CN109340251A - 轴承和蚀刻机台及蚀刻方法 - Google Patents

轴承和蚀刻机台及蚀刻方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种轴承和蚀刻机台及蚀刻方法。所述轴承包括内圈、外圈、保持架及滚珠；所述外圈套设于内圈的外部，所述外圈的内壁与所述内圈的外壁配合形成两个平行设置的滚道，所述保持架和滚珠位于所述外圈和内圈之间，所述滚珠嵌设于所述保持架上并容置于所述滚道内；所述外圈的内壁和内圈的外壁中的一个在每一滚道内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道外侧形成高档边，内侧形成低挡边，通过在轴承中形成两列滚道及两列滚珠，从而使得轴承能够稳定的承载双方向的轴向载荷，将该轴承应用到蚀刻机台中，可使得蚀刻机台能够来回往复的传送基板，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。

Description

轴承和蚀刻机台及蚀刻方法
技术领域
本发明涉及显示制造技术领域，尤其涉及一种轴承和蚀刻机台及蚀刻方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
液晶显示面板的制程可划分为三个阶段：第一阶段为阵列制程(Array)，即把薄膜晶体管制作在玻璃基板上；第二阶段为组合制程(Cell)，即把彩色滤光基板与薄膜晶体管基板对组，并在中间灌入液晶分子；第三阶段为模组制程(LCM)，即在组合后的面板背后加上背光组件及外接集成电路板，完成液晶显示面板的制作。在Array制程中，需要先在玻璃基板的表面形成金属薄膜层，并在金属薄膜层上涂布光阻层，在曝光(Exposure)制程将玻璃基板套上具有特定图案的光罩后对玻璃基板进行曝光，在显影(Developer)制程利用显影液去除被光照射到的光阻(正性光阻)或未被光照射到的光阻(负性光阻)，在蚀刻(Etching)制程喷洒蚀刻液蚀刻未被光阻覆盖的金属薄膜，最后去除剩余的光阻层，使光罩上的薄膜晶体管的电路图案形成在玻璃基板上。
现有的蚀刻机台通常包括传送台及位于所述传送台上方的喷头，蚀刻时所述传送台通过传送轴传送基板至喷头下方，喷头喷洒蚀刻液至基板上进行蚀刻，现有技术中的传送轴采用的轴承均只有一条滚道和一列滚珠，该滚道仅在一侧设有高挡边，该种轴承只能承受单方向的轴向载荷，从而传送轴也仅能单方向转动，基板在所述传送台只能单方向传送，当需要延长蚀刻时间时，只能减慢传送速度，使得基板通过喷头的时间延长，达到延长蚀刻时间的目的，但减慢传送速度，会导致蚀刻的均一性变差，与此同时，传送台通常由电机驱动，电机在工作时还会对轴承施加磁力，工作一段时间后，轴承的游隙就会变大，造成基板传送时出现跳动，无法稳定传送。
发明内容
本发明的目的在于提供一种轴承，能够稳定的承载双方向的轴向载荷。
本发明的目的还在于提供一种蚀刻机台，能够实现来回往复的传送基板，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。
为实现上述目的，本发明提供了提供一种蚀刻方法，能够实现来回往复的传送基板，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。
本发明提供一种轴承，包括内圈、外圈、保持架及滚珠；
所述外圈套设于内圈的外部，所述外圈的内壁与所述内圈的外壁配合形成两个平行设置的滚道，所述保持架和滚珠位于所述外圈和内圈之间，所述滚珠嵌设于所述保持架上并容置于所述滚道内；
所述外圈的内壁和内圈的外壁中的一个在每一滚道内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
所述外圈的内壁在每一滚道的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述内圈的外壁在每一滚道的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
所述内圈的外壁在每一滚道的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述外圈的内壁在每一滚道的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
本发明还提供一种蚀刻机台，包括传送台及设于所述传送台上方的多个药液喷头；
所述传送台包括机架、设于所述机架上的数个主传送轴、以及安装于所述主传送轴的两端的轴承；
所述轴承包括：内圈、外圈、保持架及滚珠；
所述外圈套设于内圈的外部，所述外圈的内壁与所述内圈的外壁配合形成两个平行设置的滚道，所述保持架和滚珠位于所述外圈和内圈之间，所述滚珠嵌设于所述保持架上并容置于所述滚道内；
