CN109518133A - 一种电磁加热的pvd设备及其生产工艺 - Google Patents

一种电磁加热的pvd设备及其生产工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种电磁加热的PVD设备,涉及材料镀膜相关技术领域,包括壳体和输送装置,壳体的一侧中部开设有进料口,壳体的另一侧中部开设有出料口,输送装置包括密封框、第一固定块和第二固定块,固定杆的一端固定连接有限位块,固定杆的另一端贯穿第一固定块并固定连接有第一固定框。本发明还公开了一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,包括以下步骤:A:清洗、B:烘干、C:固定、D:抽真空、E:轰击、F:镀膜、G:冷却、H:取件、I:包装。本发明在输送装置内设置固定杆和压缩弹簧,使得第一固定框具有伸缩的性能,方便装夹不同厚度的待镀材料,相比电阻加热的传递式加热方式,避免了热量的浪费,节省了加热的时间。

Description

一种电磁加热的PVD设备及其生产工艺
技术领域
本发明涉及材料镀膜相关技术领域,特别涉及一种电磁加热的PVD设备及其生产工艺。
背景技术
PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,指利用物理过程实现物质转移,将靶材蒸发源的原子或分子转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。PVD基本方法为:在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
现有技术中,加热方式一般都是使用电热圈发热,通过传导的方式把热量传到料筒上,而这样只有内侧的热量传导到料筒上,外侧的热量大部分失散到空气中,存在热传导损失,并导致环境温度上升,另外电阻丝加热还有一个缺点就是功率密度低,有一些需要温度较高的场合就无法实现加热靶材,将靶材激发形成镀膜粒子。使用电热圈发热来加热靶材的方式效率低,所镀出来的膜厚也不均匀,镀膜表面粗糙。
在中国发明专利申请号:CN201210570478.9中公开有一种采用电磁加热的PVD设备,该电磁加热的PVD设备,虽然,采用电磁对靶材进行加热,其加热速度快、控温准确,提高了生产效率,但是,该电磁加热的PVD设备,不便加工厚度不同的工件,使用范围受限,不利于推广使用。
因此,提出一种电磁加热的PVD设备及其生产工艺来解决上述问题很有必要。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种电磁加热的PVD设备及其生产工艺,解决了现有的PVD设备生产效率低和装夹受限的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:
一种电磁加热的PVD设备,包括:
壳体,所述壳体的一侧中部开设有进料口,所述壳体的另一侧中部开设有出料口,所述壳体的两侧内壁均开设有限位槽,所述限位槽的下方开设有通孔,所述壳体的内部设有待镀材料,所述待镀材料的一端位于进料口处,所述待镀材料的另一端位于出料口处,所述壳体的两侧中部均设有运料框;
输送装置,所述输送装置包括密封框、第一固定块和第二固定块,所述第一固定块的内部开设有凹槽,所述凹槽内设有固定杆,所述固定杆的一端固定连接有限位块,所述固定杆的另一端贯穿第一固定块并固定连接有第一固定框,所述固定杆的中部外侧套接有压缩弹簧,压缩弹簧的一端与第一固定块固定连接,压缩弹簧的另一端与固定框固定连接;
所述第一固定框的中部设有第一转轴,所述第一转轴的外侧固定连接有第一转辊,所述第一转轴的一端与第一固定框活动连接,所述第一转轴的另一端依次贯穿第一固定框和通孔并固定连接有第一电机,所述固定框的两端均固定连接有限位柱,所述限位柱与限位槽贴合连接;
所述第二固定块的顶端固定连接有第二固定框,所述第二固定框的中部设有第二转轴,所述第二转轴的外侧固定连接有第二转辊,所述第二转轴的一端与第一固定框活动连接,所述第二转轴的另一端依次贯穿第一固定框和壳体并固定连接有第二电机;
加工装置,所述加工装置包括蒸发舟、支撑块和基架,所述蒸发舟固定连接在基架的顶端,所述蒸发舟的顶端开设有容纳槽,所述支撑块的两端均与壳体固定连接,所述支撑块的顶端两侧均开设有滑槽,所述支撑块的顶端中部固定连接有齿条,所述基架的内部设有传输齿轮和第三电机;
