CN109964121A - 离子化方法和离子化装置、以及成像分析方法和成像分析装置 - Google Patents

离子化方法和离子化装置、以及成像分析方法和成像分析装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供使试样附着于具有导电性的探头(11)的顶端、对所述探头(11)施加离子化电压而对试样(21)赋予电荷从而使其离子化的离子化方法。在离子化方法中，实施使探头(11)的表面均质化的化学处理，使试样(21)附着于探头(11)的顶端，对探头(11)施加离子化电压而对试样(21)赋予电荷从而使其离子化。能够通过使探头(11)发生电晕放电等来进行使探头(11)的表面均质化的化学处理。

Description

离子化方法和离子化装置、以及成像分析方法和成像分析 装置
技术领域
本发明涉及在质谱分析装置、离子迁移率分析装置等离子分析装置中使用的试样的离子化方法和离子化装置、以及使用上述的离子化方法和离子化装置的成像分析方法和成像分析装置。特别是涉及一种在大气压气氛中使试样离子化的离子化装置。
背景技术
在生物体组织的分析中，有时通过在表面的多个测量点(测量对象区域)进行质谱分析来调查具有特定质谱的物质的分布。这样的方法被称作成像质谱分析。在专利文献1中提出了一种能够在成像质谱分析中获得nm等级的空间分辨率的、被称作探针电喷雾离子化(PESI:Probe Electrospray Ionization)法的离子化法。
在PESI法中，首先，在试样表面的测量对象区域的上方配置导电性的探头。然后，使探头向下移动而使其顶端与试样表面接触，使试样附着。接着，使探头向上移动到原来的位置，对探头施加几十V～几千V的电压(以下也将其称作“离子化电压”。)。由此，对附着于探头顶端的试样赋予电荷，通过库伦排斥而将其离子化。此外，在所述物质是固体的情况、是难以离子化的物质的情况下，在施加电压时向探头的顶端照射激光而对试样赋予能量，促进离子化。生成的离子通过在离子化部和维持为真空的质谱分析装置的后段部之间的分隔壁形成的开口被输送到该后段部，以用于质谱分析。通过在试样表面的多个测量点进行该操作，从而能够进行成像质谱分析。在PESI法中，通过使用顶端加工为nm尺寸的探头，从而能够以nm等级的空间分辨率进行成像质谱分析。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开2007/126141号
发明内容
发明要解决的问题
本发明人在利用PESI法反复使以恒定的浓度含有标准物质的标准试样离子化并进行了测量之后，得知在每次测量中质谱的峰值强度都产生偏差，质谱的再现性较差。若峰值强度过小，则会被噪声所覆盖，得不到原本应得到的质谱的峰值图案。在质谱分析中，将利用测量而获取的质谱的峰值图案与预先数据库化了的多个已知物质的质谱的峰值图案相对照，基于其一致度来鉴别物质、或者将出现预定的质量峰作为基准地过滤质谱，但若像上述那样得不到原本的峰值图案，则无法获得准确的分析结果。
如上所述在每次测量中质谱的峰值强度都产生偏差意味着生成的离子量产生偏差。也就是说，在以往的PESI法中存在试样的离子化效率不稳定这样的问题。
在此，举例说明了质谱分析装置，但在离子迁移率分析计等、其他的离子分析装置中也存在上述同样的问题。
本发明要解决的问题在于，在通过对具有导电性的探头施加电压而使在该探头的顶端附着的试样离子化的离子化方法、离子化装置中，使试样的离子化效率稳定化。
用于解决问题的方案
为了解决上述问题而完成的本发明是一种离子化方法，其通过对具有导电性的探头施加离子化电压而使在该探头的顶端附着的试样离子化，该离子化方法的特征在于，
实施使所述探头的表面均质化的化学处理，
使所述试样附着于所述探头的顶端，
对所述探头施加所述离子化电压而对所述试样赋予电荷从而使其离子化。
本发明人认为在以往的PESI法中离子化效率变得不稳定的原因在于，使试样附着于顶端之前的探头的表面的状态不是均质，附着于探头的试样的量产生偏差、或者阻碍了对试样施加电压。因此，在本发明中，在使试样附着于探头的顶端之前实施使该探头的表面均质化的化学处理。这里所说的“均质”意味着电均质、物理均质。若探头的表面是电均质，则使附着于该表面的试样离子化的电场变得均质。此外，若探头的表面是物理均质，则试样附着于该表面的附着量变得恒定。因而，与以往的方法相比，试样的离子化效率稳定化。而且，像在后述的实施例中说明的那样，通过利用本发明的离子化方法，从而能够获得再现性较高的测量数据。