所述外圈的内壁和内圈的外壁中的一个在每一滚道内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
所述外圈的内壁在每一滚道的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述内圈的外壁在每一滚道的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
所述内圈的外壁在每一滚道的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述外圈的内壁在每一滚道的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
所述蚀刻机台还包括安装于所述机架上的轴承架，所述轴承架上形成有轴承槽，所述轴承容置于所述轴承槽内。
所述蚀刻机台还包括安装于机架上且位于至少部分主传送轴上的辅助传送轴，所述辅助传送轴的两端也安装有所述轴承。
所述蚀刻机台还包括套设于所述主传送轴和辅助传送轴上的O型圈及与所述主传送轴及辅助传送轴相连的驱动齿轮。
本发明还提供一种蚀刻方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一上述的蚀刻机台；
步骤S2、提供一待蚀刻的基板，将所述待蚀刻的基板置于传送台上；
步骤S3、所述传送台带动所述待蚀刻的基板在所述药液喷头下方做来回往复运动，所述药液喷头喷出蚀刻药液对所述待蚀刻的基板进行蚀刻。
本发明的有益效果：本发明提供一种轴承，包括内圈、外圈、保持架及滚珠；所述外圈套设于内圈的外部，所述外圈的内壁与所述内圈的外壁配合形成两个平行设置的滚道，所述保持架和滚珠位于所述外圈和内圈之间，所述滚珠嵌设于所述保持架上并容置于所述滚道内；所述外圈的内壁和内圈的外壁中的一个在每一滚道内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道外侧形成高档边，内侧形成低挡边，通过在轴承中形成两列滚道及两列滚珠，从而使得轴承能够稳定的承载双方向的轴向载荷。本发明还提供一种采用上述轴承的蚀刻机台，能够实现来回往复的传送基板，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。本发明还提供一种蚀刻方法，通过基板的来回往复运动，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的轴承的轴向剖面图；
图2为本发明的轴承的第一实施例的径向剖面图；
图3为本发明的轴承的第二实施例的径向剖面图；
图4为本发明的蚀刻机台的侧视图；
图5为本发明的蚀刻机台的传送台的俯视图；
图6为本发明的蚀刻方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种轴承，包括内圈1、外圈2、保持架3及滚珠4；
所述外圈2套设于内圈1的外部，所述外圈2的内壁与所述内圈1的外壁配合形成两个平行设置的滚道5，所述保持架3和滚珠4位于所述外圈2和内圈1之间，所述滚珠5嵌设于所述保持架3上并容置于所述滚道5内；
所述外圈2的内壁和内圈1的外壁中的一个在每一滚道5内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道5外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
具体地，如图2所示，在本发明的第一实施例中，所述外圈2的内壁在每一滚道5的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述内圈1的外壁在每一滚道5的外侧形成高档边，内侧形成低挡边，从而所述轴承能够承载方向相反的两种轴向载荷，应用到蚀刻机台中时，可使得传送台能够带动基板做来回往复运动，以延长蚀刻时间的同时改善蚀刻均一性，并且在磁力影响下，使得轴承的使用寿命相比于现有技术延长2至4倍。
如图2所示，在本发明的第二实施例中，所述内圈1的外壁在每一滚道5的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述外圈2的内壁在每一滚道5的外侧形成高档边，内侧形成低挡边，从而所述轴承能够承载方向相反的两种轴向载荷，应用到蚀刻机台中时，可使得传送台能够带动基板做来回往复运动，以延长蚀刻时间的同时改善蚀刻均一性，并且在磁力影响下，使得轴承的使用寿命相比于现有技术延长2至4倍。
优选地，该轴承的两个滚道5的接触角均为60度。
请参阅图3，本发明还提供一种蚀刻机台，包括传送台10及设于所述传送台10上方的多个药液喷头20；