所述传输齿轮与基架活动连接,所述第三电机与基架固定连接,所述基架的底端两侧均固定连接有滑块,所述滑块与滑槽贴合连接,所述第三电机上固定连接有齿轮,传输齿轮的一端与第三电机上的齿轮啮合连接,传输齿轮的另一端与齿条啮合连接;
冷却装置,所述冷却装置包括安装块和冷却管,所述安装块与壳体固定连接,所述冷却管与安装块固定连接,所述冷却管的一端固定连接有进水管,所述冷却管的另一端固定连接有出水管,所述和进水管和出水管的均贯穿安装块并位于壳体的外侧,所述冷却装置有两个,两个冷却装置分别与壳体的两侧内壁固定连接。
可选的,所述壳体的一侧底端固定连接有输气管;
所述壳体的另一侧底端固定连接有抽气管;
所述蒸发舟的外侧固定连接有电磁加热丝。
可选的,所述第一固定块的两端均与壳体固定连接;
所述第二固定块的两端均与壳体固定连接;
所述第一固定块和第二固定块相对应。
可选的,所述第一电机和第二电机均位于密封框内,所述密封框与壳体固定连接;
所述第一电机通过滑轨与密封框活动连接,所述第二电机与密封框固定连接。
可选的,所述运料框有两个,两个运料框分别固定连接在进料口和出料口的外侧,所述运料框呈回字形;
所述运料框的一侧两端均固定连接有密封条,所述密封条与待镀材料贴合连接,所述密封条为橡胶材料。
可选的,所述输送装置有两个,两个输送装置分别位于进料口和出料口处;
所述第一转辊和第二转辊的外侧均固定连接有橡胶圈。
一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,包括以下步骤:
A:清洗:首先将待镀材料放进超声波清洗槽中进行脱脂清洗,清洗之后,再进行酸洗,然后再用漂洗液进行漂洗以彻底除去酸液;
B:烘干:清洗结束后,马上对待镀材料进行烘干,烘干温度控制为90~110℃,烘干时间为50~70min;
C:固定:将待镀材料固定在进料口和出料口之间,然后用密封条将其密封起来;
D:抽真空:首先将抽气管与抽气机接通,再打开抽气机开始粗抽,将大气抽至5pa,然后用油扩散泵进行细抽,将大气抽至6.4*10-3pa~6.8*10-3pa;
E:轰击:首先从输气管通入高纯度氩气,使真空度保持在2~4pa,然后开始轰击,轰击电压为800~1200V,轰击时间为8~12min;
F:镀膜:从输气管通入高纯度氮气,使真空度保持为2*10-1pa~10*10-1pa,然后再逐渐加入镀膜气体,打开加工装置,开启电弧电源和偏压电源,然后启动第三电机,第三电机带动支撑块左右移动,加工温度为180~220℃左右,加工时间为10~20min;
G:冷却:镀膜工序结束后,首先关闭电源,然后从进水管通入冷却液,冷却液经过冷却管吸热后由出水管排出;
H:取件:首先从输气管向壳体内充入空气,使气压恢复到正常大气压,然后打开装置,取出工件;
I:包装:对加工好的工件进行检验,对合格的产品将进行包装,然后运送到下一区域进行加工或出厂发往订货客户。
可选的,所述步骤A中漂洗液为去离子纯净水或蒸馏水。
可选的,所述步骤F中加工装置的电弧电流为50~60A,脉冲偏压为100~160V。
可选的,所述步骤F中镀膜气体为乙炔和氮气,所述步骤G中工件的冷却温度为80~120℃。
(三)有益效果
本发明提供了一种电磁加热的PVD设备及其生产工艺,具备以下有益效果:
(1)、本发明通过设置输送装置,能够便于待镀材料的加工,在输送装置内设置固定杆和压缩弹簧,使得第一固定框具有伸缩的性能,这样设置使第一转辊和第二转辊之间的距离能够变化,方便装夹不同厚度的待镀材料,通过设置限位槽和限位柱,为第一固定框提供了活动轨道,保证了装置的稳定性,通过设置冷却装置,使工件达到了快速降温的目的,提高了生产效率。
(2)、本发明通过采用电磁对靶材进行加热,一方面达到了加热速度快、控温准确的效果,提高了生产效率,另一方面形成的镀膜均匀平整,提升了加工质量,电磁加热相比电阻加热的传递式加热方式,既节省了加热的时间,又避免了传递过程造成了热量耗散造成的浪费。
(3)、本发明通过设置支撑块和基架,便于调节蒸发舟的位置,能够使蒸发舟对待镀材料进行全面的加工处理,提高了装置的加工性能,通过设置密封条,起到了密封的作用,便于调节壳体内部的气压,方便加工,通过设置滑轨,对第一电机起到了支撑作用,避免第一电机发生歪斜。
附图说明
图1为本发明的主视图;
图2为本发明的剖视图;
图3为本发明输送装置结构的剖视图;
图4为本发明第一固定框结构的剖视图;
图5为本发明加工装置结构的剖视图;
图6为本发明限位槽和通孔结构的示意图。
