CN109673116A - 一种防眩光盖板 - Google Patents
一种防眩光盖板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109673116A CN109673116A CN201811544244.0A CN201811544244A CN109673116A CN 109673116 A CN109673116 A CN 109673116A CN 201811544244 A CN201811544244 A CN 201811544244A CN 109673116 A CN109673116 A CN 109673116A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- cover board
- dazzle cover
- dazzle
- transparent bodies
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 179
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- -1 chromium-silicon-aluminium Chemical compound 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000010020 roller printing Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 1
- TZHYBRCGYCPGBQ-UHFFFAOYSA-N [B].[N] Chemical compound [B].[N] TZHYBRCGYCPGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N [N].[Si] Chemical compound [N].[Si] UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ti] Chemical compound [Si].[Ti] UGACIEPFGXRWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N azanylidynetungsten Chemical compound [W]#N IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 210000003739 neck Anatomy 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K5/00—Casings, cabinets or drawers for electric apparatus
- H05K5/02—Details
- H05K5/0217—Mechanical details of casings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/12—Stencil printing; Silk-screen printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/26—Printing on other surfaces than ordinary paper
- B41M1/30—Printing on other surfaces than ordinary paper on organic plastics, horn or similar materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/26—Printing on other surfaces than ordinary paper
- B41M1/34—Printing on other surfaces than ordinary paper on glass or ceramic surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/0041—Digital printing on surfaces other than ordinary paper
- B41M5/0047—Digital printing on surfaces other than ordinary paper by ink-jet printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/025—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein by transferring ink from the master sheet
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本申请公开了一种防眩光盖板。该防眩光盖板至少包括透明本体、漫反射层及第一减反射层，所述漫反射层设置在所述透明本体的第一表面上，所述第一减反射层设置在所述漫反射层远离所述透明本体的一侧的表面上。通过这种方式，能够提高的盖板透光性，实现其防眩光功能。
