CN109133625A - 底釉、耐酸釉面砖及其制作方法 - Google Patents

底釉、耐酸釉面砖及其制作方法 Download PDF

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肖春燕
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Abstract

本申请提供一种底釉、耐酸釉面砖及其制作方法。一种底釉，包括：Al2O320‑33份、SiO250‑65份、CaO1‑5份、MgO1‑4份、ZnO2‑6份、K2O2‑4份、Na2O4‑8份。耐酸釉面砖，包括底釉，还包括坯体和面釉。制作方法包括：坯体成型，对坯体进行干燥处理，得到干燥坯体；向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；对第一坯砖进行干燥处理，得到第二坯砖；向第二坯砖施底釉的一面施加面釉，得到第三坯砖；对第三坯砖进行干燥处理，得到第四坯砖；对第四坯砖进行高温煅烧，得到第五坯砖；对第五坯砖进行抛光处理，得到耐酸釉面砖。本申请提供的耐酸釉面砖，白度更高，通透感和耐酸性能更好。

Description

底釉、耐酸釉面砖及其制作方法
技术领域
本发明涉及陶瓷领域，具体而言，涉及一种底釉、耐酸釉面砖及其制作方法。
背景技术
釉面砖，因在精陶面上挂有一层釉，故称釉面砖。釉面砖釉面光滑，图案丰富多彩，有单色、印花、高级艺术图案等。釉面砖具有不吸污、耐腐蚀、易清洁的特点，所以多用于厨房、卫生间。
目前市面上的普通釉面砖普遍白度20-30度左右，对白度要求更高的一些釉面砖来说明显不够，而且耐酸性能偏低，如可乐、醋酸、洗厕剂、工业用稀盐酸倒在砖面上2小时左右就会开始出现腐蚀现象。
有鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的第一目的在于提供的一种底釉，用于制作耐酸釉面砖。
本发明的第二目的在于提供一种耐酸釉面砖，白度高、通透感好、耐酸性能佳。
本发明的第三目的在于提供一种耐酸釉面砖的制备方法，使用该方法制得的耐酸釉面砖，质量稳定，装饰性能好。
为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：
一种底釉，以质量份数计，包括：Al2O320-33份、SiO250-65份、CaO1-5份、MgO1-4份、ZnO2-6份、K2O2-4份、Na2O4-8份。
底釉中不含氧化铁，使得成品的白度更高，通透感更强。
一种耐酸釉面砖，包括所述的底釉，还包括坯体和面釉；
所述坯体以质量份数计，包括：SiO2 60-72份、Al2O317-22份、MgO 1-3份、K2O 1-3份、Na2O 2-4份；
所述面釉以质量份数计，包括：Al2O312-18份、SiO252-66份、CaO2-5份、CaSO43-5份、MgSO43-6份、K2SO43-5份、Na2SO42-4份、BaSO44-8份、ZnO2-8份、ZrSiO48-15份。
面釉中加入ZrSiO4提高产品白度；加入CaSO4、MgSO4、K2SO4、Na2SO4、BaSO4提高产品的耐酸性能。
优选地，所述坯体以质量份数计，包括：SiO266份、Al2O319份、MgO2.5份、K2O2.5份、Na2O3.5份；
所述面釉以质量份数计，包括：Al2O316份、SiO260份、CaO4份、CaSO44.5份、MgSO44份、K2SO44.5份、Na2SO43.5份、BaSO46份、ZnO5份、ZrSiO49份；
所述底釉以质量份数计，包括：Al2O325份、SiO255份、CaO4份、MgO2份、ZnO5份、K2O3.5份、Na2O5份。
最佳的成分和配比，可以获得最高的白度和最佳的耐酸性能。
可选地，用ZrO替代所述ZrSiO4，用K2O替代所述K2SO4，用Na2O替代所述Na2SO4。
使用替代成分，可以一定程度上达到原有配方的效果。
一种所述的耐酸釉面砖的制作方法，包括以下步骤：
S1：先在3000-10000吨压力下进行所述坯体的成型，然后对坯体进行第一干燥处理，得到干燥坯体；
S2：向所述干燥坯体的表面施加所述底釉，得到第一坯砖；对所述第一坯砖进行第二干燥处理，得到第二坯砖；所述底釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％；