图中:1-壳体、11-进料口、12-出料口、13-限位槽、14-通孔、15-输气管、16-抽气管、17-待镀材料、2-输送装置、21-密封框、22-滑轨、3-加工装置、31-蒸发舟、32-容纳槽、33-支撑块、34-基架、35-齿条、36-传输齿轮、37-第三电机、38-滑槽、39-滑块、4-冷却装置、41-安装块、42-冷却管、43-进水管、44-出水管、45-第一固定块、51-凹槽、52-固定杆、53-限位块、54-压缩弹簧、55-第一固定框、56-第一转辊、57-第一转轴、58-第一电机、59-限位柱、6-第二固定块、61-第二固定框、62-第二转辊、63-第二转轴、64-第二电机、7-运料框、71-密封条。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是机械连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
根据如图1-6所示,本发明供了的一种技术方案:
一种电磁加热的PVD设备,包括:
壳体1,壳体1的一侧中部开设有进料口11,壳体1的另一侧中部开设有出料口12,壳体1的两侧内壁均开设有限位槽13,限位槽13的下方开设有通孔14,壳体1的内部设有待镀材料17,待镀材料17的一端位于进料口11处,待镀材料17的另一端位于出料口12处,壳体1的两侧中部均设有运料框7;
输送装置2,输送装置2包括密封框21、第一固定块5和第二固定块6,第一固定块5的内部开设有凹槽51,凹槽51内设有固定杆52,固定杆52的一端固定连接有限位块53,固定杆52的另一端贯穿第一固定块5并固定连接有第一固定框55,固定杆52的中部外侧套接有压缩弹簧54,压缩弹簧54的一端与第一固定块5固定连接,压缩弹簧54的另一端与固定框55固定连接;
第一固定框55的中部设有第一转轴57,第一转轴57的外侧固定连接有第一转辊56,第一转轴57的一端与第一固定框55活动连接,第一转轴57的另一端依次贯穿第一固定框55和通孔14并固定连接有第一电机58,固定框55的两端均固定连接有限位柱59,限位柱59与限位槽13贴合连接,通过设置限位槽13和限位柱59,为第一固定框55提供了活动轨道,保证了装置的稳定性;
第二固定块6的顶端固定连接有第二固定框61,第二固定框61的中部设有第二转轴63,第二转轴63的外侧固定连接有第二转辊62,第二转轴63的一端与第一固定框55活动连接,第二转轴63的另一端依次贯穿第一固定框55和壳体1并固定连接有第二电机64;
通过设置输送装置2,能够便于待镀材料17的加工,在输送装置2内设置固定杆52和压缩弹簧54,使得第一固定框55具有伸缩的性能,这样设置使第一转辊56和第二转辊62之间的距离能够变化,方便装夹不同厚度的待镀材料17;
加工装置3,加工装置3包括蒸发舟31、支撑块33和基架34,蒸发舟31固定连接在基架34的顶端,蒸发舟31的顶端开设有容纳槽32,支撑块33的两端均与壳体1固定连接,支撑块33的顶端两侧均开设有滑槽38,支撑块33的顶端中部固定连接有齿条35,基架34的内部设有传输齿轮36和第三电机37,通过设置支撑块33和基架34,便于调节蒸发舟31的位置,能够使蒸发舟31对待镀材料17进行全面的加工处理,提高了装置的加工性能;
传输齿轮36与基架34活动连接,第三电机37与基架34固定连接,基架34的底端两侧均固定连接有滑块39,滑块39与滑槽38贴合连接,第三电机37上固定连接有齿轮,传输齿轮36的一端与第三电机37上的齿轮啮合连接,传输齿轮36的另一端与齿条35啮合连接;
冷却装置4,冷却装置4包括安装块41和冷却管42,安装块41与壳体1固定连接,冷却管42与安装块41固定连接,冷却管42的一端固定连接有进水管43,冷却管42的另一端固定连接有出水管44,和进水管43和出水管44的均贯穿安装块41并位于壳体1的外侧,冷却装置4有两个,两个冷却装置4分别与壳体1的两侧内壁固定连接,通过设置冷却装置4,使工件达到了快速降温的目的,提高了生产效率。
作为本发明的一种可选技术方案:
壳体1的一侧底端固定连接有输气管15;
壳体1的另一侧底端固定连接有抽气管16;
蒸发舟31的外侧固定连接有电磁加热丝,通过采用电磁对靶材进行加热,一方面达到了加热速度快、控温准确的效果,提高了生产效率,另一方面形成的镀膜均匀平整,提升了加工质量。
作为本发明的一种可选技术方案:
第一固定块5的两端均与壳体1固定连接;
第二固定块6的两端均与壳体1固定连接;
第一固定块5和第二固定块6相对应。
作为本发明的一种可选技术方案:
第一电机58和第二电机64均位于密封框21内,密封框21与壳体1固定连接;