Description
技术领域
本申请涉及盖板加工技术领域，特别是涉及一种防眩光盖板。
背景技术
目前一般盖板玻璃多不具备防眩光功能或防眩光功能较差，此类盖板玻璃在较强光源的入射下会产生反射，致使用户在盖板玻璃上看见自己或所处环境的影像，严重影响用户的使用；强光的反射还会使用户产生炫目感。
为解决上述问题，目前有两种解决方式：
1)电化学镀膜膜法，使盖板玻璃含有一种胶黏体，施加小电荷，胶裁体就发暗，当光敏传感器感觉到眩目强光时，电荷就被激发，盖板玻璃就不眩光了。但在镀制过程中会产生污染。
2)在玻璃本体上设置保护膜与防护液等辅助产品，保护膜与防护液工作的基本机理在于：它有或能够形成一个具有亲水作用的表层，使雨水不能形成水滴，光线没有不规则反射，但这些辅助产品在使用条件上有不少限制，使用寿命也较短。
发明内容
本申请提供一种防眩光盖板，以提高的盖板透光性，实现其防眩光功能。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种防眩光盖板，该防眩光盖板至少包括透明本体、漫反射层及第一减反射层，漫反射层设置在透明本体的第一表面上，第一减反射层设置在漫反射层远离透明本体的一侧的表面上。
其中，防眩光盖板进一步包括设置在透明本体第二表面上的第二减反射层，其中，第一表面与第二表面相对设置。
其中，第一减反射层包括依次叠层设置的第一氧化钛层、氧化硅层和第二氧化钛层。
其中，第一氧化钛层厚度范围为10nm-50nm，氧化硅层的厚度范围为20nm-60nm，第二氧化钛层的厚度范围为10nm-50nm。
其中，第一氧化钛层、氧化硅层和第二氧化钛层的厚度之和设置成使防眩光盖板表面的莫氏硬度大于7.0。
其中，第一减反射层在可见光380-780nm范围内的平均反射率小于1％。
其中，防眩光盖板的反射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-1≦a≦≦1，-4≦b≦4。
其中，漫反射层为以离子源轰击方式形成于透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。
其中，防眩光盖板进一步包括颜色层，颜色层设置在第一减反射层远离透明本体的一侧的表面上。
其中，颜色层包括图案层或纹理层。
本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例防眩光盖板至少包括透明本体、漫反射层及第一减反射层，所述漫反射层设置在所述透明本体的第一表面上，所述第一减反射层设置在所述漫反射层远离所述透明本体的一侧的表面上。通过这种方式，本申请实施例通过第一减反射层能够提高透明本体的光透过率，能够实现防眩光盖板的防眩光功能，同时通过漫反射层将未透过的反射光进行漫反射，能进一步减少防眩光盖板的眩光。
附图说明
图1是本申请防眩光盖板第一实施例的结构示意图；
图2是图1实施例防眩光盖板中第一减反射层的结构示意图；
图3是本申请防眩光盖板第二实施例的结构示意图；
图4是图3实施例防眩光盖板的制造方法一实施例的流程示意图；
图5是图4实施例中步骤S401的具体流程示意图；
图6是本申请防眩光盖板第三实施例的结构示意图；
图7是图6实施例防眩光盖板的制造方法一实施例的流程示意图；
图8是本申请终端一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请首先提出一种盖板，如图1所示，本实施例防眩光盖板101至少包括透明本体102、漫反射层103及第一减反射层104，漫反射层103设置在透明本体102的第一表面上，第一减反射层104设置在漫反射层103远离透明本体102的一侧的表面上。
本实施例防眩光盖板101可以为终端的盖板，如手机的盖板等。在将防眩光盖板101安装于终端本体上时，防眩光盖板101的透明本体102背离终端本体设置，即防眩光盖板101在使用时以透明本体102的远离漫反射层103的另一侧表面为外表面。
在其它实施例中，防眩光盖板还可以用于家电、汽车等产品。
本实施例防眩光盖板101通过第一减反射层104能够提高透明本体102的光透过率，能够实现防眩光盖板101的防眩光功能，同时通过漫反射层103将未透过的反射光进行漫反射，能进一步减少防眩光盖板101的眩光。
进一步地，从第一减反射层104的物理特征考虑，第一减反射层104在可见光380-780nm范围内的平均反射率小于1％，该平均反射率可以为0.2％、0.5％及0.8％等；第一减反射层104的表面粗糙度范围可以为1nm-10nm，该表面粗糙度具体可以为1nm、2nm、4nm、6nm、8nm及10nm。
进一步地，从透明本体102的材料考虑，为实现上述效果，透明本体102可以包括高透过率的超白玻璃本体，或者包括其它玻璃本体、陶瓷本体、聚苯乙烯本体或聚甲基丙烯酸甲脂本体等高透过率的透明本体。
可选地，本实施例的漫反射层103为以离子源轰击方式形成于透明本体102一侧表面上的多孔纳米结构层。
光在具有不同折射率的介质中传输时会产生光反射。光在空气与透明本体102之间传输时会产生反射，本实施例通过将透明本体102的一表面设置多孔纳米结构(孔内为气体)，以形成漫反射层103，能够使入射至纳米孔的光不被反射，因此能够提高透明本体102对光的透过率。也就是说，多孔纳米结构能够使透明本体102的光平均折射率更靠近空气的光折射率。
