CN105416973B - 基板传送装置及基板曝边方法 - Google Patents

基板传送装置及基板曝边方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种基板传送装置及基板曝边方法。该基板传送装置在传送平台(1)的上方设有第一、第二曝边模组(21、22)，在传送平台(1)的下方设有第一、第二定位柱(31、32)，在基板(4)的传送过程中可配合第一、第二定位柱(31、32)，通过第一、第二曝边模组(21、22)对基板(4)的四周边缘进行曝光，以除去基板(4)四周边缘残留的光阻，无需额外购买一台曝边机，节省机台成本。该基板曝边方法，通过设置在基板传送装置中的第一、第二曝边模组(21、22)和第一、第二定位柱(31、32)的相互配合，实现在传送基板(4)的同时对基板(4)进行曝边，除去基板(4)四周边缘残留的光阻，节省机台成本。

Description

基板传送装置及基板曝边方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板传送装置及基板曝边方法。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛地应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
以LCD的显示面板为例，其结构是由一彩色滤光片基板(Color Filter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，工作原理是通过在TFT基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。在LCD显示面板与OLED显示面板的制造过程中，会经常用到光刻制程：具体为在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光，曝光机通过开启超高压水银灯发出UV紫外光线，将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜板的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分；再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分，从而使光刻胶形成所需的图形；最后进行蚀刻，在基板上形成相应的图案。
在光刻制程中，基板的四周边缘经常会有光阻(即光刻胶)残留，一般会通过曝边机对基板的四周边缘进行曝光，以将残留的光阻去除。曝边机通常在生产线中单独设置，而曝边机价格比较昂贵，这就造成了机台成本的上升。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板传送装置，能够在对基板进行传送的同时实现对基板的四周边缘进行曝光，以除去基板四周边缘残留的光阻，无需额外购买一台曝边机，节省机台成本。
本发明的另一目的在于提供一种基板曝边方法，能够实现在传送基板的同时对基板进行曝边，除去基板四周边缘残留的光阻，节省机台成本。
为实现上述目的，本发明提供一种基板传送装置，包括传送平台、相对设于传送平台两侧上方的第一、第二曝边模组、及沿传送平台的传送方向间隔设于传送平台下方的第一、第二定位柱；
所述传送平台用于传送基板；所述基板具有第一、第二、第三、第四边缘，所述第一边缘与第四边缘相对且与传送平台的传送方向垂直，所述第二边缘与第三边缘相对，且与传送平台的传送方向一致；所述第一、第二、第三、第四边缘上具有待曝光的残留光阻；
所述第一定位柱位于第一、第二曝边模组之间；所述第一、第二定位柱能够相对于传送平台上升与下降；所述第一、第二定位柱之间的距离与基板在传送方向上的尺寸相适应；
当基板停靠于第一定位柱处时，基板的第一边缘位于第一、第二曝边模组的下方；当传送平台带动基板经过第一定位柱向第二定位柱移动时，基板的第二、第三边缘分别经过第一、第二曝边模组的下方；当基板停靠于第二定位柱处时，基板的第四边缘位于第一、第二曝边模组的下方；从而实现在基板的传送过程中通过第一、第二曝边模组对基板的第一、第二、第三、第四边缘的残留光阻进行曝光。
所述第一、第二曝边模组的光源均为水银灯。
所述传送平台包括相互间隔且平行的数个转轴、及分别设于所述数个转轴上的多个滚轮。
所述第一、第二定位柱分别位于相邻的两个转轴之间。
所述第一、第二定位柱各连接一气缸，通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱上升与下降。