第一电机58通过滑轨22与密封框21活动连接,通过设置滑轨22,对第一电机58起到了支撑作用,避免第一电机58发生歪斜,第二电机64与密封框21固定连接。
作为本发明的一种可选技术方案:
运料框7有两个,两个运料框7分别固定连接在进料口11和出料口12的外侧,运料框7呈回字形;
运料框7的一侧两端均固定连接有密封条71,密封条71与待镀材料17贴合连接,密封条71为橡胶材料,通过设置密封条71,起到了密封的作用,便于调节壳体1内部的气压,方便加工。
作为本发明的一种可选技术方案:
输送装置2有两个,两个输送装置2分别位于进料口11和出料口12处;
第一转辊56和第二转辊62的外侧均固定连接有橡胶圈。
工作原理:在工作时,先对壳体1的内部进行清洗处理,然后将待镀材料17放在进料口11,启动第一电机58,第一电机58通过第一转轴57带动第一转辊56旋转,第一转辊56将待镀材料17的一端输送至出料口12,此时待镀材料17的一端位于出料口12处,待镀材料17的另一端位于进料口11处,用密封条71将其密封,将抽气管16与抽气机连接,启动抽气机将壳体1的内部抽为真空状态,然后从输气管15通入加工加工气体,开启加工,启动第三电机37,第三电机37通过传输齿轮36带动基架34左右移动,完成均匀镀膜,加工完成后,停止装置,然后从进水管43通入冷却液进行冷却处理,再启动第一电机58和第二电机64,将工件取出,其中,第一电机58通过滑轨22与密封框21活动连接,通过设置滑轨22,对第一电机58起到了支撑作用,避免第一电机58发生歪斜,蒸发舟31的外侧固定连接有电磁加热丝,通过采用电磁对靶材进行加热,一方面达到了加热速度快、控温准确的效果,提高了生产效率,另一方面形成的镀膜均匀平整,提升了加工质量。
实施例一:
一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,包括以下步骤:
A:清洗:首先将待镀材料17放进超声波清洗槽中进行脱脂清洗,清洗之后,再进行酸洗,然后再用漂洗液进行漂洗以彻底除去酸液;
B:烘干:清洗结束后,马上对待镀材料17进行烘干,烘干温度控制为90℃,烘干时间为50min;
C:固定:将待镀材料17固定在进料口11和出料口12之间,然后用密封条71将其密封起来;
D:抽真空:首先将抽气管16与抽气机接通,再打开抽气机开始粗抽,将大气抽至5pa,然后用油扩散泵进行细抽,将大气抽至6.4*10-3pa;
E:轰击:首先从输气管15通入高纯度氩气,使真空度保持在2pa,然后开始轰击,轰击电压为800V,轰击时间为8min;
F:镀膜:从输气管15通入高纯度氮气,使真空度保持为2*10-1pa,然后再逐渐加入镀膜气体,打开加工装置3,开启电弧电源和偏压电源,然后启动第三电机37,第三电机37带动支撑块33左右移动,加工温度为180℃左右,加工时间为10min;
G:冷却:镀膜工序结束后,首先关闭电源,然后从进水管43通入冷却液,冷却液经过冷却管42吸热后由出水管44排出;
H:取件:首先从输气管15向壳体1内充入空气,使气压恢复到正常大气压,然后打开装置,取出工件;
I:包装:对加工好的工件进行检验,对合格的产品将进行包装,然后运送到下一区域进行加工或出厂发往订货客户。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤A中漂洗液为去离子纯净水或蒸馏水。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤F中加工装置3的电弧电流为50A,脉冲偏压为100V。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤F中镀膜气体为乙炔和氮气,步骤G中工件的冷却温度为80℃。
实施例二:
一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,包括以下步骤:
A:清洗:首先将待镀材料17放进超声波清洗槽中进行脱脂清洗,清洗之后,再进行酸洗,然后再用漂洗液进行漂洗以彻底除去酸液;
B:烘干:清洗结束后,马上对待镀材料17进行烘干,烘干温度控制为100℃,烘干时间为60min;
C:固定:将待镀材料17固定在进料口11和出料口12之间,然后用密封条71将其密封起来;
D:抽真空:首先将抽气管16与抽气机接通,再打开抽气机开始粗抽,将大气抽至5pa,然后用油扩散泵进行细抽,将大气抽至6.6*10-3pa;