为增加防眩光盖板101的硬度，本实施例的第一减反射层104可采用叠层结构，该叠层结构包括依次叠层设置在漫反射层103上的第一氧化钛层201、氧化硅层202和第二氧化钛层203，如图2所示。
进一步地，从第一氧化钛层201、氧化硅层202和第二氧化钛层203的膜层厚度考虑，第一氧化钛层厚度范围可以为10nm-50nm，该厚度具体为10nm、20nm、30nm、40nm及50nm；氧化硅层的厚度范围可以为20nm-60nm，该厚度具体为20nm、30nm、40nm、50nm及60nm；第二氧化钛层的厚度范围可以为10nm-50nm，该厚度具体为10nm、20nm、30nm、40nm及50nm。
进一步地，从第一氧化钛层201、氧化硅层202和第二氧化钛层203的物理特征考虑，第一氧化钛层201、氧化硅层202和第二氧化钛层203的厚度之和设置成使防眩光盖板101的表面的莫氏硬度大于7.0，该莫氏硬度具体可以为7.2、7.5、8.0及8.5等。
在一具体应用中，防眩光盖板101的反射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-1≦a≦≦1，-4≦b≦4。
为进一步提高防眩光盖板对光的透过率，本申请提出第二实施例的防眩光盖板，如图3所示，本实施例防眩光盖板301在上述防眩光盖板101的基础上进一步包括设置在透明本体302的第二表面上的第二减反射层303，其中，第一表面与第二表面相对设置。
本实施例通过在透明本体302的第二表面上第二减反射层303，能够将被第一减反射层304反射的光进行透射，因此，能够提高防眩光盖板301的光透过率。
其中，为了简化防眩光盖板301的制造工艺及节约成本，第二减反射层303与第一减反射层304的材料、尺寸均相同，且二者通过同一工艺形成。
本申请进一步提出一种防眩光盖板的制造方法，如图4所示，该制造方法可用于上述防眩光盖板301，具体地，本实施例的制造方法包括以下步骤：
S401：对透明本体302的表面进行清洗和烘干。
由于透明本体302表面的洁净度对镀膜工艺及离子源轰击工艺影响较大，因此需要采用清洗效果较好的方式对透明本体302的进行清洗，本实施例可以采用超声波清洗方式对透明本体302进行清洗及烘干。
在一具体应用中，可以通过如图5所述的方法实现步骤S401，本实施例具体以下步骤包括：
S501：在第一槽中加入清洗剂，并将其加热到第一预设温度，然后将透明本体302放入第一槽中，浸泡3分钟。
S502：在第二槽中加入清洗剂，并将其加热到第二预设温度，然后将透明本体302放入第二槽，并通过喷淋清洗方式对透明本体302清洗2分钟。
S503：在第三槽中加入纯水，并将透明本体302放入第三槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体302清洗2分钟。
S504：在第四槽中加入超声清洗剂，并将透明本体302放入第四槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体302清洗2分钟。
S505：在第五槽中及第六槽中加入纯水，并将透明本体302放入第五槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体302清洗5分钟，接着将透明本体302放入第六槽中，并通过超声清洗方式对透明本体302清洗5分钟。
S506：将透明本体302放入第七槽中进行脱水，并将脱水后的透明本体302依次放入第八槽中及第九槽中热烘脱水。
其中，第一槽至第四槽为普通清洗槽，第五槽及第六槽为超声槽，第七槽为慢提拉槽脱水槽，第八槽及第九槽为烘干槽。
上述清洗/烘干流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间可以根据透明本体302的材料及表面粗糙度等因素进行适应性修改；本实施例还可以通过检测器自动检测每次清洗后的透明板体302的表面清洁度，并根据该清洁度调整或者规划后续的清洗/烘干的流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间，以提高透明本体302进行清洗及烘干效率及效果。
S402：采用离子源轰击工艺对烘干后的透明本体302的第一表面进行处理，以在透明本体302的第一表面上形成漫反射层305。
具体地，将烘干后的透明本体302放置在镀膜机内，抽真空；在真空条件下，用阳极离子源轰击透明本体302的第一表面，持续2分钟，以在透明本体302的第一表面上形成漫反射层303。
其中，离子源工艺参数如表一所示：
表一
| 本底真空度 | 8.0×10—3Pa |
| 靶基距 | 10mm |
| 溅射功率 | 20KW |
| 工作压强 | 0.9Pa |
| 透明本体 | 玻璃 |
| 氩气流量 | 100Sccm |
| 氧气流量 | 0Sccm |
S403：在漫反射层305背离透明本体302的一侧表面镀制第一减反射层304及在透明本体302的第二表面镀制形成第二减反射层303。
具体地，首先通过钛靶工艺在漫反射层305背离透明本体102的一侧表面及透明本体302的第二表面溅射3分钟，以形成第一氧化钛层201；接着硅靶工艺在第一氧化钛层201背离漫反射层103的一侧表面及透明本体302的第二表面溅射2分钟，以形成氧化硅层202；最后通过钛靶工艺在氧化硅层202背离第一氧化钛层201的一侧表面及透明本体302的第二表面溅射3分钟，以形成第二氧化钛层203。
其中，钛靶工艺参数如表二所示：