能够利用各种各样的方法进行使所述探头的表面均质化的化学处理。例如在通过电晕放电、辉光放电等放电来进行所述化学处理时，能够利用在放电时生成的等离子体、活性氧将探头的表面清洗或者改性而使其均质。在通过放电来进行所述化学处理时，还能够将在探头的表面形成的绝缘膜破坏除去。
也能够通过紫外线照射来进行所述化学处理。在该情况下，能够利用因紫外线照射而生成的活性氧将探头的表面清洗·改性而使其均质。此外，通过施加高频电压、照射微波而生成等离子体，也能够将探头的表面清洗·改性而使其均质。
本发明的离子化方法不仅可以在PESI法，也可以在ESI法中利用。此外，本发明的离子化方法可以用作质谱分析装置、离子迁移率分析装置等离子分析装置的大气压离子化法。在质谱分析装置、离子迁移率分析装置中，在大气压气氛的离子化室和位于其后段且维持为真空的分析部之间设有分隔壁，通过设于该分隔壁的离子导入管、分离器将离子输送到分析部。由于离子导入管、分离器通常使用不锈钢(SUS)等金属制的材质，因此例如能够在该离子导入管或者分离器和所述探头之间发生电晕放电、辉光放电。
也可以是，在对所述探头施加电压而对所述试样赋予电荷时，向所述试样照射激光。由此，能够对难以离子化的试样赋予能量而促进离子化。在通过紫外线照射而进行所述化学处理的情况下，可以使用所述处理和离子化的促进所共用的光源。
为了实施所述离子化方法而使用的本发明的离子化装置的第1技术方案的特征在于，包括：
探头，其具有导电性；
电压施加部，其用于施加用于使所述探头发生放电的放电电压和用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化的离子化电压；
试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及
控制部，其用于控制所述电压施加部和所述试样导入部，在对所述探头施加了所述放电电压之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。
为了实施所述离子化方法而使用的本发明的离子化装置的第2技术方案的特征在于，包括：
探头，其具有导电性；
光源部，其用于向所述探头照射紫外光；
电压施加部，其用于施加离子化电压，该离子化电压用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化；
试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及
控制部，其用于控制所述光源部、所述电压施加部及所述试样导入部，在向所述探头照射了所述紫外光之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。
为了实施所述离子化方法而使用的本发明的离子化装置的第3技术方案的特征在于，包括：
探头，其具有导电性；
等离子体生成部，其用于使所述探头所处的空间生成等离子体；
电压施加部，其用于施加离子化电压，该离子化电压用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化；
试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及
控制部，其用于控制所述等离子体生成部、所述电压施加部及所述试样导入部，在使所述空间生成了所述等离子体之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。
所述等离子体生成部例如可以使用通过施加高频电压而生成等离子体的结构、通过照射微波而生成等离子体的结构。
此外，所述各技术方案的离子化装置也可以构成为，
所述试样导入部具备移动机构，该移动机构用于使所述探头与所述试样的相对位置移动到所述探头的顶端自试样分开的第1位置和该顶端附着于试样的第2位置，
所述控制部在所述第1位置对所述探头施加了所述放电电压之后，使其移动到所述第2位置而对所述探头施加所述离子化电压。
发明的效果
