CN109605970A - 立体logo制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种立体LOGO制备方法,步骤包括:首先制作立体LOGO光学纹理的模具;然后将制备的立体LOGO光学纹理的模具覆盖到PET材料上,且二者之间涂刷一层UV胶,进行UV压印,从而将立体LOGO光学纹理的模具上的立体LOGO光学纹理图案复制到PET材料:然后在具有立体LOGO光学纹理图案的PET材料有图案的一面上、满版覆盖上镜面银,然后在PET材料覆盖上镜面银的一面上满版覆盖黑色油墨,在PET材料覆盖上黑色油墨的一面上覆盖双面胶进行激光烧制外形,获得具有立体LOGO光学纹理的产品。更加环保,没有废水、电镀工序,环境友好,且制作工艺简单,不易剥落、不会磨损,能始终保持logo的清晰度,且具有明显的立体效果,不同的观察角度获得的logo渲染效果多样。
Description
技术领域
本发明涉及光刻技术产品制备技术领域,具体是一种产品的立体LOGO制备方法。
背景技术
随着科技的发展和人们欣赏水平的提高,电子产业不断的发展壮大。产品logo对于产品推广和用户认可度方面都非常重要;传统的产品logo都是采用将一个一个构成logo的单个图案或者文字通过电镀的方式进行制作,该过程不环保,需要大量的水造成污染水体的排放,还要通过沉积、通电油墨等到出来,工序复杂。
此外,上述传统的这种方式获得的logo很容易发生磨损或者剥落,造成logo的缺失、磨损等,不利于产品的品牌推广;而且,上述这种工艺制备的logo,是一种类似于平面印刷的产品,没有立体效果,不吸引客户。
发明内容
本发明针对现有技术的上述不足,提供一种制备过程更加环保,没有废水、电镀工序,环境友好,且制作工艺简单,不易剥落、不会磨损,能始终保持logo的清晰度,且具有明显的立体效果,不同的观察角度获得的logo渲染效果多样的立体LOGO制备方法。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种立体LOGO制备方法,具体操作步骤包括:
(1)首先制作立体LOGO光学纹理的模具;
(2)然后将制备的立体LOGO光学纹理的模具覆盖到PET材料上,且二者之间涂刷一层UV胶,进行UV压印,从而将立体LOGO光学纹理的模具上的立体LOGO光学纹理图案复制到PET材料:
(3)然后在具有立体LOGO光学纹理图案的PET材料有图案的一面上、满版覆盖上镜面银(镜面油墨);
(4)然后在PET材料覆盖上镜面银的一面上满版覆盖黑色油墨;
(5)然后在PET材料覆盖上黑色油墨的一面上覆盖双面胶;
(6)然后将经过步骤(5)处理后的PET材料进行激光烧制外形;获得具有立体LOGO光学纹理的产品。
本发明上述的步骤还包括步骤(7)排废:即将多余的边角废料等去除。
本发明所述的制作立体LOGO光学纹理的模具,具体的可以为:
(1.1)提供一光学高分子PC复合板材;
(1.2)在所述光学高分子PC复合板材上涂抹第一密着层,通过自然流平方式使第一密着层平铺至整个光学高分子PC复合板材上;
(1.3)待所述第一密着层晾干后,在其上涂抹中性UV光刻胶,通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在第一密着层上;
(1.4)然后将涂抹中性UV光刻胶后的PC复合板材烘烤固化;
(1.5)电脑上设计好logo的纹理和高亮度,并导入至光刻直写掩膜机,然后根据导入的logo参数通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行光刻,再通过显影、坚膜获得具有立体logo的PC复合板,然后再将具有logo的PC复合板上的logo翻制到PET板材上制成立体LOGO光学纹理的模具。
优选的,步骤(1.4)所述的烘烤固化为:将涂抹处理后的所述光学高分子PC复合板材置于100-110℃中烘烤10-25min,进行固化,使各层之间紧密连接。