表二：
| 本底真空度 | 8.0×10—3Pa |
| 靶基距 | 10mm |
| 溅射功率 | 60KW |
| 工作压强 | 0.9Pa |
| 透明本体 | 光学玻璃 |
| 氩气流量 | 400Sccm |
| 氧气流量 | 150Sccm |
钛靶工艺参数如表三所示：
表三：
| 本底真空度 | 8.0×10—3Pa |
| 靶基距 | 10mm |
| 溅射功率 | 60KW |
| 工作压强 | 0.9Pa |
| 透明本体 | 玻璃 |
| 氩气流量 | 350Sccm |
| 氧气流量 | 120Sccm |
本实施例的溅射镀制方法是在磁控连续镀膜机内，在真空的状态下，充入氩气气体，使氩气电离，在磁场的作用下轰击靶材表面，同时还充入了反应气体，靶材与反应气体发生碰撞并与靶表面发生反应，从反应气体与靶材的化合物沉积到漫反射层305背离透明本体302的一侧表面上及透明本体302的第二表面上。
为进一步丰富盖板的外观效果，本申请进一步提出第四实施例的盖板，如图6所示，本实施例盖板601与图1实施例盖板301的不同之处在于：本实施例盖板601进一步包括设置在第一减反射层602背离漫反射层603一侧的颜色层604。
本实施例的颜色层604为图案层604。图案层604可以通过丝网印刷工艺形成在第一减反射层602上。图案层604可以包括特定图案标识，如产品的Logo、产品所需的说明文字、产品图案及花纹等。
在一实施例中，还可以使用激光雕刻、化学蚀刻、油墨印刷等工艺在打底层上形成图案或Logo，在此不做限定。
在另一实施例中，颜色层为纹理层，该纹理层可以为磁性纹理层、UV转印纹理层、热转印纹理层中的至少一种，纹理层的具体图案可以根据实际需求灵活选择。
其中，形成磁性纹理层的方法可以为磁性喷涂，即在喷涂过程中，通过磁场控制磁性材料的分布，使其形成所需的纹理图案。
形成UV转印纹理层的方法可以为利用UV转印及压印加工，即在将设计好的纹理图形用激光光绘机输出成光绘菲林或玻璃菲林，在第一减反射层涂布一离型层，并在离型层涂布UV胶，并把涂布好UV胶的第一减反射层与光绘菲林或玻璃菲林紧密贴合，进行曝光成像，进而在第一减反射层上就形成纹理图案层。
形成热转印纹理层的方法可以为将PVC热转印膜贴在第一减反射层上，以预设温度烘烤预设时间，之后剥离PVC薄膜，即得到热转印纹理。
通过这种方式，能够在上述实施例效果的基础上进一步使盖板呈现特定图案或者纹理图案等。
在一实施例中，颜色层还可以为渐变色层。具体地，渐变色层包括多层油墨层，其中，可以通过如图7所示的方法在第一减反射层的上形成多层油墨层，本实施例的方法包括：
S701：获取渐变色层的配色方案。
具体的，可以通过计算机模拟程序设计渐变色层的配色方案，该配色方案可以包括第一油墨层、第二油墨层的厚度、覆盖面积以及颜色方案。
S702：根据配色方案制备至少一个遮蔽挡板。
具体的，根据配色方案设计得到遮蔽挡板，遮蔽挡板用于覆盖未设置有第一油墨层和第二油墨层的区域。
S703：在塑料膜层上放置遮蔽挡板。
其中，遮蔽挡板用于遮蔽第一区域，第一区域为第一减反射层的第一表面上未设置有第一油墨层的区域。
S704：在第一减反射层上设置第一油墨层。
具体的，第一油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在第一减反射层的第一表面上。
S705：至少在第一油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。
其中，遮蔽挡板用于遮蔽第二区域，第二区域为第一油墨层上未设置有第二油墨层的区域。
S706：至少在第一油墨层的局部表面上设置第二油墨层。
具体的，第二油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在第一油墨层上。
进一步地，至少在第二油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。其中，遮蔽挡板用于覆盖第三区域，第三区域为第二油墨层上未设置有第n油墨层(n为大于2的整数)的区域。第n油墨层可以通过光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀、RF溅蚀或磁控溅射等工艺沉积在第二油墨层上。
通过本实施例中采用的遮蔽挡板方式，可以遮挡第一减反射层、第一油墨层、第二油墨层或者第n油墨层的不同部位，以实现颜色渐变梯度明显的显现效果。
进一步地，喷涂时第二油墨层的厚度可以由第一油墨层左侧边界处向右侧边界处逐渐变薄，以得到渐变效果。或者，等待第一油墨层干燥后，可以向第一油墨层局部表面喷涂至少一层第二油墨层。在其他实施例中，可以在第二油墨层干燥后，至少在第二油墨层的局部表面喷涂油墨，以形成第三油墨层。其中，第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的厚度相同，但覆盖的面积逐渐减小。例如，第一油墨层覆盖面积为第一减反射层覆盖面积的100％，第二油墨层覆盖面积为第一减反射层覆盖面积的70％，第三油墨层为第一减反射层覆盖面积的30％。
第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的材料可以包括UV固化树脂、单体、光引发剂、砂粉和添加剂，其中，添加剂中可以包括颜料；UV固化树脂可以包括环氧丙烯酸树脂、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯和改性聚氨酯树脂；单体可以包括TPGDA和HDDA；光引发剂可以为TPO；颜料可以为晾干型树脂颜料。