E:轰击:首先从输气管15通入高纯度氩气,使真空度保持在3pa,然后开始轰击,轰击电压为1000V,轰击时间为10min;
F:镀膜:从输气管15通入高纯度氮气,使真空度保持为5*10-1pa,然后再逐渐加入镀膜气体,打开加工装置3,开启电弧电源和偏压电源,然后启动第三电机37,第三电机37带动支撑块33左右移动,加工温度为200℃左右,加工时间为15min;
G:冷却:镀膜工序结束后,首先关闭电源,然后从进水管43通入冷却液,冷却液经过冷却管42吸热后由出水管44排出;
H:取件:首先从输气管15向壳体1内充入空气,使气压恢复到正常大气压,然后打开装置,取出工件;
I:包装:对加工好的工件进行检验,对合格的产品将进行包装,然后运送到下一区域进行加工或出厂发往订货客户。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤A中漂洗液为去离子纯净水或蒸馏水。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤F中加工装置3的电弧电流为55A,脉冲偏压为130V。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤F中镀膜气体为乙炔和氮气,工件的冷却温度为100℃。
实施例三:
一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,包括以下步骤:
A:清洗:首先将待镀材料17放进超声波清洗槽中进行脱脂清洗,清洗之后,再进行酸洗,然后再用漂洗液进行漂洗以彻底除去酸液;
B:烘干:清洗结束后,马上对待镀材料17进行烘干,烘干温度控制为110℃,烘干时间为70min;
C:固定:将待镀材料17固定在进料口11和出料口12之间,然后用密封条71将其密封起来;
D:抽真空:首先将抽气管16与抽气机接通,再打开抽气机开始粗抽,将大气抽至5pa,然后用油扩散泵进行细抽,将大气抽至6.8*10-3pa;
E:轰击:首先从输气管15通入高纯度氩气,使真空度保持在4pa,然后开始轰击,轰击电压为1200V,轰击时间为12min;
F:镀膜:从输气管15通入高纯度氮气,使真空度保持为10*10-1pa,然后再逐渐加入镀膜气体,打开加工装置3,开启电弧电源和偏压电源,然后启动第三电机37,第三电机37带动支撑块33左右移动,加工温度为220℃左右,加工时间为20min;
G:冷却:镀膜工序结束后,首先关闭电源,然后从进水管43通入冷却液,冷却液经过冷却管42吸热后由出水管44排出;
H:取件:首先从输气管15向壳体1内充入空气,使气压恢复到正常大气压,然后打开装置,取出工件;
I:包装:对加工好的工件进行检验,对合格的产品将进行包装,然后运送到下一区域进行加工或出厂发往订货客户。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤A中漂洗液为去离子纯净水或蒸馏水。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤F中加工装置3的电弧电流为60A,脉冲偏压为160V。
作为本发明的一种可选技术方案:
步骤F中镀膜气体为乙炔和氮气,步骤G中工件的冷却温度为120℃。
通过以上三组实施例均可以达到镀膜的目的,其中第2组实施例的加工效果最好,通过这样设计,相比电阻加热的传递式加热方式,既节省了加热的时间,又避免了传递过程造成了热量耗散造成的浪费,既提高了生产效率,又增加了加工质量。
需要说明的是,在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种电磁加热的PVD设备,其特征在于,包括:
壳体(1),所述壳体(1)的一侧中部开设有进料口(11),所述壳体(1)的另一侧中部开设有出料口(12),所述壳体(1)的两侧内壁均开设有限位槽(13),所述限位槽(13)的下方开设有通孔(14),所述壳体(1)的内部设有待镀材料(17),所述待镀材料(17)的一端位于进料口(11)处,所述待镀材料(17)的另一端位于出料口(12)处,所述壳体(1)的两侧中部均设有运料框(7);
输送装置(2),所述输送装置(2)包括密封框(21)、第一固定块(5)和第二固定块(6),所述第一固定块(5)的内部开设有凹槽(51),所述凹槽(51)内设有固定杆(52),所述固定杆(52)的一端固定连接有限位块(53),所述固定杆(52)的另一端贯穿第一固定块(5)并固定连接有第一固定框(55),所述固定杆(52)的中部外侧套接有压缩弹簧(54),压缩弹簧(54)的一端与第一固定块(5)固定连接,压缩弹簧(54)的另一端与固定框(55)固定连接;