通过使用本发明的离子化方法、离子化装置，从而能够使试样的离子化效率稳定而获取再现性较高的测量数据。
附图说明
图1是本发明的离子化装置的一个实施例的主要部分结构图。
图2是本发明的离子化方法的一个实施例的流程图。
图3是表示实施例1(有电晕放电)和比较例1(无电晕放电)的所有离子的测量强度的时间变化的图。
图4是对在实施例1(有电晕放电)和比较例1(无电晕放电)中连续地获取的多个质谱进行比较的图。
图5是针对实施例1(有电晕放电)和比较例1(无电晕放电)表示将各次测量的m/z＝695的离子的测量强度作为基准时的其他离子的相对强度的图。
图6是针对实施例1(有电晕放电)和比较例1(无电晕放电)表示各次测量的各离子的测量强度与各离子的测量强度的平均值的偏差的图。
图7是根据所有离子的测量强度的时间变化说明电晕放电电压的大小与离子化效率之间的关系的图。
图8是说明电晕放电电压的大小与离子化效率之间的关系的另一个图。
图9是根据所有离子的测量强度的时间变化说明电晕放电电压的施加时间与离子化效率之间的关系的图。
图10是根据将各次测量的m/z＝695的离子的测量强度作为基准时的其他离子的相对强度说明电晕放电电压的施加时间与离子化效率之间的关系的图。
图11是根据各次测量的各离子的测量强度与各离子的测量强度的平均值的偏差说明电晕放电电压的施加时间与离子化效率之间的关系的图。
图12是根据所有离子的测量强度的时间变化说明电晕放电电压的施加时间与离子化效率之间的关系的另一个图。
图13是根据将各次测量的m/z＝695的离子的测量强度作为基准时的其他离子的相对强度说明电晕放电电压的施加时间与离子化效率之间的关系的另一个图。
图14是根据各次测量的各离子的测量强度与各离子的测量强度的平均值的偏差说明电晕放电电压的施加时间与离子化效率之间的关系的另一个图。
图15是根据所有离子的测量强度的时间变化说明电晕放电电压的极性与离子化效率之间的关系的图。
图16是根据将各次测量的m/z＝695的离子的测量强度作为基准时的其他离子的相对强度说明电晕放电电压的极性和离子化效率之间的关系的图。
图17是根据各次测量的各离子的测量强度与各离子的测量强度的平均值的偏差说明电晕放电电压的极性与离子化效率之间的关系的图。
图18是说明本发明的离子化装置的变形例的图。
图19是说明本发明的离子化装置的另一个变形例的图。
图20是说明本发明的离子化装置的又一个变形例的图。
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明的离子化方法和离子化装置的一个实施例。本实施例的离子化方法是PESI法，本实施例的离子化装置可用作质谱分析装置的离子源。配置有本实施例的离子化装置的离子化室为大致大气压，其在大气压气氛下使试样离子化。
图1表示本实施例的离子化装置的概略结构。本实施例的离子化装置包括顶端直径成形为几百nm的导电性的探头11、用于使探头11在铅垂方向上移动的探头移动机构12、以及用于对探头11施加电压的电源(电压施加部)13。还包括用来载置试样21的试样台22。还包括用于控制上述各部分的动作的控制部30。
接着，参照图2的流程图说明本发明的离子化方法的过程。
在使用者将试样21设定于试样台22并指示分析开始时，控制部30使探头移动机构12进行动作，使探头11移动到预定的高度(步骤S1)。此时的探头11的位置(相对于试样21而言的相对位置)成为初始位置。
在使探头11移动到初始位置时，控制部30持续从电源13对探头11施加预定大小的电压(在本实施例中是2.59keV)而发生电晕放电(步骤S2)。将此时施加的电压称作“放电电压”。放电电压的大小根据探头11的材质等而有所不同，其值利用预备实验等而预先求出，并存储在控制部30。利用这样在探头11产生的电晕放电使探头11的表面均质化。这里所说的“均质”意味着电均质、物理均质。
如后所述，可知在像本实施例这样使探头11发生电晕放电时，与以往相比，试样的离子化效率稳定化。一般认为其原因在于，利用电晕放电除去了在探头11的表面形成的绝缘膜，此外，利用因电晕放电而生成的活性氧对探头11的表面进行了清洗·改性，或者在利用因电晕放电而生成的等离子体清洗了的探头11的表面形成了均匀的薄膜，由此使探头11的表面均质化。在这样使探头11的表面均质化时，附着于该探头的试样的量变得恒定，而且在施加离子化电压时形成的电场变均质。另外，作为因本实施例的电晕放电而生成的活性氧，例如能够列举出羟基自由基、超氧阴离子自由基、氢过氧自由基(hydroperoxylradical)、过氧化氢、单线态氧、一氧化氮、二氧化氮以及臭氧，通过生成上述的物质中的至少一种物质，从而能够获得上述效果。