在一实施例中，渐变色层可以包括多层介质层，每一层介质层可以由纳米结构色晶体与光油混合构成。其中，纳米结构色晶体可以由多层光学干涉薄膜粉碎得到，多层光学干涉薄膜可以为具有交替沉积有第一折射率光学介质层L1、L2和第二折射率光学介质层H1、H2、H3的结构，也就是说，多层光学干涉薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率光学介质层H1，第一折射率光学介质层L1，第二折射率光学介质层H3、第一折射率光学介质层L2以及第二折射率光学介质层H2。
在一实施例中，为提高盖板的硬度和耐磨损性能，可以进一步在透明本体第二表面设置设置透明加硬层。
透明加硬层的材料包括氮化物以及类金刚石碳中的至少一种或组合。该氮化物还可以是氮硼化物或氮碳化物。例如，氮化硅、氮化铝、氮化钛、氮化铬、氮化钽、氮化锆、氮化硅铝、氮化钛铝、氮化铬铝、氮化铬钛铝、氮化铬硅铝、氮化硅钛铝、氮化硼、氮硼化钛、氮硼化铬、氮硼化钛铝、氮硼化钛硅、氮硼化硅钛铝、氮碳化钛、氮碳化铬、氮碳化锆、氮碳化钨中的至少一种或组合。
进一步，还可以在透明本体第二表面设置防指纹层。其中，防指纹层以采用具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。
本申请进一步提出一种终端，如图8所示，图8是本申请终端一实施例的结构示意图。本实施例终端801包括防眩光盖板802，将防眩光盖板的透明本体背离终端本体803设置，即透明本体为终端801的最外侧。
本实施例防眩光盖板802可以是上述各实施例防眩光盖板，其结构及工作原理，这里不赘述。
本实施例终端801可以包括手机、平板电脑或可穿戴设备等。
本申请实施例防眩光盖板可以广泛的使用于光学仪器、电子、汽车工业等诸多领域。
区别于现有技术，本申请实施例防眩光盖板至少包括透明本体、漫反射层及第一减反射层，所述漫反射层设置在所述透明本体的第一表面上，所述第一减反射层设置在所述漫反射层远离所述透明本体的一侧的表面上。通过这种方式，本申请实施例通过第一减反射层能够提高透明本体的光透过率，能够实现防眩光盖板的防眩光功能，同时通过漫反射层将未透过的反射光进行漫反射，能进一步减少防眩光盖板的眩光。
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种防眩光盖板，其特征在于，所述防眩光盖板至少包括透明本体、漫反射层及第一减反射层，所述漫反射层设置在所述透明本体的第一表面上，所述第一减反射层设置在所述漫反射层远离所述透明本体的一侧的表面上。
2.根据权利要求1所述的防眩光盖板，其特征在于，所述防眩光盖板进一步包括设置在所述透明本体第二表面上的第二减反射层，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置。
3.根据权利要求1所述的防眩光盖板，其特征在于，所述第一减反射层包括依次叠层设置的第一氧化钛层、氧化硅层和第二氧化钛层。
4.根据权利要求3所述的防眩光盖板，其特征在于，所述第一氧化钛层厚度范围为10nm-50nm，所述氧化硅层的厚度范围为20nm-60nm，所述第二氧化钛层的厚度范围为10nm-50nm。
5.根据权利要求4所述的防眩光盖板，其特征在于，所述的第一氧化钛层、所述氧化硅层和所述第二氧化钛层的厚度之和设置成使所述防眩光盖板表面的莫氏硬度大于7.0。
6.根据权利要求1所述的防眩光盖板，其特征在于，所述第一减反射层在可见光380-780nm范围内的平均反射率小于1％。
7.根据权利要求1-6任一项所述的防眩光盖板，其特征在于，所述防眩光盖板的反射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-1≦a≦≦1，-4≦b≦4。
8.根据权利要求1所述的防眩光盖板，其特征在于，所述漫反射层为以离子源轰击方式形成于所述透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。
9.根据权利要求1所述的防眩光盖板，其特征在于，所述防眩光盖板进一步包括颜色层，所述颜色层设置在所述第一减反射层远离所述透明本体的一侧的表面上。
10.根据权利要求9所述的防眩光盖板，其特征在于，所述颜色层包括图案层或纹理层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811544244.0A CN109673116A (zh) | 2018-12-17 | 2018-12-17 | 一种防眩光盖板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811544244.0A CN109673116A (zh) | 2018-12-17 | 2018-12-17 | 一种防眩光盖板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109673116A true CN109673116A (zh) | 2019-04-23 |
Family
