CN1100104C - 纳米级抛光液及其制备方法 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 11
- 239000002113 nanodiamond Substances 0.000 claims description 11
- -1 polyoxyethylene nonylphenol Polymers 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 8
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 claims description 8
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims description 4
- RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 5-nonyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-ol Chemical compound C(CCCCCCCC)C1=C2C(=C(C=C1)O)O2 RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 2
- RKISUIUJZGSLEV-UHFFFAOYSA-N n-[2-(octadecanoylamino)ethyl]octadecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCCNC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC RKISUIUJZGSLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 2
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 abstract 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 abstract 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 2
- 230000003245 working effect Effects 0.000 description 2
- ANBZTKMYPDMODS-YPKPFQOOSA-N (z)-n,n-diethyloctadec-9-enamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)N(CC)CC ANBZTKMYPDMODS-YPKPFQOOSA-N 0.000 description 1
- LPLLVINFLBSFRP-UHFFFAOYSA-N 2-methylamino-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CNC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 LPLLVINFLBSFRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- 241000132539 Cosmos Species 0.000 description 1
- 235000005956 Cosmos caudatus Nutrition 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003209 petroleum derivative Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
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Abstract
本发明属于研磨料技术领域，涉及纳米级抛光液及其制备方法，由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成，其制备方法为将纳米金刚石机械研磨成粉体，烘干；加入分散稳定剂，加热混合使粉体润湿；加入白油或石脑油并加热，抗静电剂，净洗剂，以及适量pH值调节剂，并不断搅拌，将混合物分散成悬浮液。本发明将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级，以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。
Description
技术领域
本发明属于研磨料技术领域，特别涉及纳米级抛光液的研制。
背景技术
目前，计算机磁头抛光液大都使用颗粒尺寸在微米量级的固体粉作为磨料，将它们分散于石油蒸馏物中可用作磁头抛光液。国际上产品主要由美国Engis公司和日本Cosmos公司等厂家供应。但是，经这种抛光液抛光的计算机磁头表面在高倍显微镜下存在明显的划痕和镶嵌的颗粒，抛光后的表面粗糙度Ra为0.45-0.80nm。这种磁头表面镀类金刚石膜(DLC)后，抗腐蚀性能和力学性能差，严重影响了产品的使用寿命，很难提高产品的质量和档次。特别是随计算机硬磁盘密度的迅速提高，磁盘/磁头间隙已趋近于15纳米以下，磁头和磁盘的表面粗糙度、划痕、杂质颗粒等会对计算机磁盘造成致命危害。于是，现有的抛光液的性能已不适应于计算机磁盘的发展，并常影响工厂的正常生产。
发明内容
本发明的目的是为克服已有技术的不足之处，提出了一种新型的纳米抛光液及其制备方法，可将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级，以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。
本发明提出的一种纳米抛光液，其特征在于，由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成，各成分的重量配比(wt.)为：
纳米级金刚石粉为0.05-2.0％；
非离子型分散稳定剂为0.05-6.0％；
抗静电剂0.05-5.0％；
净洗剂0.05-5.0％；
白油为：82-99.8％。
所说的纳米级金刚石粉颗粒直径可为3-18nm。
所说的非离子型分散稳定剂可为脂肪醇聚氧乙烯醚，如壬基酚聚氧乙烯醚，聚氧乙烯十二醇醚-4；
所说的抗静电剂可为N，N-乙撑双硬脂酰胺或壬基酚聚氧乙烯醚；
所说的净洗剂可为脂肪酸醇酰胺，如椰子油酸二乙醇酰胺，油酸二乙醇酰胺。
本发明所说的纳米抛光液的制备工艺包括以下步骤：
(1)将纳米金刚石机械研磨成粉体，在105-110℃温度下烘干；
(2)加入非离子型表面活性剂作为分散稳定剂，加热混合使粉体润湿；
(3)加入白油或石脑油，加热白油或石脑油，保温搅拌数小时；
(4)加入抗静电剂，净洗剂，以及适量PH值调节剂，使抛光液的最终产品的PH值为6.5-8.5，再在超声条件下搅拌就将混合物分散成悬浮液，这种悬浮液即为纳米抛光液。
本发明的纳米抛光液用于现场磁头抛光，抛光后的磁头表面用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)检测，表面粗糙度仅为0.1-0.30nm，远小于使用原抛光液抛光磁头后的表面粗糙度(0.45-0.80nm)，抛光表面常见的划痕和镶嵌的颗粒消失，磁头表面质量明显提高，有利于磁头表面镀DLC膜，因此提高了计算机磁头的使用寿命，提高了产品的质量。本发明制备的纳米金刚石悬浮液是一种性能优良的磁头抛光材料。
用本发明的工艺同样可以制备其他纳米材料的抛光液，同时本发明的抛光液也可用于如硅片和石英的精抛光等其他抛光场合。
具体实施方式
实施例一：烘干纳米金刚石粉1克，非离子表面活性剂聚氧乙烯基醚1克，加热混合使粉体润湿，加入白油96.8克，加热白油至近沸，保温搅拌1小时，再依次加入0.2克聚氧乙烯辛基酚醚-10，1克聚氧乙烯壬基酚醚-9，PH值调节剂适量，使最终产品的PH值为6.5-8.5，加入的添加剂量使最终产物的阴离子Cl-和SO4 2-均小于1000ppb。最后超声分散混合物至均匀悬浮液即为纳米抛光液。用该抛光液研磨出来的计算机磁头的表面粗糙度Ra达到了0.2nm。
实施例二：烘干纳米金刚石粉1克，1克壬基苯酚聚氧乙烯基醚-10，加热使粉体润湿，然后加入石脑油98.0克，加热石脑油至近沸，保温搅拌1小时，再加入PH值调节剂适量，使混合物的PH值呈中性，最后超声分散得到悬浮液，即制得了纳米抛光液。用该抛光液研磨出来的Al2O3试样表面粗糙度Ra达到了0.1nm。
Claims (6)
1、一种纳米抛光液，其特征在于，由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成，各成分的重量配比(wt.)为：