在使探头11发生电晕放电时，控制部30使探头移动机构12再次进行动作而使探头11向下移动，使其顶端与试样21的表面接触。由此，试样21附着于探头11的顶端(步骤S3)。
在使试样21附着于探头11的顶端时，控制部30使探头移动机构12进行动作而使探头11向上移动到原来的高度(步骤S4)。探头11的向下移动(步骤S3)和向上移动(步骤S4)既可以仅进行1次，也可以将上下移动重复多次或者使探头11上下振动。考虑试样21附着于探头11的容易性而适当地设定移动、振动的次数。
接着，控制部30从电源13对探头11施加与放电电压不同的预定大小的电压(在本实施例中是1.72keV)(步骤S5)。将此时施加的电压称作“离子化电压”。离子化电压的大小与试样的离子化容易性等特性相应地预先决定，并存储在控制部30。
在利用在步骤S5中施加的离子化电压对试样21赋予电荷时，通过库伦排斥从而使其离子化。生成的离子通过在离子化室与维持为真空的后段的质量分离部之间的分隔壁形成的离子导入管31以用于分析(步骤S6)。
在本实施例的离子化方法和装置中，如上所述，在使试样21附着于探头11之前施加放电电压进行电晕放电。认为由此能除去在探头11的表面形成的绝缘覆膜，而且利用因电晕放电而生成的活性氧、等离子体使探头11的表面均质化。其结果，对附着在探头11的顶端的试样21施加电压的效率提高，此外，能够稳定地生成离子。
说明像上述实施例那样在使试样21附着于探头11之前发生电晕放电所产生的效果和本发明人为了探索电晕放电的条件而进行的测量的结果。在以下的各测量中使用不锈钢制的探头，此外，作为标准试样使用聚丙二醇(三元醇型、PPGT)。PPGT载置在样本板上，并使探头11的顶端接触、附着于此处。
实施例1
在实施例1中，在对探头施加+2.59keV的电压(放电电压)300msec而发生了电晕放电之后，使探头向下移动而使恒定浓度的PPGT附着在其顶端，使探头向上移动而施加+1.72keV的电压(离子化电压)。对于这样生成的离子，按照10秒钟周期反复进行扫描质量电荷比(m/z)为10～2000的质量范围的scan测量。此外，作为比较例1，没有电晕放电地进行上述同样的测量。
图3是表示所有离子的测量强度的累加值的时间变化的图表(依次表示按照10秒钟周期执行的质谱分析中的所有离子的测量强度)，图3左(无电晕放电)是比较例1的结果，图3右(有电晕放电)是实施例1的结果。此外，图4是在按照10秒钟周期进行的各次的质谱分析中得到的质谱，图4上(无电晕放电)是比较例1，图4下(有电晕放电)是实施例1。在比较例1中，如图3左所示，在各测量中测量强度每次都变动较大程度，如图4上所示，质谱的峰值图案在各测量中也是每次都不同。相对于此，在实施例1中，如图3右所示，各次测量的测量强度都稳定，如图4下所示，质谱的峰值图案恒定，得到再现性较佳的质谱。
在质谱分析中，有时通过将获取的质谱的峰值图案与预先数据库化了的已知的化合物的质谱的峰值图案进行比较来鉴别、或者基于获取的质谱的峰值图案与预先准备好的峰值图案的一致度来过滤质谱。以往，在各测量中质谱的峰值图案每次都有偏差，在上述那样的分析中存在做错鉴别、过滤的可能性，但通过使用本实施例的方法和装置，从而能够进行准确的鉴别、过滤。
实施例2
在实施例2中，对于在电晕放电后使试样附着于探头而生成的离子，将反复扫描质量电荷比(m/z)为10～2000的质量范围两分钟而获取累加质谱的scan测量实施4次。然后，从各累加质谱中抽取多个不同的质量电荷比的离子(m/z＝347、463、637、695、753、927、1101、1333、1566、1798)的测量强度。也没有电晕放电地进行同样的测量(比较例2)，与实施例2的结果进行比较。