ID=66144877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811544244.0A Pending CN109673116A (zh) | 2018-12-17 | 2018-12-17 | 一种防眩光盖板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109673116A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113419647A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-09-21 | 江苏加拉泰克微电子有限公司 | 一种防眩光抗电磁干扰触控模组及其对应的制备方法 |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103921487A (zh) * | 2014-04-04 | 2014-07-16 | 武汉理工大学 | 一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN204203492U (zh) * | 2014-07-22 | 2015-03-11 | 广州市光机电技术研究院 | 一种防眩光反射镜 |
| CN105086627A (zh) * | 2014-05-21 | 2015-11-25 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 一种光变颜料及其制造方法 |
| CN105260056A (zh) * | 2015-09-30 | 2016-01-20 | 信利光电股份有限公司 | 触摸屏的制作方法、触摸屏及触摸装置 |
| CN106585165A (zh) * | 2016-12-06 | 2017-04-26 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 光学防伪元件、光学防伪产品及其制作方法 |
| CN207711549U (zh) * | 2017-12-11 | 2018-08-10 | 伯恩光学(惠州)有限公司 | 保护盖板 |
| CN207895093U (zh) * | 2017-11-24 | 2018-09-21 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种防蓝光防眩光镀膜树脂镜片 |
| CN108724858A (zh) * | 2018-08-17 | 2018-11-02 | Oppo广东移动通信有限公司 | 电子装置的外壳、电子装置及外壳的制造工艺 |
| CN108966548A (zh) * | 2018-07-05 | 2018-12-07 | Oppo广东移动通信有限公司 | 电子设备的壳体及其制作方法、电子设备 |
| CN108966552A (zh) * | 2018-07-27 | 2018-12-07 | Oppo（重庆）智能科技有限公司 | 壳体及其制备方法和电子设备 |
| CN210042485U (zh) * | 2018-12-17 | 2020-02-07 | 佛山市易晟达科技有限公司 | 一种防眩光盖板 |
-
2018
- 2018-12-17 CN CN201811544244.0A patent/CN109673116A/zh active Pending
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103921487A (zh) * | 2014-04-04 | 2014-07-16 | 武汉理工大学 | 一种防眩光与可见光减反射双功能镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN105086627A (zh) * | 2014-05-21 | 2015-11-25 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 一种光变颜料及其制造方法 |
| CN204203492U (zh) * | 2014-07-22 | 2015-03-11 | 广州市光机电技术研究院 | 一种防眩光反射镜 |
| CN105260056A (zh) * | 2015-09-30 | 2016-01-20 | 信利光电股份有限公司 | 触摸屏的制作方法、触摸屏及触摸装置 |
| CN106585165A (zh) * | 2016-12-06 | 2017-04-26 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 光学防伪元件、光学防伪产品及其制作方法 |
| CN207895093U (zh) * | 2017-11-24 | 2018-09-21 | 江苏康耐特光学有限公司 | 一种防蓝光防眩光镀膜树脂镜片 |
| CN207711549U (zh) * | 2017-12-11 | 2018-08-10 | 伯恩光学(惠州)有限公司 | 保护盖板 |
| CN108966548A (zh) * | 2018-07-05 | 2018-12-07 | Oppo广东移动通信有限公司 | 电子设备的壳体及其制作方法、电子设备 |
