，最表层的衬垫层32b的硬度比最接近金属带31的衬垫层32a的硬度高。

另外，例如，如图6那样，在金属带31上设置3层衬垫层32的构成中，最表层的衬垫层32c的硬度可比两个衬垫层32a·32b的硬度高，也可与第2接近金属带31的衬垫层32b的硬度相同，比最接近金属带31的衬垫层32a的硬度高。另外，在最表层的衬垫层32c的硬度比两个衬垫层32a·32b的硬度高的情况下，第2接近金属带31的衬垫层32b的硬度可比最接近金属带31的衬垫层32a的硬度高，也可与上述衬垫层32a的硬度相同。

这样，通过最表层的衬垫层32(以下也称为外侧的衬垫层32)的硬度变得比相对于最表层的衬垫层32更位于金属带31侧的至少一层的衬垫层32(以下也称为内侧的衬垫层32)的硬度高，内侧的衬垫层32与外侧的衬垫层32相比变得较软。由此，即使金属带31沿着辊3a·3b的外周面弯曲，也能够用内侧的衬垫层32吸收该弯曲，使得上述衬垫层32难以开裂。因此，以往困难的衬垫技术应用于金属带31成为可能，在金属带31上设置衬垫层32，可靠地得到减轻金属带31的表面的针眼等的转印引起的光学膜F的面品质劣化等上述的效果成为可能。

特别地，在最表层的衬垫层32的硬度比最接近金属带31的(与金属带31相接的)衬垫层32的硬度高的情况下，由于与金属带31相接的衬垫层32较软，因此能够用与金属带31相接的衬垫层32高效率地吸收金属带31的弯曲。其结果，能够可靠地减轻上述衬垫层32及其上层的衬垫层32的开裂。因此，如本实施方式，可靠地得到实现在金属带31上设置多个衬垫层32的构成而减轻光学膜F的面品质劣化等上述的效果成为可能。

另外，在通过硬铬镀敷加工来形成多层衬垫层32的情况下(在多层衬垫层32由硬铬镀敷构成的情况下)，最表层的衬垫层32的硬度用维氏硬度表示为500以上，比SUS的维氏硬度(200以下)高2倍以上。因此，变得难以在最表层的衬垫层32带有由外部因素所产生的缺陷，特别地，在支承体3的保养·检查中，即使在用抹布擦除胶浆被膜的情况下，也难以在最表层的衬垫层32带有擦除缺陷。另外，通过上述衬垫层32，也可抑制由溶剂所引起的支承体3的表面的腐蚀。由此能够可靠地提高支承体3的长期运转适合性。

[玻璃衬垫特有的构成]

在金属带31上通过玻璃加工而形成多层衬垫层32的构成中，优选最表层的衬垫层32的表面粗糙度Ra为30～100nm，最表层的衬垫层32的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下，多层衬垫层32(衬垫层全体)的热导率为0.8～1W/m·K。

通过最表层的衬垫层32的表面粗糙度Ra为上述范围，与用金属带31直接支承网状物5的构成相比，能够可靠地降低网状物5对于支承体3的密合性，可靠地提高网状物5的剥离性。由此，用于剥离的网状物5的残留溶剂量的适当的管理变得容易，可容易地减轻剥离后的网状物5及光学膜F的卷曲。

另外，由于最表层的衬垫层32的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下、比SUS的维氏硬度(200以下)高2倍以上，因此与硬铬镀敷的情形同样地，在最表层的衬垫层32难以带有由外部因素所引起的缺陷，即使在保养·检查时，在衬垫层32也难以带有由抹布所引起的擦除缺陷，由溶剂所引起的支承体3的表面的腐蚀也受到抑制。由此，能够可靠地提高支承体3的长期运转适合性。