图5是将各scan测量中的质量电荷比为695的离子的强度作为基准(100)地标记各次的各质量电荷比的离子的相对强度而成的。在图5左(无电晕放电)的比较例2中，在4次测量中，相同的质量电荷比的离子成为不同的相对强度，相对于此，在图5右(有电晕放电)的实施例2中，在4次测量中，相同的质量电荷比的离子成为大致相同的相对强度(因而，按照各质量电荷比标记的4点重合)。图6是针对多个质量电荷比的离子分别标记4次测量强度的平均值与各次的测量强度之差而成的。可知，在图6左(无电晕放电)的比较例2中，各质量电荷比的离子的测量强度出现偏差，相对于此，在图6右(有电晕放电)的实施例2中，任一个质量电荷比的离子的测量强度均大致相同。
实施例3
在实施例3中，使上述实施例的放电电压的大小在从1.72keV到1.89keV的范围内每次变化0.03keV或0.04keV地进行与实施例1相同的测量，确认了为了发生电晕放电所需要的放电电压的大小。放电电压的施加时间均为3sec。
图7一并表示放电电压的大小、所有离子的测量强度的累加值的时间变化、质量电荷比为121.19的离子的测量强度、以及电晕放电的有无的判定结果。基于质量电荷比为121.19的离子是否大于100000计数来判定电晕放电的有无。根据图7所示的结果可知，在1.75keV的情况下未发生电晕放电，在1.79keV的情况下发生了电晕放电。
图8表示将施加在图7中成为电晕放电的有无的边界电压的1.79keV附近的电压(1.75keV、1.79keV、1.82keV)的测量各进行5次而得到的结果。如图8所示，可知在1.75keV的情况下，5次中发生了两次电晕放电，在1.79keV的情况下，5次中发生了1次电晕放电，在1.82keV的情况下，也是5次中发生了1次电晕放电。根据图7和图8所示的结果，认为1.75keV～1.82keV是能够发生电晕放电的放电电压的边界，但考虑到根据探头的个体差异等而影响电晕放电的状况，可以说为了稳定地发生电晕放电，优选施加比该边界电压大的电压。根据这一点，在上述实施例中，将放电电压设为2.59keV。
实施例4
在实施例4中，验证了在将上述实施例的放电电压施加何种程度的时间时能够使试样的离子化效率上升和稳定化。图9表示将对探头施加放电电压的施加时间设为0msec(无放电电压施加)、30msec及3000msec地将与实施例1相同的测量各进行5次而得到的结果。
在放电电压的施加时间是0msec(相当于比较例1)的情况下，像在比较例1中说明的那样，离子的测量强度的偏差较大。在将施加时间设为30msec时，离子的测量强度稳定化一些。在将施加时间设为3000msec时，离子的测量强度变得大致恒定。
图10表示与图5同样地将质量电荷比为695的离子的强度作为基准(100)地标记各次的各质量电荷比的离子的相对强度而成的图。在施加时间0msec的情况下，在5次测量中，相同的质量电荷比的离子成为不同的相对强度，相对于此，在施加时间30msec和3000msec的情况下，5次测量中的各离子的相对强度变得大致相同。
图11是与图6同样地针对多个质量电荷比的离子分别标记5次测量强度的平均值与各次的测量强度之差而成的。可知，在施加时间0msec的情况下，各质量电荷比的离子的测量强度出现偏差，相对于此，在施加时间30msec和3000msec的情况下，任一个质量电荷比的离子的测量强度均大致相同。一并考虑图9～图11，可知在施加时间30msec的情况下，在各测量中，每次强度都有些许的变动，但质谱的峰值图案都相同，在将施加时间设为3000msec时，不仅是质谱的峰值图案，峰值强度也变得大致恒定。
为了确认在将施加时间设为30msec和3000msec之间的时间的情况下得到怎样的结果，在放电电压的施加时间100msec和300msec的情况下也进行上述同样的测量。图12～图14表示其结果。由于这些结果与上述的图9～图11相对应，因此省略图的详细的说明。根据上述的结果，能看到通过将施加时间设为30msec以上，而显现通过电晕放电而实现的离子化效率稳定化的效果，越延长施加时间则越稳定化。
实施例5
在实施例5中，利用-2.59keV、0keV、+2.59keV这3种值的放电电压将与实施例1(及比较例1)相同的测量进行各5次，进行确认电晕放电的效果是否根据放电电压的极性而有差异的测量。根据图15～图17所示的结果可知，与放电电压的极性无关，在电晕放电的作用下离子化效率都提高并稳定化。
上述实施例是一个例子，其能够遵照本发明的主旨适当地变更。