优选的,所述UV光刻胶由中性UV油、光刻胶和助剂按照4:5:1的比例混合而成。按照这个比例混合的UV光刻胶其性能最好。
优选的,所述显影采用的显影液包括氢氧化钠、助剂和活性水。
优选的,所述坚膜采用烘烤坚膜方式,烘烤温度为100-110℃,烘烤时间为15-30min。
优选的,上述步骤(1.5)具体的翻制过程为:提供一UV母模(PET板),所述母模为三层结构,包括上层中性UV光刻胶、下层PET板和将其两者粘接在一起的中间第二密着层;将所述(1.5)制备的具有立体logo的PC复合板放置于所述UV母模上,通过EVA紫外直射在具有立体logo的PC复合板上对UV母模上的中性UV光刻胶进行光刻,形成阴影区;取出UV母模,对UV母模进行显影、脱水,坚膜,获得立体LOGO光学纹理的模具。
与现有技术相比,本发明的优点在于:本发明通过光刻直接工艺制备出具有立体效果的立体LOGO模具,该过程工艺简单,易于操作,然后通过UV压印等将模具上的纹理复印到PET材料上,整个过程没有废水和电镀工序,环境友好,切制作工艺简单,不易剥落、不会磨损,能始终保持logo的清晰度,且具有明显的立体效果,不同的观察角度获得的logo印射效果多样的立体LOGO制备方法。
附图说明
图1本发明一个立体logo产品的结构示意图。
图2本发明另一个立体logo产品的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。
以附图1-2所示的产品为例,描述本发明立体LOGO制备方法,具体操作步骤如下:
(1)首先制作立体LOGO光学纹理的模具;
(2)然后将制备的立体LOGO光学纹理的模具覆盖到PET材料上,且二者之间涂刷一层UV胶,进行UV压印,从而将立体LOGO光学纹理的模具上的立体LOGO光学纹理图案复制到PET材料:
(3)然后在具有立体LOGO光学纹理图案的PET材料有图案的一面上、满版覆盖上镜面银;
(4)然后在PET材料覆盖上镜面银的一面上满版覆盖黑色油墨;
(5)然后在PET材料覆盖上黑色油墨的一面上覆盖双面胶;
(6)然后将经过步骤(5)处理后的PET材料进行激光烧制外形;获得具有立体LOGO光学纹理的产品。
本发明上述的步骤还包括(7)排废步骤:即将多余的边角料(如光刻胶、uv胶等)等去除。
本发明所述的制作立体LOGO光学纹理的模具,具体的可以为:
(1.1)提供一光学高分子PC复合板材;
(1.2)在所述光学高分子PC复合板材上涂抹第一密着层,通过自然流平方式使第一密着层平铺至整个光学高分子PC复合板材上;
(1.3)待所述第一密着层晾干后,在其上涂抹中性UV光刻胶,通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在第一密着层上;
(1.4)然后将涂抹中性UV光刻胶后的PC复合板材烘烤固化;
(1.5)电脑上设计好立体logo的纹理和高亮度,并将处理好的立体logo图文数据传递给光刻直写掩膜机,然后根据导入的立体logo参数通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行光刻,再通过显影、坚膜获得具有立体logo的PC复合板,然后再将具有立体logo的PC复合板上的logo翻制到PET板材上制成立体LOGO光学纹理的模具。
上述步骤(1.5)具体的翻制过程为:提供一UV母模(PET板),所述母模为三层结构,包括上层中性UV光刻胶、下层PET板和将其两者粘接在一起的中间第二密着层;将所述(1.5)制备的具有立体logo的PC复合板放置于所述UV母模上,通过EVA紫外直射在具有立体logo的PC复合板上对UV母模上的中性UV光刻胶进行光刻,形成阴影区;取出UV母模,对UV母模进行显影、脱水,坚膜,获得立体LOGO光学纹理的模具。
本发明上述步骤(1.4)所述的烘烤固化为:将涂抹处理后的所述光学高分子PC复合板材置于100-110℃中烘烤10-25min,进行固化,使各层之间紧密连接。