进而，多层衬垫层32的热导率为0.8～1W/m·K，例如与SUS(热导率：40W/m·K)相比非常小。由此，能够抑制网状物5在支承体3上的干燥。因此，即使不进行胶浆配方改变、利用追加设备的外在的温度管理，也能够抑制在剥离时残留溶剂量过度地降低。其结果，能够防止由于网状物5的横向端部与横向中央部相比干燥更快地进行的影响而在网状物5(光学膜F)的端部发生卷曲。因此，对于干燥特别容易进行的薄膜的光学膜F而言，如上所述设定多层衬垫层32的热导率的构成变得非常有效。

[实施例]

以下，列举实施例对本发明具体地说明，但本发明并不限定于这些。

＜支承体的制造＞

首先，作为衬垫层形成用组合物，调制表1中所示的玻璃材料(组合物A～C)而准备。另外，为了用于硬铬镀敷加工，准备了铬溶液。

【表1】

成分	组合物A	组合物B	组合物C
				SiO<sub>2</sub>	50	60	37
Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>	10	3	19
				B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>	11	8	8
Na<sub>2</sub>O	10	15	18
				K<sub>2</sub>O	8	2	4
Li<sub>2</sub>O	0	3	4
				TiO<sub>2</sub>	0	0	0
BaO	0	0	0
				CaO	2	6	6
ZrO<sub>2</sub>	0	3	4
				CaF<sub>2</sub>	7	0	0
CoO	0	0	0
				MnO<sub>2</sub>	0	0	0
NiO	0	0	0
				MgO	2	0	0

(单位均为重量％)

接着，使用表1中所示的组合物A～C，在由SUS制成的环状的金属带上，以表2中所示的组合和涂布方法来涂布各组合物，进行干燥和烧成，由此在金属带上形成多层(2层或3层)的衬垫层，制作各支承体1～6、8。此时，就各衬垫层的形成而言，通过将组合物的涂布、干燥、烧成反复多次而进行。予以说明，各衬垫层的烧成温度如表2中所示。通过在各衬垫层的形成中反复进行烧成，即使各衬垫层的厚度薄，也可耐受实际的烧成负荷。

予以说明，在形成2层衬垫层的情况下，将从金属带起的第1层也称为“下层”，将第2层也称为“上层”。另外，在形成3层衬垫层的情况下，将从金属带起的第1层也称为“下层”，将第2层也称为“中间层”，将第3层也称为“上层”。在此，形成下层以使得厚度形成0.1mm，形成上层以使得厚度形成0.4mm。另外，在形成中间层的情况下，形成中间层以使得厚度形成0.3mm。

另外，将由SUS制成的金属带浸入到铬溶液中，通过电镀法在金属带上形成多层衬垫层，制作表2中所示的支承体7。应予说明，在支承体7中，通过使镀敷处理后的热处理温度不同，使下层和上层的硬度不同。在此，通过与上层的加热温度相比来提高下层的加热温度，使下层的硬度变得比上层的硬度低。

另外，为了比较，准备在金属带上没有形成衬垫层的支承体9。

＜光学膜的制作＞

〈微粒分散液1〉

微粒(アエロジルR812日本アエロジル(株)制造) 11质量份

乙醇 89质量份

将以上用溶解器搅拌混合50分钟后，使用マントンゴーリン进行分散，调制微粒分散液1。

〈微粒添加液1〉

一边在装有二氯甲烷的溶解罐中充分搅拌，一边缓慢地添加微粒分散液1。进而，用磨碎机进行分散以使得二次粒子的粒径成为规定的大小。将其用日本精线(株)制的ファインメットNF进行过滤，调制微粒添加液1。

二氯甲烷 99质量份

微粒分散液1 5质量份

〈胶浆的调制〉

接着，在加压溶解罐中添加二氯甲烷和乙醇。然后，将总酰基取代度2.56的乙酸纤维素一边搅拌一边投入到装有溶剂的加压溶解罐中。将其加热，一边搅拌一边将其完全溶解，将其使用安积滤纸(株)制的安积滤纸No.244进行过滤，调制主胶浆。然后，将以下的物质投入到被密闭的溶解釜中，一边搅拌一边溶解，调制胶浆。