纳米级金刚石粉为0.05-2.0％；
非离子型分散稳定剂为0.05-6.0％；
抗静电剂0.05-5.0％；
净洗剂0.05-5.0％；
白油为：82-99.8％。
2、如权利要求1所述的纳米抛光液，其特征在于，所说的纳米级金刚石粉颗粒直径为3-18nm。
3、如权利要求1所述的纳米抛光液，其特征在于，所说的非离子型分散稳定剂为脂肪醇聚氧乙烯醚。
4、如权利要求1所述的纳米抛光液，其特征在于，所说的抗静电剂可为N，N-乙撑双硬脂酰胺或壬基酚聚氧乙烯醚。
5、如权利要求1所述的纳米抛光液，其特征在于，所说的净洗剂可为脂肪酸醇酰胺。
6、一种制备如权利要求1所述的纳米抛光液的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将纳米金刚石机械研磨成粉体，在105-110℃温度下烘干；
(2)加入非离子型表面活性剂作为分散稳定剂，加热混合使粉体润湿；
(3)加入白油或石脑油，加热白油或石脑油，保温搅拌数小时；
(4)加入抗静电剂，净洗剂，以及适量PH值调节剂，使抛光液的最终产品的PH值为6.5-8.5，再在超声条件下搅拌就将混合物分散成悬浮液，这种悬浮液即为纳米抛光液。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN00133674A CN1100104C (zh) | 2000-12-01 | 2000-12-01 | 纳米级抛光液及其制备方法 |
| PCT/CN2001/001576 WO2002044292A1 (fr) | 2000-12-01 | 2001-11-21 | Solution abrasive nanometrique et son procede de preparation |
| AU2002221498A AU2002221498A1 (en) | 2000-12-01 | 2001-11-21 | A nanometer polishing composition and the method for preparing it |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN00133674A CN1100104C (zh) | 2000-12-01 | 2000-12-01 | 纳米级抛光液及其制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1304968A CN1304968A (zh) | 2001-07-25 |
| CN1100104C true CN1100104C (zh) | 2003-01-29 |
Family
ID=4595892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN00133674A Expired - Fee Related CN1100104C (zh) | 2000-12-01 | 2000-12-01 | 纳米级抛光液及其制备方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN1100104C (zh) |
| AU (1) | AU2002221498A1 (zh) |
| WO (1) | WO2002044292A1 (zh) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100375770C (zh) * | 2005-01-17 | 2008-03-19 | 上海大学 | 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法 |
| CN101624511B (zh) * | 2009-08-14 | 2012-08-29 | 上海震旦办公设备有限公司 | 碎纸机刀片锋利研磨组合物、由其制造的研磨片、研磨包和相关制造工艺 |
| CN102174294B (zh) * | 2011-03-11 | 2013-10-23 | 金瑞新材料科技股份有限公司 | 硬盘磁头的抛光液及其制备方法 |
| CN102337082A (zh) * | 2011-07-11 | 2012-02-01 | 河南科技学院 | 水基6H-SiC单晶衬底化学机械抛光液及其制备方法 |
| CN102391789B (zh) * | 2011-08-19 | 2013-10-16 | 湖南皓志新材料股份有限公司 | 一种纳米金刚石抛光液的制备方法 |
| CN102513622B (zh) * | 2011-11-09 | 2014-03-12 | 扬州大学 | 一种难加工材料的微精加工方法 |
| CN103013345B (zh) * | 2012-12-21 | 2015-02-18 | 清华大学 | 油性金刚石研磨液及其制备方法 |
| CN103484026A (zh) * | 2013-09-30 | 2014-01-01 | 江苏中晶科技有限公司 | 高效陶瓷抛光液及其制备方法 |
| CN107663422B (zh) * | 2016-07-29 | 2020-08-11 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种陶瓷抛光研磨液 |
| CN107892878A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-04-10 | 阮传华 | 一种金刚石抛光液及其制备方法 |
| CN113265201A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-08-17 | 河南博锐新材料有限公司 | 一种金刚石悬浮研磨抛光液及其制备方法 |
| CN114921182A (zh) * | 2022-05-31 | 2022-08-19 | 重庆川仪自动化股份有限公司 | 宝石阀座密封槽用研磨抛光膏及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN86100517A (zh) * | 1986-03-05 | 1987-09-16 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 锗酸铋(bgo)单晶的表面抛光技术 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1063205C (zh) * | 1998-04-16 | 2001-03-14 | 华东理工大学 | 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法 |
| JPH11349925A (ja) * | 1998-06-05 | 1999-12-21 | Fujimi Inc | エッジポリッシング用組成物 |
| DE10024874A1 (de) * | 2000-05-16 | 2001-11-29 | Siemens Ag | Polierflüssigkeit und Verfahren zur Strukturierung von Metallen und Metalloxiden |
-
2000
- 2000-12-01 CN CN00133674A patent/CN1100104C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-11-21 WO PCT/CN2001/001576 patent/WO2002044292A1/zh not_active Application Discontinuation
- 2001-11-21 AU AU2002221498A patent/AU2002221498A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN86100517A (zh) * | 1986-03-05 | 1987-09-16 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 锗酸铋(bgo)单晶的表面抛光技术 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1304968A (zh) | 2001-07-25 |
| AU2002221498A1 (en) | 2002-06-11 |
| WO2002044292A1 (fr) | 2002-06-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20030129 Termination date: 20141201 |
|
| EXPY | Termination of patent right or utility model |