所述第一固定框(55)的中部设有第一转轴(57),所述第一转轴(57)的外侧固定连接有第一转辊(56),所述第一转轴(57)的一端与第一固定框(55)活动连接,所述第一转轴(57)的另一端依次贯穿第一固定框(55)和通孔(14)并固定连接有第一电机(58),所述固定框(55)的两端均固定连接有限位柱(59),所述限位柱(59)与限位槽(13)贴合连接;
所述第二固定块(6)的顶端固定连接有第二固定框(61),所述第二固定框(61)的中部设有第二转轴(63),所述第二转轴(63)的外侧固定连接有第二转辊(62),所述第二转轴(63)的一端与第一固定框(55)活动连接,所述第二转轴(63)的另一端依次贯穿第一固定框(55)和壳体(1)并固定连接有第二电机(64);
加工装置(3),所述加工装置(3)包括蒸发舟(31)、支撑块(33)和基架(34),所述蒸发舟(31)固定连接在基架(34)的顶端,所述蒸发舟(31)的顶端开设有容纳槽(32),所述支撑块(33)的两端均与壳体(1)固定连接,所述支撑块(33)的顶端两侧均开设有滑槽(38),所述支撑块(33)的顶端中部固定连接有齿条(35),所述基架(34)的内部设有传输齿轮(36)和第三电机(37);
所述传输齿轮(36)与基架(34)活动连接,所述第三电机(37)与基架(34)固定连接,所述基架(34)的底端两侧均固定连接有滑块(39),所述滑块(39)与滑槽(38)贴合连接,所述第三电机(37)上固定连接有齿轮,传输齿轮(36)的一端与第三电机(37)上的齿轮啮合连接,传输齿轮(36)的另一端与齿条(35)啮合连接;
冷却装置(4),所述冷却装置(4)包括安装块(41)和冷却管(42),所述安装块(41)与壳体(1)固定连接,所述冷却管(42)与安装块(41)固定连接,所述冷却管(42)的一端固定连接有进水管(43),所述冷却管(42)的另一端固定连接有出水管(44),所述和进水管(43)和出水管(44)的均贯穿安装块(41)并位于壳体(1)的外侧,所述冷却装置(4)有两个,两个冷却装置(4)分别与壳体(1)的两侧内壁固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种电磁加热的PVD设备,其特征在于:
所述壳体(1)的一侧底端固定连接有输气管(15);
所述壳体(1)的另一侧底端固定连接有抽气管(16);
所述蒸发舟(31)的外侧固定连接有电磁加热丝。
3.根据权利要求1所述的一种电磁加热的PVD设备,其特征在于:
所述第一固定块(5)的两端均与壳体(1)固定连接;
所述第二固定块(6)的两端均与壳体(1)固定连接;
所述第一固定块(5)和第二固定块(6)相对应。
4.根据权利要求1所述的一种电磁加热的PVD设备,其特征在于:
所述第一电机(58)和第二电机(64)均位于密封框(21)内,所述密封框(21)与壳体(1)固定连接;
所述第一电机(58)通过滑轨(22)与密封框(21)活动连接,所述第二电机(64)与密封框(21)固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种电磁加热的PVD设备,其特征在于:
所述运料框(7)有两个,两个运料框(7)分别固定连接在进料口(11)和出料口(12)的外侧,所述运料框(7)呈回字形;
所述运料框(7)的一侧两端均固定连接有密封条(71),所述密封条(71)与待镀材料(17)贴合连接,所述密封条(71)为橡胶材料。
6.根据权利要求1所述的一种电磁加热的PVD设备,其特征在于:
所述输送装置(2)有两个,两个输送装置(2)分别位于进料口(11)和出料口(12)处;
所述第一转辊(56)和第二转辊(62)的外侧均固定连接有橡胶圈。
7.一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
A:清洗:首先将待镀材料(17)放进超声波清洗槽中进行脱脂清洗,清洗之后,再进行酸洗,然后再用漂洗液进行漂洗以彻底除去酸液;
B:烘干:清洗结束后,马上对待镀材料(17)进行烘干,烘干温度控制为90~110℃,烘干时间为50~70min;
C:固定:将待镀材料(17)固定在进料口(11)和出料口(12)之间,然后用密封条(71)将其密封起来;