《胶浆的组成》

二氯甲烷 365质量份

乙醇 50质量份

纤维素酰化物 100质量份

(乙酸丙酸纤维素、乙酰基取代度1.6、丙酰基取代度0.9、总酰基取代度2.5、数均分子量(Mn)6.4万)

微粒添加液1 1质量份

〈膜的制膜〉

作为支承体，使用上述制作的支承体1～9，依次如下所述制成光学膜。即，在支承体上使胶浆流延，在支承体上使溶剂蒸发直至由流延的胶浆所形成的网状物中的残留溶剂量成为45质量％，接着，用剥离张力130N/m从支承体上将网状物剥离。然后，对于剥离的网状物，一边用多个辊在干燥区输送一边完成干燥。干燥区的温度为125℃，干燥时间为20分。干燥后的残留溶剂量为3质量％以下。

接着，使用拉幅机将干燥后的网状物拉伸或端部保持、输送。拉幅机中的拉伸温度为180℃，拉伸后的残留溶剂量为0.1质量％。

＜各参数的测定方法＞

(硬度的测定)

在金属带上形成了下层(衬垫层)后，使用显微维氏硬度计(HMV-G系列、岛津制作所制造)，测定下层的维氏硬度。对于中间层及上层，也与上述同样地，在中间层的形成后及上层的形成后，分别使用上述硬度计来测定维氏硬度。另外，对于支承体9，使用上述硬度计测定金属带的维氏硬度。

(热导率的测定)

使用激光闪光法，测定衬垫层全体(支承体1～8)和金属带(支承体9)的热导率。其中，就利用激光闪光法的热导率的测定原理而言，如以下。

首先，将脉冲激光照射到试样表面，由温度上升量θm(K)的倒数求出比热Cp。此时的比热Cp(kJ/kg·K)用下式表示。

Cp＝Q/(M·θm)

应予说明，Q表示热输入量(脉冲光能、单位kJ)，M表示试样的质量(kg)。

接着，由温度上升量θm的仅1/2温度进行上升所需的时间t_1/2(s)来求出热扩散率α(mm²/s)。

α＝0.1388d²/t_1/2

予以说明，d表示试样的厚度(mm)。

热导率λ(W/m·K)用比热Cp、热扩散率α、试样的密度ρ(kg/m³)之积来表示。

λ＝α·Cp·ρ

(表面粗糙度Ra的测定)

使用激光干涉计(光学计量设备Zygo、佳能制造)测定上层(支承体1～8)及金属带(支承体9)的表面粗糙度Ra。

＜评价方法＞

(光学膜的面品质)

以目视观察所制造的光学膜的膜面，判断在支承体的金属带所存在的针眼及焊接线的转印缺陷是否在膜面存在，基于以下的评价标准，对光学膜的面品质进行评价。

《评价标准》

○：在膜面中完全没有观察到转印缺陷。

×：在膜面中观察到相当多的转印缺陷。

(长期运转适合性(连续生产适合性))

在用抹布对上层(支承体1～8)及金属带(支承体9)的表面进行擦拭清扫的前后，用手握式的LED灯(トリトングリーン、NCC制造)照明而观察，考察擦拭清扫后的缺陷(擦除缺陷)的状态。然后，基于以下的评价标准，对于长期运转适合性进行评价。

《评价标准》

○：在支承体表面几乎没有观察到擦除缺陷，不需要更换支承体。

△：在支承体表面观察到一些擦除缺陷，是即使转印于膜对品质也几乎无影响的浅的缺陷，不需要更换支承体。

×：在支承体表面观察到转印于膜时导致品质劣化的程度的大的擦除缺陷，需要支承体的更换。

(卷曲)

将制造的光学膜载置到平坦的面上，将金属制的尺子对准膜的横向端部，从金属制的尺子的刻度来读取从载置面的膜横向端部的上浮量，将读取的值作为卷曲量。然后，基于以下的评价标准，对于卷曲进行评价。

