CN109387971B - 彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示领域。特别涉及一种彩膜基板、包括彩膜基板的显示装置及显示方法。所述彩膜基板包括:第一基板;位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。一方面,由于所述彩膜基板省去了现有技术中重复制备不同滤色层的步骤,简化了生产工艺,提高了效率,节约了开发成本。另外一方面,通过在电极上施加电信号可以使滤色单元透射不同波长的光,不同颜色滤色单元的位置可以根据电场强度灵活控制,还能实现RGB和RGBW两种模式共用。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域,特别涉及彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)主要由阵列基板和彩膜基板对盒形成。其中,彩膜基板是实现TFT-LCD彩色显示的关键。随着彩膜基板技术的发展,降低其生产成本和缩短制备时间成为行业发展不断追求价值的方向。
彩膜基板的主要结构包括基板、设置于基板上的黑矩阵、设置于基板上且被黑矩阵间隔开的多个彩色滤光单元、保护层、ITO导电膜、柱状隔垫物等。
彩膜基板的制备方法通常为:
第一步:在基板的一侧形成透明导电层;
第二步:在基板的另一侧形成黑矩阵(BM,Black Matrix);
第三步:在形成有黑矩阵的基板上形成彩色滤光单元;
第四步:在彩色滤光单元上形成平坦层;
第五步:在平坦层上形成柱状隔垫物(PS,Photo Spacer);
第六步:在柱状隔垫物上形成配向膜层(PI,Polyimide film)。
目前,彩色滤光单元分别由R/G/B三原色光的色层材料制成,需要经过多次涂布不同颜色的色层材料、曝光、显影及成型工艺。因此,现有的彩膜基板制备工艺比较复杂,生产效率不高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种彩膜基板、其制备方法、显示装置及显示方法,以简化彩膜基板的生产工艺,提高效率,节约开发成本,还可以实现RGB和RGBW两种模式共用。
本发明公开了一种彩膜基板,包括:
第一基板;
位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;
覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
优选地,所述滤色单元包括:
压电材料层和形成于所述压电材料层上的液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体,所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行。
优选地,所述液晶层由10~70wt%的液晶弹性体、4~86.99wt%的小分子液晶、3~25wt%的光可聚合单体和0.01~1wt%的光引发剂经聚合而成。
优选地,所述小分子液晶为SLC1717,DIC0773,Merck1284;
优选地,所述彩膜基板还包括:
黑矩阵图形,所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
优选地,所述黑矩阵图形位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面,所述黑矩阵表面设置有平坦层;或
所述黑矩阵图形与所述滤色单元位于所述第一基板的同一侧表面。
优选地,所述压电材料层由石英或铌酸锂制备得到。
优选地,所述彩膜基板还包括:
位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上的隔垫物,所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
本发明公开了一种彩膜基板的制备方法,包括以下步骤:
提供第一基板;
在所述第一基板上形成多个滤色单元;
在所述滤色单元相对的两侧形成电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;
形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
优选地,所述制备方法还包括形成黑矩阵图形,所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
优选地,所述滤光单元的制备方法为:
在所述第一基板上形成压电材料层;所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行;
在所述压电材料层上形成液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
优选地,所述液晶层的制备方法为:
将10~70wt%的液晶弹性体、4~86.99wt%的小分子液晶、3~25wt%的光可聚合单体和0.01~1wt%的光引发剂均匀混合,涂覆于所述压电材料层上,经过曝光、显影以及成型,形成液晶层。
优选地,所述制备方法还包括:
在所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上形成隔垫物,所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
本发明公开了一种显示装置,包括上述技术方案所述的彩膜基板。
本发明公开了一种显示装置的显示方法,应用上述技术方案所述的显示装置,所述显示方法包括:
确定每个滤色单元所能透射的光的波长;
控制施加在滤色单元两侧电极上的电信号,使所述滤色单元能够透射对应波长的光。
与现有技术相比,本发明的彩膜基板包括:第一基板;位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。一方面,由于所述彩膜基板仅需要在两基板间形成电极和统一的滤色单元,仅需一次完成涂布、曝光、显影及成型工艺即可形成滤色单元,省去了现有技术中重复制备不同滤色层的步骤,简化了生产工艺,提高了效率,节约了开发成本。另外一方面,通过在电极上施加电信号可以使滤色单元透射不同波长的光,不同颜色滤色单元的位置可以根据电场强度灵活控制,还能实现RGB和RGBW两种模式共用。