D:抽真空:首先将抽气管(16)与抽气机接通,再打开抽气机开始粗抽,将大气抽至5pa,然后用油扩散泵进行细抽,将大气抽至6.4*10-3pa~6.8*10-3pa;
E:轰击:首先从输气管(15)通入高纯度氩气,使真空度保持在2~4pa,然后开始轰击,轰击电压为800~1200V,轰击时间为8~12min;
F:镀膜:从输气管(15)通入高纯度氮气,使真空度保持为2*10-1pa~10*10-1pa,然后再逐渐加入镀膜气体,打开加工装置(3),开启电弧电源和偏压电源,然后启动第三电机(37),第三电机(37)带动支撑块(33)左右移动,加工温度为180~220℃左右,加工时间为10~20min;
G:冷却:镀膜工序结束后,首先关闭电源,然后从进水管(43)通入冷却液,冷却液经过冷却管(42)吸热后由出水管(44)排出;
H:取件:首先从输气管(15)向壳体(1)内充入空气,使气压恢复到正常大气压,然后打开装置,取出工件;
I:包装:对加工好的工件进行检验,对合格的产品将进行包装,然后运送到下一区域进行加工或出厂发往订货客户。
8.根据权利要求7所述的一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,其特征在于,
所述步骤A中漂洗液为去离子纯净水或蒸馏水。
9.根据权利要求7所述的一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,其特征在于,
所述步骤F中加工装置(3)的电弧电流为50~60A,脉冲偏压为100~160V。
10.根据权利要求7所述的一种电磁加热的PVD设备的生产工艺,其特征在于,
所述步骤F中镀膜气体为乙炔和氮气,所述步骤G中工件的冷却温度为80~120℃。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1102693A (zh) * 1994-08-17 1995-05-17 王亚平 耐磨损高硬度活塞环及制作工艺
US20050064110A1 (en) * 2002-02-21 2005-03-24 Corus Technology Bv Method and device for coating a substrate
CN203128645U (zh) * 2012-12-25 2013-08-14 王奉瑾 采用电磁加热的pvd设备
CN105039923A (zh) * 2015-08-28 2015-11-11 安徽大地熊新材料股份有限公司 一种永磁材料表面高结合力镀铝膜工艺
CN108004511A (zh) * 2018-01-26 2018-05-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 加热装置和蒸镀机
JP2018529029A (ja) * 2015-07-31 2018-10-04 ヒルバーグ アンド パートナー ゲーエムベーハー 誘導気化器、気化器システムおよび帯状の基板をコーティングするための気化方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1102693A (zh) * 1994-08-17 1995-05-17 王亚平 耐磨损高硬度活塞环及制作工艺
US20050064110A1 (en) * 2002-02-21 2005-03-24 Corus Technology Bv Method and device for coating a substrate
CN203128645U (zh) * 2012-12-25 2013-08-14 王奉瑾 采用电磁加热的pvd设备
JP2018529029A (ja) * 2015-07-31 2018-10-04 ヒルバーグ アンド パートナー ゲーエムベーハー 誘導気化器、気化器システムおよび帯状の基板をコーティングするための気化方法
CN105039923A (zh) * 2015-08-28 2015-11-11 安徽大地熊新材料股份有限公司 一种永磁材料表面高结合力镀铝膜工艺
CN108004511A (zh) * 2018-01-26 2018-05-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 加热装置和蒸镀机

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