《评价标准》

○：在膜横向端部发生卷曲，但为对其后的膜的输送几乎无影响的很小的卷曲。

△：在膜横向端部发生卷曲，但为对其后的膜的输送不产生障碍的程度的卷曲，实用上无问题。

×：在膜横向端部发生导致输送停止的程度的大的卷曲。

在表3中，示出各参数的测定结果及各支承体的评价的结果。

根据表3，在支承体1～7中，面品质、卷曲、长期运转适合性的评价全部为良好(○或△)。认为这是由于：在支承体1～7中，由于多层衬垫层位于金属带上，因此在光学膜的制膜时，在金属带的表面存在的针眼及焊接线的形状向网状物的转印被防止，另外，由于衬垫层的存在，变得难以带有擦除缺陷。进而，认为原因在于：由于最表层的衬垫层(上层)的表面粗糙度Ra为3～200nm的范围内，因此网状物的剥离性提高，能够进行用于剥离的网状物的残留溶剂量的适当的管理(特别是不使残留溶剂量过度降低的调整)。

特别地，在支承体2、4～7中，由于最表层的衬垫层(上层)的硬度用维氏硬度表示为500以上，衬垫层比SUS硬2倍以上，在支承体表面(衬垫层表面)难以带有由擦拭清扫所引起的擦除缺陷，其结果，认为支承体的长期运转适合性进一步提高。

另外，在支承体3～6中，由于表面粗糙度Ra为30～100nm的范围，对于支承体的网状物的剥离性成为适度的范围(由于剥离没有过度地变得困难，也没有过度地变得容易)，因此网状物的残留溶剂量的适当的管理确实变得容易，其结果，认为膜的横向端部的卷曲受到良好地抑制。

相对于上述内容，在支承体8中，由于在金属带上设置有衬垫层，因此光学膜的面品质及支承体的长期运转适合性变得良好。但是，由于最表层的衬垫层(上层)的表面粗糙度Ra超过200nm，网状物从支承体的剥离过度变得容易，因此反而难以进行残留溶剂量的调整，其结果，认为在膜端部产生卷曲。

另外，在支承体9中，针对面品质、长期运转适合性及卷曲的结果全部为不良(×)。在支承体9中，认为：由于在金属带上没有设置衬垫层，因此金属带的针眼等被转印于网状物，另外，在金属带的表面直接带有擦除缺陷。另外，由于金属带的表面粗糙度Ra小达1nm、网状物容易密合于支承体，因此在支承体上网状物的残留溶剂量过度降低，其结果，认为膜的横向端部变得容易干燥而发生卷曲。

以上，对于本发明的实施方式进行了说明，但本发明的范围并不限定于此，在不脱离发明的主旨的范围内能够扩展或变形来实施。

以上说明的支承体、支承体的制造方法及光学膜的制造方法也能够如下所述来表现。

1.支承体的制造方法，其为将流延胶浆一边支承一边输送的支承体的制造方法，所述流延胶浆包含：构成光学膜的树脂、和溶剂，其特征在于，

所述制造方法包括：在金属带上形成多个衬垫层的工序，

最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

2.上述1所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比相对于该最表层的衬垫层更位于所述金属带侧的至少1层的衬垫层的硬度高。

3.上述1或2所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比最靠近所述金属带的衬垫层的硬度高。

4.上述1-3中任一项所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上。

5.上述4所述的支承体的制造方法，其特征在于，在所述工序中，通过硬铬镀敷加工或来形成多个所述衬垫层。

6.上述1-3中任一项所述的支承体的制造方法，其特征在于，

在所述工序中，通过玻璃加工来形成多个所述衬垫层；

所述最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为30～100nm；

所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下；

所述多层衬垫层的热导率为0.8～1W/m·K。

7.支承体，其为将流延胶浆一边支承一边输送的支承体，所述流延胶浆包含：构成光学膜的树脂、和溶剂，其特征在于，

所述支承体包含：金属带、和位于所述金属带上的多个衬垫层；

最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

8.上述7所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比相对于该最表层的衬垫层更位于所述金属带侧的至少1层的衬垫层的硬度高。