本发明人确认了在像上述实施例那样使探头11发生了电晕放电时同时生成发蓝光的等离子体的状况。这表示在电晕放电的同时发生了辉光放电。在实施例中确认的是在电晕放电的同时发生的辉光放电，但认为仅利用辉光放电也能获得与上述相同的效果。
此外，本发明基于“实施使探头的表面均质化的化学处理”这样的技术思想，利用除电晕放电、辉光放电之外的方法也能够进行这样的处理。例如可以采用这样的结构：如图18所示，具备光源114，通过在使试样附着于探头11之前向该探头11照射紫外光而产生活性氧，从而实施使探头11的表面均质化的化学处理。或者也可以采用这样的结构：如图19所示，具备等离子体生成部140，通过使探头11的附近生成等离子体150，从而实施使探头11的表面均质化的化学处理。作为等离子体生成部140，可以采用利用高频电压生成等离子体的结构、通过照射微波而生成等离子体的结构等以往已知的各种结构。
在上述实施例1～5中，对聚合物溶液进行了质谱分析，但此外例如也可以构成为，如图20所示，使利用液相色谱仪40的色谱柱分离了之后的溶出液41等液体试样附着于探头顶端从而使其离子化，经由在与后段的质量分离部之间设置的分隔壁42形成的离子导入开口43而输送离子。
此外，在测量固体试样的情况、测量难以离子化的试样的情况下，也可以在离子化电压施加时向探头的顶端照射激光而对试样赋予能量，从而促进离子化。通过将本发明的电晕放电应用于该结构，从而在固体试样、难以离子化的试样的分析中也能够获得优异的再现性。例如，在图18所示的结构中，可以将为了实施使探头11的表面均质化的化学处理而使用的光源114也应用于试样21的离子化的促进。当然，也可以各自具备独立的光源。
并且，在图18和图19中，除了光源114或者等离子体生成部140之外，还追加了用于使试样台122在水平方向上移动的试样台移动机构123和用于向附着在探头111的顶端的试样照射激光的光源114。此外，相对于上述实施例的控制部30，对控制部130追加在试样121表面的多个测量点执行离子化和质谱分析的功能。通过使用上述的离子化装置在试样121表面的多个测量点分别执行上述的步骤S1～S6(并根据需要照射激光)，从而能够对生物体组织的切片等进行成像质谱分析。在PESI法中，能够通过使用顶端加工为nm尺寸的探头而以nm等级的空间分辨率进行成像质谱分析，通过在该结构中执行作为本发明的特征的电晕放电，从而能够实现比以往高精度的成像质谱分析。
并且，以对在上述的各例子中生成的离子进行质谱分析的情况为例进行了说明，但也可以构成为进行离子迁移率分析等其他的分析。
附图标记说明
11、111、探头；12、112、探头移动机构；13、113、电压施加部；21、试样；22、试样台；30、130、控制部；31、131、离子导入管；40、液相色谱仪；41、溶出液；42、分隔壁；43、离子导入开口；114、光源；123、试样台移动机构；140、等离子体生成部；150、等离子体。

Claims (19)

1.一种离子化方法，其通过对具有导电性的探头施加离子化电压而使在该探头的顶端附着的试样离子化，该离子化方法的特征在于，
实施使所述探头的表面均质化的化学处理，
使所述试样附着于所述探头的顶端，
对所述探头施加所述离子化电压而对所述试样赋予电荷从而使其离子化。
2.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
利用对所述探头施加放电电压而产生的电压来实施所述化学处理。
3.根据权利要求2所述的离子化方法，其特征在于，
在所述放电电压施加时对所述探头的顶端施加的电压的大小的绝对值为1.8keV以上。
4.根据权利要求2所述的离子化方法，其特征在于，
所述放电电压的施加时间为30msec以上。
5.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
通过向所述探头照射紫外光来实施所述化学处理。
6.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
通过向所述探头照射微波来实施所述化学处理。
7.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