本发明还提供一种基板曝边方法，包括如下步骤：
步骤1、提供一基板传送装置及基板；
所述基板传送装置包括传送平台、相对设于传送平台两侧上方的第一、第二曝边模组、及沿传送平台的传送方向间隔设于传送平台下方的第一、第二定位柱；
所述第一定位柱位于第一、第二曝边模组之间；所述第一、第二定位柱能够相对于传送平台上升与下降；所述第一、第二定位柱之间的距离与基板在传送方向上的尺寸相适应；
所述基板具有第一、第二、第三、第四边缘，所述第一边缘与第四边缘相对且与传送平台的传送方向垂直，所述第二边缘与第三边缘相对且与传送平台的传送方向一致；所述第一、第二、第三、第四边缘上具有待曝光的残留光阻；
步骤2、将所述基板放置于所述传送平台上进行传送，并控制第一定位柱上升；
步骤3、所述基板被第一定位柱截住，停靠于第一定位柱处，控制第一曝边模组或第二曝边模组对基板的第一边缘进行曝光；
步骤4、所述基板的第一边缘曝光完毕后，控制第一定位柱下降，传送平台继续传送基板，在传送过程中分别通过第一、第二曝边模组对基板的第二、第三边缘进行曝光，并控制第二定位柱上升；
步骤5、所述基板的第二、第三边缘曝光完毕，基板被第二定位柱截住，停靠于第二定位柱处，控制第一曝边模组或第二曝边模组对基板的第四边缘进行曝光；
步骤6、所述基板的第四边缘曝光完毕，控制第二定位柱下降，通过传送平台将曝边后的基板传送至下一制程。
所述第一、第二曝边模组的光源均为水银灯。
所述传送平台包括相互间隔且平行的数个转轴、及分别设于所述数个转轴上的多个滚轮。
所述第一、第二定位柱分别位于相邻的两个转轴之间。
所述第一、第二定位柱各连接一气缸，通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱上升与下降。
本发明的有益效果：本发明提供的一种基板传送装置，在传送平台的上方设有第一、第二曝边模组，在传送平台的下方设有第一、第二定位柱，在基板的传送过程中可配合第一、第二定位柱，通过第一、第二曝边模组对基板的四周边缘进行曝光，以除去基板四周边缘残留的光阻，无需额外购买一台曝边机，节省机台成本。本发明提供的一种基板曝边方法，通过设置在基板传送装置中的第一、第二曝边模组和第一、第二定位柱的相互配合，实现在传送基板的同时对基板进行曝边，除去基板四周边缘残留的光阻，节省机台成本。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的基板传送装置的结构示意图；
图2为待曝边的基板的俯视示意图；
图3为本发明的基板传送装置的基板曝边方法的步骤3的示意图；
图4为本发明的基板传送装置的基板曝边方法的步骤5的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1、图2，本发明首先提供一种基板传送装置，包括传送平台1、相对设于传送平台1两侧上方的第一、第二曝边模组21、22、及沿传送平台1的传送方向间隔设于传送平台1下方的第一、第二定位柱31、32。
所述传送平台1用于传送基板4。所述基板4具有第一、第二、第三、第四边缘41、42、43、44，所述第一边缘41与第四边缘44相对且与传送平台1的传送方向垂直，所述第二边缘42与第三边缘43相对且与传送平台1的传送方向一致；所述第一、第二、第三、第四边缘41、42、43、44上具有待曝光的残留光阻。
所述第一定位柱31位于第一、第二曝边模组21、22之间；所述第一、第二定位柱31、32能够相对于传送平台1上升与下降。所述第一、第二定位柱31、32之间的距离与基板4在传送方向上的尺寸相适应。
具体地，当基板4停靠于第一定位柱31处时，基板4的第一边缘41位于第一、第二曝边模组21、22的下方；当传送平台1带动基板4经过第一定位柱31向第二定位柱32移动时，基板4的第二、第三边缘42、43分别经过第一、第二曝边模组21、22的下方；当基板4停靠于第二定位柱32处时，基板4的第四边缘44位于第一、第二曝边模组21、22的下方；从而实现在基板4的传送过程中通过第一、第二曝边模组21、22对基板4的第一、第二、第三、第四边缘41、42、43、44的残留光阻进行曝光。
具体地，所述第一、第二曝边模组21、22的光源均为水银灯，可发出UV紫外光线对光阻进行曝光。
具体地，所述传送平台1包括相互间隔且平行的数个转轴11、及分别设于所述数个转轴11上的多个滚轮12。所述第一、第二定位柱31、32分别位于相邻的两个转轴11之间。