9.上述7或8所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比最靠近所述金属带的衬垫层的硬度高。

10.上述7-9中任一项所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上。

11.上述10所述的支承体，其特征在于，所述多个衬垫层分别由硬铬镀敷来构成。

12.上述7-9中任一项所述的支承体，其特征在于，

所述多个衬垫层分别由玻璃材料构成；

所述最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为30～100nm；

所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下；

所述多层衬垫层的热导率为0.8～1W/m·K。

13.光学膜的制造方法，其为使用上述7-12中任一项所述的支承体来制造光学膜的光学膜的制造方法，其特征在于，包括：

将胶浆在所述支承体上流延而形成流延膜的工序，所述胶浆包含构成所述光学膜的树脂、和溶剂；

将所述流延膜从所述支承体剥离的工序；

和使剥离的所述流延膜干燥而得到所述光学膜的工序。

产业上的可利用性

本发明可在例如采用溶液流延制膜法的光学膜的制造装置中使用的支承体和该支承体的制造以及使用了该支承体的光学膜的制造中利用。

Claims (13)

1.一种支承体的制造方法，其为将流延胶浆一边支承一边输送的支承体的制造方法，所述流延胶浆包含：构成光学膜的树脂、和溶剂，其特征在于，

所述制造方法包括：在金属带上形成多层衬垫层的工序，

最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

2.根据权利要求1所述的支承体的制造方法，其特征在于，就所述最表层的衬垫层的硬度而言，比相对于该最表层的衬垫层更位于所述金属带侧的至少1层的衬垫层的硬度高。

3.根据权利要求1或2所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比最靠近所述金属带的衬垫层的硬度高。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的支承体的制造方法，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上。

5.根据权利要求4所述的支承体的制造方法，其特征在于，在所述工序中，通过硬铬镀敷加工来形成多层所述衬垫层。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的支承体的制造方法，其特征在于，在所述工序中，通过玻璃加工来形成多层所述衬垫层，

所述最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为30～100nm，

所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下，

所述多层衬垫层的热导率为0.8～1W/m·K。

7.一种支承体，其为将流延胶浆一边支承一边输送的支承体，所述流延胶浆包含：构成光学膜的树脂、和溶剂，其特征在于，

所述支承体包含：

金属带、和

位于所述金属带上的多层衬垫层；

最远离所述金属带的最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为3～200nm。

8.根据权利要求7所述的支承体，其特征在于，就所述最表层的衬垫层的硬度而言，比相对于该最表层的衬垫层更位于所述金属带侧的至少1层的衬垫层的硬度高。

9.根据权利要求7或8所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度比最靠近所述金属带的衬垫层的硬度高。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的支承体，其特征在于，所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上。

11.根据权利要求10所述的支承体，其特征在于，所述多层衬垫层分别由硬铬镀敷来构成。

12.根据权利要求7-9中任一项所述的支承体，其特征在于，

所述多层衬垫层分别由玻璃材料构成，

所述最表层的衬垫层的表面粗糙度Ra为30～100nm，

所述最表层的衬垫层的硬度用维氏硬度表示为500以上且700以下，

所述多层衬垫层的热导率为0.8～1W/m·K。

13.一种光学膜的制造方法，其为使用根据权利要求7-12中任一项所述的支承体来制造光学膜的光学膜的制造方法，其特征在于，

所述制造方法包括：

将胶浆在所述支承体上流延而形成流延膜的工序，所述胶浆包含构成所述光学膜的树脂、和溶剂；

将所述流延膜从所述支承体剥离的工序；

和使剥离的所述流延膜干燥而得到所述光学膜的工序。