本发明所述的UV光刻胶由中性UV油(市售UV油)、光刻胶和助剂按照4:5:1的比例混合,按照这个比例混合的UV光刻胶其性能最好;其中的光刻胶可以为市售的光刻胶,助剂可以为硅烷偶联剂、抗氧剂、紫外吸收剂、消泡剂和流平剂中的一种或几种,本实施例为硅烷偶联剂和流平剂,均为市售常规产品,比例1:1。
一般光刻的过程是:先将光刻直写掩膜机的紫外光灯打开预热,待电源稳定,掩膜版放在印框上通过显微镜进行对位,然后再将PET/PC光刻材料涂胶的一面朝上放在光刻平台,进行定位。最后调节紫外光的照射时间和强度进行光刻。照射时间过短,光刻感光不足,其化学应不充分,显影时受光部分溶解不彻底,易留底膜;光刻时间过长不该曝光部分边缘也被微弱感光,刻蚀后图形边界模糊,细线条变开严重。通过合理控制光刻时间,本发明获得产品效果有保证。
本发明所述的显影采用的显影液包括氢氧化钠、助剂和活性水,本实施例可以是氢氧化钠:助剂(氨水or硅酸钠):活性水=2:5:93(重量比);显影时必须控制好时间和温度,一般温度范围请给出20-25度,时间10-10min温度和时间直接影响显影速度,若显影时间不足或温度低,则中性UV光刻胶(UV固体胶)的阴影区不能完溶解,留有一层感光胶,在刻蚀时,这层胶会起保护作用,使应该刻蚀的部分被保护下来。若显影时间过长或温度过高,显影时未被曝光的中性UV固体胶会从边缘向里钻溶,使图形边缘变差,再严重会使中性UV固体胶大片剥落。因此,本实施例对时间和温度都进行了理想化的控制,获得的产品比较理想。
本发明所述的坚膜采用烘烤坚膜方式,由于显影使中性UV固体胶发生软化、膨胀,影响胶膜的抗蚀能力,因此显影后必须用适当温度烘焙整个UV母模以去除水分,增强与底层PC板材4的粘着性,这个过程叫坚膜。坚膜的方式有两种,一种是用烘箱坚膜,另一种是用红外光坚膜。坚膜也需要着重控制温度和时间,这两个条件对坚膜质量的影响很大。本实施例的烘烤坚膜的温度为105-110℃,烘烤时间25-30min。
在本实施例中,光刻胶的涂胶效果控制好坏直接影响光刻质量,因此在操作时应将光刻胶按要求准备好,并控制好光刻胶的涂层厚度及均匀性、涂层表面状态等。本实施例采用中性UV光刻胶来进行涂抹。为了更好的将光刻胶涂抹在PET光刻材料上,再涂抹光刻胶之前,需要先涂抹一层密着层以提高各层的黏着性。密着层要求表面平整,同时耐高温。涂胶方法有浸涂、甩涂、辊涂等,其中辊涂的涂覆质量好于其他两种,它是通过胶辊将感光胶均匀地涂在PET光刻材料上。本申请上述各种方式均可,其中甩涂操作方式更加的便捷,可以优先考虑使用。本发明的密着层(第一和第二密着层)包含溶剂及密着促进剂的组合物制得,溶剂包括但不限于:丙二醇单甲醚、二丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯或其组合,优选为丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯或其组合。上述密着促进剂可为本领域普通技术人员所熟知的任何密着促进剂,包括但不限于:硅烷偶联剂;芳香环或杂环化合物;磷酸酯类化合物;多价金属盐或酯类,例如钛酸酯或锆酸酯;有机聚合物树脂,例如环氧树脂或聚酯树脂;或氯化聚烯烃等。溶剂及密着促进剂的配比为溶剂可以将促进剂完全溶解即可,密着层涂抹之后,需要进行加热,120℃-150℃的温度下进行软烤,历时约5分钟至约30分钟),使得密着促进剂与PET板产生化学键合并由此去除溶剂,溶剂能完全溶解促进剂即可满足使用要求。
从附图1-2可以看出,本发明制备的立体logo产品,具有立体logo的一面位于产品表层下方,整个过程没有废水、电镀工序,环境友好,切制作工艺简单,不易剥落、不会磨损,能始终保持logo的清晰度,且具有明显的立体效果,不同的观察角度获得的logo印射效果多样。
本发明上述制备过程采用的材料,在本发明不做特殊限定的情况下,均为行业内常规使用的市售材料。