所述传送台10包括机架11、设于所述机架11上的数个主传送轴12、以及安装于所述主传送轴12的两端的轴承13；
所述轴承13包括：内圈1、外圈2、保持架3及滚珠4；
所述外圈2套设于内圈1的外部，所述外圈2的内壁与所述内圈1的外壁配合形成两个平行设置的滚道5，所述保持架3和滚珠4位于所述外圈2和内圈1之间，所述滚珠5嵌设于所述保持架3上并容置于所述滚道5内；
所述外圈2的内壁和内圈1的外壁中的一个在每一滚道5内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道5外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
具体地，所述蚀刻机台还包括安装于所述机架11上的轴承架14，所述轴承架14上形成有轴承槽15，所述轴承13容置于所述轴承槽15内。
具体地，所述蚀刻机台还包括安装于机架11上且位于至少部分主传送轴12上的辅助传送轴16，所述辅助传送轴16的两端也安装有所述轴承13，对应所述辅助传送轴16在机架11上设有第二轴承架161，所述第二轴承架161中形成有第二轴承槽162，所述辅助传送轴16上的轴承13容置于所述第二轴承槽162中，所述辅助传送轴16与其下方的主传送轴12之间具有供待蚀刻的基板100通过的间隙。
具体地，所述蚀刻机台还包括套设于所述主传送轴12和辅助传送轴16上的O型圈17及与所述主传送轴12及辅助传送轴16相连的驱动齿轮18，所述驱动齿轮18连接所述蚀刻机台的驱动器(一般为电机)，以通过驱动器带动所述主传送轴12和辅助传送轴16转动，所述O形圈17用于增强所述主传送轴12和辅助传送轴16与待蚀刻的基板100之间的摩擦力，使得所述基板100能够顺畅在所述传送台20上进行传送，避免打滑。
传送时，待蚀刻的基板100位于所述主传送轴12上，辅助传送轴16位于待蚀刻的基板100上方并与其接触，所述主传送轴12起主要传送作用，所述辅助传送轴16用于辅助所述主传送轴12完成传送，防止待蚀刻的基板100在传送台上20打滑，无法前进。
具体地，如图2所示，在本发明的第一实施例中，所述外圈2的内壁在每一滚道5的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述内圈1的外壁在每一滚道5的外侧形成高档边，内侧形成低挡边，从而所述轴承能够承载方向相反的两种轴向载荷，使得该蚀刻机台能够带动基板做来回往复运动，以延长蚀刻时间的同时改善蚀刻均一性，并且在磁力影响下，使得轴承的使用寿命相比于现有技术延长2至4倍。
如图2所示，在本发明的第二实施例中，所述内圈1的外壁在每一滚道5的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述外圈2的内壁在每一滚道5的外侧形成高档边，内侧形成低挡边，从而所述轴承能够承载方向相反的两种轴向载荷，使得该蚀刻机台能够带动基板做来回往复运动，以延长蚀刻时间的同时改善蚀刻均一性，并且在磁力影响下，使得轴承的使用寿命相比于现有技术延长2至4倍。
请参阅图6，本发明还提供一种蚀刻方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一上述的蚀刻机台；
步骤S2、提供一待蚀刻的基板100，将所述待蚀刻的基板100置于传送台10上。
具体地，待蚀刻的基板100位于所述主传送轴12上，辅助传送轴16位于待蚀刻的基板100上方并与其接触。
步骤S3、所述传送台10带动所述待蚀刻的基板100在所述药液喷头20下方做来回往复运动，所述药液喷头20喷出蚀刻药液对所述待蚀刻的基板进行蚀刻。
具体地，所述主传送轴12起主要传送作用，所述辅助传送轴16用于辅助所述主传送轴12完成传送，防止待蚀刻的基板100在传送台上20打滑，无法前进。
具体地，通过循环交替地改变所述驱动器的转动方向，使得所述传送台10带动所述待蚀刻的基板100在所述药液喷头20下方做来回往复运动。
需要说明的是，通过所述待蚀刻的基板100在所述药液喷头20下方做来回往复运动，能够在延长所述待蚀刻的基板100的总蚀刻时长的同时，保证待蚀刻基板100仍然以较快的速度运动，以避免因待蚀刻基板100的运动速度过慢，导致蚀刻均一性下降，相比现有技术，通过减慢待蚀刻的基板100的运动速度来延长蚀刻时间，本发明的蚀刻均一更好。