附图说明
图1表示液晶弹性体材料的形变与螺距变化曲线图;
图2表示彩膜基板实现彩色显示的示意图;
图3表示本发明一实施例制备的彩膜基板剖面结构示意图;
图4表示本发明另一实施例制备的彩膜基板剖面结构示意图;
图5表示本发明实施例制备的彩膜基板的俯视图;
图6表示本发明另一实施例制备的彩膜基板剖面结构示意图;
图7表示本发明另一实施例制备的彩膜基板剖面结构示意图;
附图中的标记为:
1、第一基板;2、压电材料层;3、液晶层;4、电极;5、黑矩阵图形;6、第二基板;7、封框胶;8、平坦层;9、隔垫物。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反,提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
本发明实施例公开了一种彩膜基板,包括:
第一基板;
位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;
覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
本发明通过在电极上施加电信号使滤色单元透射不同波长的光,从而实现彩色显示。由于不同颜色滤色单元的位置可以根据电场强度灵活控制,因此实现了RGB和RGBW两种模式共用。
在本发明的实施例中,所述滤色单元包括:压电材料层和形成于所述压电材料层上的液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
利用压电材料的机械形变,带动液晶弹性体发生形变,实现目标波长的管控,从而实现彩色显示。
所述压电材料层优选地由石英晶体或者铌酸锂制备得到。压电材料是受到压力作用时会在两端面出现电压的晶体材料。当在压电材料的极化方向上施加电场,其会发生形变,去掉电场后,其形变随之消失,这种现象称之为逆压电效应。本发明利用了压电材料层的逆压电效应,使用电场控制压电材料层的机械形变。所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行。所述压电材料层的厚度优选为
所述液晶层受到所述压电材料层形变的影响,能够发生形变,进而实现目标波长的管控。不同形变对应的波长分布不同,如图1所示,为液晶弹性体材料的形变与螺距变化曲线,可以根据布拉格反射定律(λ=Δn*P,其中λ为波长,Δn为材料的双折射,P为液晶的螺距)计算得到相对应的光的波长。
所述液晶层优选地由10~70wt%的液晶弹性体、4~86.99wt%的小分子液晶、3~25wt%的光可聚合单体和0.01~1wt%的光引发剂经聚合而成。液晶弹性体、小分子液晶和光可聚合单体经过光引发剂引发形成具有高分子网络结构的弹性体,能够进一步固定液晶弹性体的位置,使液晶层具备更佳的性能。
所述小分子液晶优选为SLC1717,DIC0773,Merck1284;
图2为彩膜基板实现彩色显示的示意图。该图由左至右依次为实现蓝色、绿色以及红色显示的示意图。根据控制电压不同,压电材料层发生的机械形变不同,带动液晶弹性体层在极化方向上发生的形变不同,从而实现了不同颜色的显示。
所述电极设置于每个滤色单元的相对两侧。所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行。分别施加正负相间隔的电压,形成水平电场,利用压电材料层的逆压电效应使液晶层反射掉部分波长的光并且透射过不同波长的光。所述电极优选为透明电极,更有选为ITO电极。
本发明实施例对于第一基板和第二基板的选择没有特殊限制,可以为玻璃基板等,第一基板和第二基板之间优选用封框胶进行封框。
优选地,在本发明实施例中,所述彩膜基板还包括:
黑矩阵图形,所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
优选地,所述黑矩阵图形位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面,所述黑矩阵表面设置有平坦层;或
所述黑矩阵图形与所述滤色单元位于所述第一基板的同一侧表面。
具体参见图3和图4所示。
图3中,彩膜基板包括:
第一基板1,
位于所述第一基板1上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极4;所述滤光单元包括:压电材料层2和位于所述压电材料层2上的液晶层3;
黑矩阵图形5与所述滤色单元位于所述第一基板1的同一侧表面,所述电极4在所述第一基板1上的正投影落入所述黑矩阵图形5在所述第一基板上1的正投影内;
覆盖所述滤色单元和电极4的第二基板6;
优选地,所述第一基板1和第二基板6通过封框胶7封框。
图4中,彩膜基板包括:
第一基板1,
位于所述第一基板1上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极4;所述滤光单元包括:压电材料层2和位于所述压电材料层2上的液晶层3;
黑矩阵图形5位于所述第一基板1未设置所述滤色单元的一侧表面,所述黑矩阵图形5表面设置有平坦层8;
所述电极4在所述第一基板1上的正投影落入所述黑矩阵图形5在所述第一基板上1的正投影内;
覆盖所述滤色单元和电极4的第二基板6;
优选地,所述第一基板1和第二基板6通过封框胶7封框。
图5为本发明实施例制备的彩膜基板的俯视图。
优选地,本发明实施例中的所述彩膜基板还包括:
位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上的隔垫物,所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。具体参见图6和图7。
图6中,所述隔垫物9与所述黑矩阵图形5设置于所述第一基板1的相对的两侧;