具体地，所述第一、第二定位柱31、32各连接一气缸(未图示)，通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱31、32上升与下降。
上述基板传送装置在传送平台1的上方设有第一、第二曝边模组21、22，在传送平台1的下方设有第一、第二定位柱31、32，在基板4的传送过程中可配合第一、第二定位柱31、32，通过第一、第二曝边模组21、22对基板4的四周边缘进行曝光，以除去基板4四周边缘残留的光阻，无需额外购买一台曝边机，节省机台成本。
请参阅图3、图4，结合图1与图2，本发明还提供一种基板曝边方法，包括如下步骤：
步骤1、提供一如图1所示的基板传送装置及如图2所示的基板4。
所述基板传送装置包括传送平台1、相对设于传送平台1两侧上方的第一、第二曝边模组21、22、及沿传送平台1的传送方向间隔设于传送平台1下方的第一、第二定位柱31、32。
所述第一定位柱31位于第一、第二曝边模组21、22之间；所述第一、第二定位柱31、32能够相对于传送平台1上升与下降；所述第一、第二定位柱31、32之间的距离与基板4在传送方向上的尺寸相适应。
所述基板4具有第一、第二、第三、第四边缘41、42、43、44，所述第一边缘41与第四边缘44相对且与传送平台1的传送方向垂直，所述第二边缘42与第三边缘43相对且与传送平台1的传送方向一致；所述第一、第二、第三、第四边缘41、42、43、44上具有待曝光的残留光阻。
步骤2、将所述基板4放置于传送平台1上进行传送，并控制第一定位柱31上升。
步骤3、如图3所示，所述基板4被第一定位柱31截住，停靠于第一定位柱31处，控制第一曝边模组21或第二曝边模组22对基板4的第一边缘41进行曝光。
步骤4、所述基板4的第一边缘41曝光完毕后，控制第一定位柱31下降，传送平台1继续传送基板4，在传送过程中分别通过第一、第二曝边模组21、22对基板4的第二、第三边缘42、43进行曝光，并控制第二定位柱32上升。
步骤5、如图4所示，所述基板4的第二、第三边缘42、43曝光完毕，基板4被第二定位柱32截住，停靠于第二定位柱32处，控制第一曝边模组21或第二曝边模组22对基板4的第四边缘44进行曝光。
步骤6、所述基板4的第四边缘44曝光完毕，控制第二定位柱32下降，通过传送平台1将曝边后的基板4传送至下一制程。
具体地，所述第一、第二曝边模组21、22的光源均为水银灯，可发出UV紫外光线对光阻进行曝光。
具体地，所述传送平台1包括相互间隔且平行的数个转轴11、及分别设于所述数个转轴11上的多个滚轮12。所述第一、第二定位柱31、32分别位于相邻的两个转轴11之间。
具体地，所述第一、第二定位柱31、32各连接一气缸，通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱31、32上升与下降。
上述基板曝边方法，通过设置在基板传送装置中的第一、第二曝边模组21、22和第一、第二定位柱31、32的相互配合，实现在传送基板4的同时对基板4进行曝边，除去基板4四周边缘残留的光阻，节省机台成本。
综上所述，本发明的基板传送装置，在传送平台的上方设有第一、第二曝边模组，在传送平台的下方设有第一、第二定位柱，在基板的传送过程中可配合第一、第二定位柱，通过第一、第二曝边模组对基板的四周边缘进行曝光，以除去基板四周边缘残留的光阻，无需额外购买一台曝边机，节省机台成本。本发明的基板曝边方法，通过设置在基板传送装置中的第一、第二曝边模组和第一、第二定位柱的相互配合，实现在传送基板的同时对基板进行曝边，除去基板四周边缘残留的光阻，节省机台成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种基板传送装置，其特征在于，包括传送平台(1)、相对设于传送平台(1)两侧上方的第一、第二曝边模组(21、22)、及沿传送平台(1)的传送方向间隔设于传送平台(1)下方的第一、第二定位柱(31、32)；
所述传送平台(1)用于传送基板(4)；所述基板(4)具有第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)，所述第一边缘(41)与第四边缘(44)相对且与传送平台(1)的传送方向垂直，所述第二边缘(42)与第三边缘(43)相对且与传送平台(1)的传送方向一致；所述第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)上具有待曝光的残留光阻；
所述第一定位柱(31)位于第一、第二曝边模组(21、22)之间；所述第一、第二定位柱(31、32)能够相对于传送平台(1)上升与下降；所述第一、第二定位柱(31、32)之间的距离与基板(4)在传送方向上的尺寸相适应；