综上所述，本发明提供一种轴承，包括内圈、外圈、保持架及滚珠；所述外圈套设于内圈的外部，所述外圈的内壁与所述内圈的外壁配合形成两个平行设置的滚道，所述保持架和滚珠位于所述外圈和内圈之间，所述滚珠嵌设于所述保持架上并容置于所述滚道内；所述外圈的内壁和内圈的外壁中的一个在每一滚道内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道外侧形成高档边，内侧形成低挡边，通过在轴承中形成两列滚道及两列滚珠，从而使得轴承能够稳定的承载双方向的轴向载荷。本发明还提供一种采用上述轴承的蚀刻机台，能够实现来回往复的传送基板，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。本发明还提供一种蚀刻方法，通过基板的来回往复运动，延长蚀刻时间的同时保证蚀刻的均一性。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种轴承，其特征在于，包括内圈(1)、外圈(2)、保持架(3)及滚珠(4)；
所述外圈(2)套设于内圈(1)的外部，所述外圈(2)的内壁与所述内圈(1)的外壁配合形成两个平行设置的滚道(5)，所述保持架(3)和滚珠(4)位于所述外圈(2)和内圈(1)之间，所述滚珠(5)嵌设于所述保持架(3)上并容置于所述滚道(5)内；
所述外圈(2)的内壁和内圈(1)的外壁中的一个在每一滚道(5)内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道(5)外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
2.如权利要求1所述的轴承，其特征在于，所述外圈(2)的内壁在每一滚道(5)的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述内圈(1)的外壁在每一滚道(5)的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
3.如权利要求1所述的轴承，其特征在于，所述内圈(1)的外壁在每一滚道(5)的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述外圈(2)的内壁在每一滚道(5)的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
4.一种蚀刻机台，其特征在于，包括传送台(10)及设于所述传送台(10)上方的多个药液喷头(20)；
所述传送台(10)包括机架(11)、设于所述机架(11)上的数个主传送轴(12)、以及安装于所述主传送轴(12)的两端的轴承(13)；
所述轴承(13)包括：内圈(1)、外圈(2)、保持架(3)及滚珠(4)；
所述外圈(2)套设于内圈(1)的外部，所述外圈(2)的内壁与所述内圈(1)的外壁配合形成两个平行设置的滚道(5)，所述保持架(3)和滚珠(4)位于所述外圈(2)和内圈(1)之间，所述滚珠(5)嵌设于所述保持架(3)上并容置于所述滚道(5)内；
所述外圈(2)的内壁和内圈(1)的外壁中的一个在每一滚道(5)内侧形成高档边，外侧形成低挡边，另一个在每一滚道(5)外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
5.如权利要求4所述的蚀刻机台，其特征在于，所述外圈(2)的内壁在每一滚道(5)的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述内圈(1)的外壁在每一滚道(5)的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
6.如权利要求4所述的蚀刻机台，其特征在于，所述内圈(1)的外壁在每一滚道(5)的内侧形成高档边，外侧形成低挡边，所述外圈(2)的内壁在每一滚道(5)的外侧形成高档边，内侧形成低挡边。
7.如权利要求4所述的蚀刻机台，其特征在于，还包括安装于所述机架(11)上的轴承架(14)，所述轴承架(14)上形成有轴承槽(15)，所述轴承(13)容置于所述轴承槽(15)内。
8.如权利要求4所述的蚀刻机台，其特征在于，还包括安装于机架(11)上且位于至少部分主传送轴(12)上的辅助传送轴(16)，所述辅助传送轴(16)的两端也安装有所述轴承(13)。
9.如权利要求8所述的蚀刻机台，其特征在于，还包括套设于所述主传送轴(12)和辅助传送轴(16)上的O型圈(17)及与所述主传送轴(12)及辅助传送轴(16)相连的驱动齿轮(18)。
10.一种蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一如权利要求4至权利要求9任一项所述的蚀刻机台；
步骤S2、提供一待蚀刻的基板(100)，将所述待蚀刻的基板(100)置于传送台(10)上；
步骤S3、所述传送台(10)带动所述待蚀刻的基板(100)在所述药液喷头(20)下方做来回往复运动，所述药液喷头(20)喷出蚀刻药液对所述待蚀刻的基板进行蚀刻。
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