| CN108966552A (zh) * | 2018-07-27 | 2018-12-07 | Oppo（重庆）智能科技有限公司 | 壳体及其制备方法和电子设备 |
| CN108724858A (zh) * | 2018-08-17 | 2018-11-02 | Oppo广东移动通信有限公司 | 电子装置的外壳、电子装置及外壳的制造工艺 |
| CN210042485U (zh) * | 2018-12-17 | 2020-02-07 | 佛山市易晟达科技有限公司 | 一种防眩光盖板 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113419647A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-09-21 | 江苏加拉泰克微电子有限公司 | 一种防眩光抗电磁干扰触控模组及其对应的制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8999445B2 (en) | Glass or glass-ceramic composite material and method for producing same | |
| TWI714614B (zh) | 附防污層之玻璃板 | |
| CN102770219B (zh) | 具有减小的摩擦特性的装置 | |
| CN110989051B (zh) | 玻璃层叠体、显示器用前面板以及显示装置 | |
| KR101407681B1 (ko) | 투명 전극 부착 기판 및 그 제조 방법, 및 터치 패널 | |
| CN102165088A (zh) | 用于制造基片上的层***的方法及层*** | |
| WO2006132919A3 (en) | High and low refractive index and metallic surface relief coatings | |
| CN103582617A (zh) | 用于涂布易清洁涂层的基底元件 | |
| CN110712399A (zh) | 玻璃层叠体、显示器用前面板、显示装置和玻璃层叠体的制造方法 | |
| MY160173A (en) | Light transmittance optimizing coated glass article for solar cell and method for making | |
| CN109650746B (zh) | 一种盖板 | |
| CN109639860A (zh) | 一种盖板 | |
| CN103214186A (zh) | 一种玻璃基板及其制备方法 | |
| CN211591601U (zh) | 一种纹理玻璃盖板 | |
| CN103269991B (zh) | 涂覆玻璃的方法 | |
| CN109673116A (zh) | 一种防眩光盖板 | |
| US10413948B2 (en) | Glass, glass-ceramic and ceramic articles with lubricious anti-fingerprint coatings and methods of making the same | |
| CN109650740A (zh) | 一种盖板 | |
| WO2009019373A3 (fr) | Substrat de face avant d'ecran plasma, utilisation et procede de fabrication. | |
| CN210042485U (zh) | 一种防眩光盖板 | |
| CN109624589A (zh) | 一种具有光栅图案的盖板及其制造方法 | |
| CN109677176A (zh) | 一种贴膜盖板及其制造方法 | |
| WO2012013787A3 (fr) | Substrat verrier a coloration interferentielle pour panneau de parement | |
| CN101784692B (zh) | 通过干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法 | |
| CN109849439A (zh) | 一种盖板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20220330 Address after: No.85 Fenjiang Middle Road, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province 528099 Applicant after: FSPG HI-TECH Co.,Ltd. Address before: 528100 block 25 and 26, No. 1, Yongye Road, Yundonghai street, Sanshui District, Foshan City, Guangdong Province Applicant before: FOSHAN YISHENGDA TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| TA01 | Transfer of patent application right |