当基板(4)停靠于第一定位柱(31)处时，基板(4)的第一边缘(41)位于第一、第二曝边模组(21、22)的下方；当传送平台(1)带动基板(4)经过第一定位柱(31)向第二定位柱(32)移动时，基板(4)的第二、第三边缘(42、43)分别经过第一、第二曝边模组(21、22)的下方；当基板(4)停靠于第二定位柱(32)处时，基板(4)的第四边缘(44)位于第一、第二曝边模组(21、22)的下方；从而实现在基板(4)的传送过程中，通过第一、第二曝边模组(21、22)对基板(4)的第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)上的残留光阻进行曝光。
2.如权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述第一、第二曝边模组(21、22)的光源均为水银灯。
3.如权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述传送平台(1)包括相互间隔且平行的数个转轴(11)、及分别设于所述数个转轴(11)上的多个滚轮(12)。
4.如权利要求3所述的基板传送装置，其特征在于，所述第一、第二定位柱(31、32)分别位于相邻的两个转轴(11)之间。
5.如权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于，所述第一、第二定位柱(31、32)各连接一气缸，通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱(31、32)上升与下降。
6.一种基板曝边方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一基板传送装置及基板(4)；
所述基板传送装置包括传送平台(1)、相对设于传送平台(1)两侧上方的第一、第二曝边模组(21、22)、及沿传送平台(1)的传送方向间隔设于传送平台(1)下方的第一、第二定位柱(31、32)；
所述第一定位柱(31)位于第一、第二曝边模组(21、22)之间；所述第一、第二定位柱(31、32)能够相对于传送平台(1)上升与下降；所述第一、第二定位柱(31、32)之间的距离与基板(4)在传送方向上的尺寸相适应；
所述基板(4)具有第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)，所述第一边缘(41)与第四边缘(44)相对且与传送平台(1)的传送方向垂直，所述第二边缘(42)与第三边缘(43)相对且与传送平台(1)的传送方向一致；所述第一、第二、第三、第四边缘(41、42、43、44)上具有待曝光的残留光阻；
步骤2、将所述基板(4)放置于所述传送平台(1)上进行传送，并控制第一定位柱(31)上升；
步骤3、所述基板(4)被第一定位柱(31)截住，停靠于第一定位柱(31)处，控制第一曝边模组(21)或第二曝边模组(22)对基板(4)的第一边缘(41)进行曝光；
步骤4、所述基板(4)的第一边缘(41)曝光完毕后，控制第一定位柱(31)下降，传送平台(1)继续传送基板(4)，在传送过程中分别通过第一、第二曝边模组(21、22)对基板(4)的第二、第三边缘(42、43)进行曝光，并控制第二定位柱(32)上升；
步骤5、所述基板(4)的第二、第三边缘(42、43)曝光完毕，基板(4)被第二定位柱(32)截住，停靠于第二定位柱(32)处，控制第一曝边模组(21)或第二曝边模组(22)对基板(4)的第四边缘(44)进行曝光；
步骤6、所述基板(4)的第四边缘(44)曝光完毕，控制第二定位柱(32)下降，通过传送平台(1)将曝边后的基板(4)传送至下一制程。
7.如权利要求6所述的基板曝边方法，其特征在于，所述第一、第二曝边模组(21、22)的光源均为水银灯。
8.如权利要求6所述的基板曝边方法，其特征在于，所述传送平台(1)包括相互间隔且平行的数个转轴(11)、及分别设于所述数个转轴(11)上的多个滚轮(12)。
9.如权利要求6所述的基板曝边方法，其特征在于，所述第一、第二定位柱(31、32)分别位于相邻的两个转轴(11)之间。
10.如权利要求6所述的基板曝边方法，其特征在于，所述第一、第二定位柱(31、32)各连接一气缸，通过所述气缸控制所述第一、第二定位柱(31、32)上升与下降。
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