图7中,所述隔垫物9与所述黑矩阵图形5设置于所述第一基板1的同一侧;并且所述隔垫物9位于平坦层表面。
本发明实施例公开了一种彩膜基板的制作方法,包括以下步骤:
步骤S1:提供第一基板;
步骤S2:在所述第一基板上形成多个滤色单元;
所述滤光单元的制备方法优选为:
在所述第一基板上形成压电材料层;所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行;
在所述压电材料层上形成液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
所述液晶层的制备方法优选为:
将10~70wt%的液晶弹性体、4~86.99wt%的小分子液晶、3~25wt%的光可聚合单体和0.01~1wt%的光引发剂均匀混合,涂覆于所述压电材料层上,经过曝光、显影以及成型,形成液晶层。
所述小分子液晶优选为SLC1717,DIC0773,Merck1284;
步骤S3:在所述滤色单元相对的两侧形成电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;
调控电压可以根据液晶层中组分比例、组分种类、组分尺寸分布,曝光光强、温度等进行调控。
步骤S4:形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
进一步的,所述制备方法还包括形成黑矩阵图形,所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
所述黑矩阵位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面或者位于所述第一基板上设置所述滤色单元的同一侧表面。
具体的,本发明一实施例的彩膜基板的制备方法包括以下步骤:
步骤S1-1:提供第一基板。
步骤S1-2:在所述第一基板上形成多个滤色单元;
所述滤光单元的制备方法优选为:
在所述第一基板上形成压电材料层;所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行;
在所述压电材料层上形成液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
所述液晶层的制备方法优选为:
将10~70wt%液晶弹性体、4~86.99wt%小分子液晶、3~25wt%光可聚合单体和0.01~1wt%光引发剂均匀混合,涂覆于所述压电材料层上,经过曝光、显影以及成型,形成液晶层。
步骤S1-3:在所述滤色单元相对的两侧形成电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光。
步骤S1-4:形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
步骤S1-5:在所述第一基板未设置所述滤光单元的一侧表面形成黑矩阵图形;所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
步骤S1-6:在所述黑矩阵图形表面形成平坦层。
或者,本发明一实施例的彩膜基板的制备方法包括以下步骤:
步骤S2-1:提供第一基板。
步骤S2-2:在所述第一基板的一侧表面形成黑矩阵;所述黑矩阵图形限定出像素区域。
步骤S2-3:在所述第一基板上形成多个滤色单元;所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域;
所述滤光单元的制备方法优选为:
在所述第一基板上形成压电材料层;所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行;
在所述压电材料层上形成液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
所述液晶层的制备方法优选为:
将10~70wt%液晶弹性体、4~86.99wt%小分子液晶、3~25wt%光可聚合单体和0.01~1wt%光引发剂均匀混合,涂覆于所述压电材料层上,经过曝光、显影以及成型,形成液晶层。
步骤S2-4:在所述滤色单元相对的两侧形成电极,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内;
通过控制施加在所述电极上的电信号能够使所述滤色单元透射不同波长的光。
步骤S2-5:形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
或者,本发明一实施例的彩膜基板的制备方法包括以下步骤:
步骤S3-1:提供第一基板。
步骤S3-2:在所述第一基板上形成多个滤色单元;
所述滤光单元的制备方法优选为:
在所述第一基板上形成压电材料层;所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行;
在所述压电材料层上形成液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
所述液晶层的制备方法优选为:
将10~70wt%液晶弹性体、4~86.99wt%小分子液晶、3~25wt%光可聚合单体和0.01~1wt%光引发剂均匀混合,涂覆于所述压电材料层上,经过曝光、显影以及成型,形成液晶层。
步骤S3-3:在所述滤光单元位于所述第一基板的同一侧表面形成黑矩阵;所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域。
步骤S3-4:在所述滤色单元相对的两侧形成电极,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内;通过控制施加在所述电极上的电信号能够使所述滤色单元透射不同波长的光。
步骤S3-5:形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板。
进一步的,本发明制备彩膜基板的方法过程中,还包括制备隔垫物,其所述制备方法还包括:
在所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上形成隔垫物,所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
所述黑矩阵图形位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面时,在所述黑矩阵表面形成平坦层后,在所述平坦层表面形成隔垫物。
所述图形与所述滤色单元位于所述第一基板的同一侧表面时,在所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上形成隔垫物即可,所述隔垫物与所述第一基板直接相接。
在本发明实施例的制备方法中,由于所述彩膜基板仅需要在两基板间形成电极和统一的滤色单元,仅需一次完成涂布、曝光、显影及成型工艺即可形成滤色单元,省去了现有技术中重复制备不同滤色层的步骤,简化了生产工艺,提高了效率,节约了开发成本。
本发明实施例公开一种显示装置,包括上述技术方案所述的彩膜基板。
本发明实施例还公开了一种显示装置的显示方法,应用上述技术方案所述的显示装置,所述显示方法包括:
确定每个滤色单元所能透射的光的波长;
控制施加在滤色单元两侧电极上的电信号,使所述滤色单元能够透射对应波长的光。
通过控制电信号,形成水平电场,电场作用于压电材料层,产生逆压电效应使液晶层反射掉部分波长的光并且透射过不同波长的光,从而实现目标波长的管控。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (14)
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:
第一基板;
位于所述第一基板上的多个滤色单元和设置于每个滤色单元相对两侧的电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;
覆盖所述滤色单元和电极的第二基板;
所述滤色单元包括:
压电材料层和形成于所述压电材料层上的液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体,所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述液晶层由10~70wt%的液晶弹性体、4~86.99wt%的小分子液晶、3~25wt%的光可聚合单体和0.01~1wt%的光引发剂经聚合而成。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括:
黑矩阵图形,所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵图形位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面,所述黑矩阵表面设置有平坦层;
或者
所述黑矩阵图形与所述滤色单元位于所述第一基板的同一侧表面。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述压电材料层由石英或铌酸锂制备得到。
8.根据权利要求1~7任意一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括:
黑矩阵图形;
位于所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上的隔垫物,所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
9.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供第一基板;
在所述第一基板上形成多个滤色单元;
在所述滤色单元相对的两侧形成电极,所述电极形成的电场的方向与第一基板表面方向平行;所述滤色单元配置为根据施加在所述电极上的电信号透射不同波长的光;
形成覆盖所述滤色单元和电极的第二基板;
所述滤色单元的制备方法为:
在所述第一基板上形成压电材料层;所述压电材料层的极化方向与电极形成的电场的方向平行;
在所述压电材料层上形成液晶层;所述液晶层包括液晶弹性体。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括形成黑矩阵图形,所述滤色单元位于所述黑矩阵图形限定出的像素区域,所述电极在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
11.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述液晶层的制备方法为:
将10~70wt%的液晶弹性体、4~86.99wt%的小分子液晶、3~25wt%的光可聚合单体和0.01~1wt%的光引发剂均匀混合,涂覆于所述压电材料层上,经过曝光、显影以及成型,形成液晶层。
12.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:
形成黑矩阵图形;
在所述第一基板未设置所述滤色单元的一侧表面上形成隔垫物,所述隔垫物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩阵图形在所述第一基板上的正投影内。
13.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~8中任意一项所述的彩膜基板。
14.一种显示装置的显示方法,其特征在于,应用如权利要求13所述的显示装置,所述显示方法包括:
确定每个滤色单元所能透射的光的波长;
控制施加在滤色单元两侧电极上的电信号,使所述滤色单元能够透射对应波长的光。
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Legal Events
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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