本发明的PET光刻材料即为透明的PET薄膜板材。
本发明的上述实施例是对本发明的说明而不能用于限制本发明,与本发明的权利要求相当的含义和范围内的任何改变,都应认为是包括在权利要求书的范围内。
Claims (8)
1.一种立体LOGO制备方法,其特征在于:具体操作步骤包括:
(1)首先制作立体LOGO光学纹理的模具;
(2)然后将制备的立体LOGO光学纹理的模具覆盖到PET材料上,且二者之间涂刷一层UV胶,进行UV压印,从而将立体LOGO光学纹理的模具上的立体LOGO光学纹理图案复制到PET材料:
(3)然后在具有立体LOGO光学纹理图案的PET材料有图案的一面上、满版覆盖上镜面银;
(4)然后在PET材料覆盖上镜面银的一面上满版覆盖黑色油墨;
(5)然后在PET材料覆盖上黑色油墨的一面上覆盖双面胶;
(6)然后将经过步骤(5)处理后的PET材料进行激光烧制外形;获得具有立体LOGO光学纹理的产品。
2.根据权利要求1所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:步骤还包括(7)排废步骤:即将多余的边角废料去除。
3.根据权利要求2所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:所述的制作立体LOGO光学纹理的模具,具体的可以为:
(1.1)提供一光学高分子PC复合板材;
(1.2)在所述光学高分子PC复合板材上涂抹第一密着层,通过自然流平方式使第一密着层平铺至整个光学高分子PC复合板材上;
(1.3)待所述第一密着层晾干后,在其上涂抹中性UV光刻胶,通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在第一密着层上;
(1.4)然后将涂抹中性UV光刻胶后的PC复合板材烘烤固化;
(1.5)电脑上设计好logo的纹理和高亮度,并导入至光刻直写掩膜机,然后根据导入的logo参数通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行光刻,再通过显影、坚膜获得具有立体logo的PC复合板,然后再将具有立体logo的PC复合板上的立体logo翻制到PET板材上制成立体LOGO光学纹理的模具。
4.根据权利要求3所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:步骤(1.4)所述的烘烤固化为:将涂抹处理后的所述光学高分子PC复合板材置于100-110℃中烘烤10-25min,进行烘烤固化。
5.根据权利要求3所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:所述UV光刻胶由中性UV油、光刻胶和助剂按照重量比为4:5:1的比例混合而成。
6.根据权利要求3所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:所述的显影采用的显影液包括氢氧化钠、助剂和活性水。
7.根据权利要求3所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:所述的坚膜采用烘烤坚膜方式,烘烤温度为100-110℃,烘烤时间为15-30min。
8.根据权利要求3所述的立体LOGO制备方法,其特征在于:步骤(1.5)具体的翻制过程为:提供一UV母模,所述母模为三层结构,包括上层中性UV光刻胶、下层PET板和将其两者粘接在一起的中间第二密着层;将具有立体logo的PC复合板放置于所述UV母模上,通过EVA紫外直射在具有立体logo的PC复合板上对UV母模上的中性UV光刻胶进行光刻,形成阴影区;取出UV母模,对UV母模进行显影、脱水,坚膜,获得立体LOGO光学纹理的模具。
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