通过施加高频电压而使所述探头所处的空间生成等离子体，从而实施所述化学处理。
8.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
通过使所述探头与所述试样的相对位置移动而使该试样附着于探头的顶端。
9.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
所述化学处理通过生成活性氧而使所述探头的表面均质化，该活性氧含有羟基自由基、超氧阴离子自由基、氢过氧自由基、过氧化氢、单线态氧、一氧化氮、二氧化氮以及臭氧中的至少1种物质。
10.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，
在对所述探头施加电压而对所述试样赋予电荷时，向所述试样照射激光。
11.一种成像分析方法，其特征在于，
利用权利要求1所述的离子化方法在所述试样的表面的多个点分别生成离子而进行分析。
12.根据权利要求11所述的成像分析方法，其特征在于，
所述分析是质谱分析。
13.一种离子化装置，其特征在于，
该离子化装置包括：
探头，其具有导电性；
电压施加部，其用于施加用于使所述探头发生放电的放电电压和用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化的离子化电压；
试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及
控制部，其用于控制所述电压施加部和所述试样导入部，在对所述探头施加了所述放电电压之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。
14.一种离子化装置，其特征在于，
该离子化装置包括：
探头，其具有导电性；
光源部，其用于向所述探头照射紫外光；
电压施加部，其用于施加离子化电压，该离子化电压用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化；
试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及
控制部，其用于控制所述光源部、所述电压施加部及所述试样导入部，在向所述探头照射了所述紫外光之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。
15.一种离子化装置，其特征在于，
该离子化装置包括：
探头，其具有导电性；
等离子体生成部，其用于使所述探头所处的空间生成等离子体；
电压施加部，其用于施加离子化电压，该离子化电压用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化；
试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及
控制部，其用于控制所述等离子体生成部、所述电压施加部及所述试样导入部，在使所述空间生成了所述等离子体之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。
16.根据权利要求13～15中任一项所述的离子化装置，其特征在于，
所述试样导入部具备移动机构，该移动机构用于使所述探头与所述试样的相对位置移动到所述探头的顶端自试样分开的第1位置和该顶端附着于试样的第2位置，
所述控制部在所述第1位置对所述探头施加所述放电电压而发生了电晕放电之后，使其移动到所述第2位置而对所述探头施加所述离子化电压。
17.根据权利要求16所述的离子化装置，其特征在于，
该离子化装置还具备激光源，该激光源用于向处于所述第1位置的所述探头的顶端照射激光，
所述控制部控制所述激光源，从而向在顶端附着有试样的探头照射激光。
18.一种成像分析装置，其特征在于，
该成像分析装置还包括：
权利要求13～15中任一项所述的离子化装置，其具备试样台和用于使载置于该试样台的试样与所述探头的相对位置移动的移动机构；以及
分析执行部，其用于在所述试样上的多个位置分别自该试样生成离子而进行分析。
19.根据权利要求18所述的成像分析装置，其特征在于，
所述分析是质谱分析。
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