S3：向所述第二坯砖施底釉的一面施加面釉，得到第三坯砖；对所述第三坯砖进行第三干燥处理，得到第四坯砖；所述面釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％；
S4：对所述第四坯砖进行高温煅烧，得到第五坯砖；
S5：对所述第五坯砖进行抛光处理，得到耐酸釉面砖。
优选地，步骤S4中，煅烧时间为1h，煅烧温度为1170-1240℃。
合适的烧制温度可以保证产品的良品率和整体质量。
优选地，所述第一干燥处理的时间为90min，温度为100-350℃；所述第二干燥处理的时间为1-2min，温度为100-200℃；所述第三干燥处理的时间为1-2min，温度为150-250℃。
合适的干燥处理可以提高坯体、底釉、面釉之间的结合力，避免出现气泡等瑕疵。
优选地，施加所述底釉以淋釉的方式进行，底釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.02g/ml。
更加优选地，施加所述面釉以淋釉的方式进行，面釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.04g/ml。
进一步优选地，所述底釉的施加量为590g/m2，所述面釉的施加量为1300g/m2。
控制底釉和面釉的流速、比重和施加量，可以达到控制底釉层和面釉层厚度，保证施釉效果的目的。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
1.耐酸釉面砖的白度一般能够超过45，白度高、耐酸性能好；
2.使用本申请提供的制作方法，产品质量稳定。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
实施例1
按照以下步骤制作耐酸釉面砖：
S1：先进行坯体的成型，然后对坯体进行第一干燥处理，得到干燥坯体；坯体以质量份数计，包括：SiO260份、Al2O317份、MgO 1份、K2O 1份、Na2O2份；第一干燥处理的时间为90min，温度为350℃；
S2：向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；对第一坯砖进行第二干燥处理，得到第二坯砖；底釉以质量份数计，包括：Al2O333份、SiO265份、CaO5份、MgO4份、ZnO6份、K2O4份、Na2O8份；第二干燥处理的时间为1min，温度为200℃；
底釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；施加底釉以淋釉的方式进行，底釉流速为4.77g/s，比重为1.91g/ml，底釉施加量为590g/m2；
S3：向第二坯砖施底釉的一面施加面釉，得到第三坯砖；对第三坯砖进行第三干燥处理，得到第四坯砖；面釉以质量份数计，包括：Al2O312份、SiO252份、CaO2份、CaSO43份、MgSO43份、K2SO43份、Na2SO42份、BaSO44份、ZnO2份、ZrSiO48份；第三干燥处理的时间为2min，温度为150℃；
面釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6％；施加面釉以淋釉的方式进行，面釉流速为4.77g/s，比重为1.85g/ml，面釉施加量为1300g/m2；
S4：对第四坯砖进行高温煅烧，得到第五坯砖；煅烧时间为1h，煅烧温度为1170℃；
S5：对第五坯砖进行抛光处理，得到耐酸釉面砖。
实施例2
按照以下步骤制作耐酸釉面砖：
S1：先进行坯体的成型，然后对坯体进行第一干燥处理，得到干燥坯体；坯体以质量份数计，包括：SiO272份、Al2O322份、MgO3份、K2O3份、Na2O4份；第一干燥处理的时间为90min，温度为100℃；
S2：向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；对第一坯砖进行第二干燥处理，得到第二坯砖；底釉以质量份数计，包括：Al2O320份、SiO250份、CaO1份、MgO1份、ZnO2份、K2O2份、Na2O4份；第二干燥处理的时间为2min，温度为100℃；
底釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.6％；施加底釉以淋釉的方式进行，底釉流速为4.77g/s，比重为1.87g/ml，底釉施加量为590g/m2；
S3：向第二坯砖施底釉的一面施加面釉，得到第三坯砖；对第三坯砖进行第三干燥处理，得到第四坯砖；面釉以质量份数计，包括：Al2O318份、SiO266份、CaO5份、CaSO45份、MgSO46份、K2SO45份、Na2SO44份、BaSO48份、ZnO8份、ZrSiO415份；第三干燥处理的时间为1min，温度为250℃；
面釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3％；施加面釉以淋釉的方式进行，面釉流速为4.77g/s，比重为1.93g/ml，面釉施加量为1300g/m2；
S4：对第四坯砖进行高温煅烧，得到第五坯砖；煅烧时间为1h，煅烧温度为1240℃；
S5：对第五坯砖进行抛光处理，得到耐酸釉面砖。
实施例3
按照以下步骤制作耐酸釉面砖：
S1：先进行坯体的成型，然后对坯体进行第一干燥处理，得到干燥坯体；坯体以质量份数计，包括：SiO2 66份、Al2O319份、MgO 2.5份、K2O 2.5份、Na2O 3.5份；第一干燥处理的时间为90min，温度为200℃；
S2：向干燥坯体的表面施加底釉，得到第一坯砖；对第一坯砖进行第二干燥处理，得到第二坯砖；底釉以质量份数计，包括：Al2O325份、SiO255份、CaO4份、MgO2份、ZnO5份、K2O3.5份、Na2O5份；第二干燥处理的时间为1.5min，温度为150℃；
底釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.5％；施加底釉以淋釉的方式进行，底釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，底釉施加量为590g/m2；
S3：向第二坯砖施底釉的一面施加面釉，得到第三坯砖；对第三坯砖进行第三干燥处理，得到第四坯砖；面釉以质量份数计，包括：Al2O316份、SiO260份、CaO4份、CaSO44.5份、MgSO44份、K2SO44.5份、Na2SO43.5份、BaSO46份、ZnO5份、ZrSiO49份；第三干燥处理的时间为1.5min，温度为200℃；
面釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.5％；施加面釉以淋釉的方式进行，面釉流速为4.77g/s，比重为1.89g/ml，面釉施加量为1300g/m2；
S4：对第四坯砖进行高温煅烧，得到第五坯砖；煅烧时间为1h，煅烧温度为1205℃；
S5：对第五坯砖进行抛光处理，得到耐酸釉面砖。
比较例1
与实施例1相比，不同之处在于，面釉中不含有ZrSiO4；
比较例2
与实施例2相比，不同之处在于，面釉中不含CaSO4、MgSO4、K2SO4、Na2SO4、BaSO4。
比较例3
与实施例3相比，不同之处在于，最高烧成温度为1250℃。
测试实施例1-3和比较例1-3所得的500组产品的参数得到平均值，结果如下表1所示：
表1测试结果
检测项目 良品率/％ 白度 耐酸腐蚀
实施例1 98.3 46 GLA(V)
实施例2 98.6 47 GLA(V)
实施例3 99.5 49 GLA(V)
比较例1 79.5 35 GLA(V)
比较例2 98.3 45 GLB(V)
比较例3 83.8 43 GLB(V)
需要说明的是，上表1中良品率的检测标准是：表面无裂纹、无秃釉、堆釉及釉面多孔等现象，白度值达到45及以上；耐酸腐蚀测试按照GB/T3813.10-2006的方法、使用体积分数为3％的盐酸进行测试。
由上表可知，ZrSiO4的添加对于产品的白度有很大提高，CaSO4、MgSO4、K2SO4、Na2SO4、BaSO4在面釉中的使用，极大的改善了产品的耐酸性能。烧制温度对于产品良品率、白度和耐酸性能均有影响。
本申请提供的耐酸釉面砖，白度高、耐酸性能好、通透感强。
对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。尽管已用具体实施例来说明和描述了本发明，然而应意识到，在不背离本发明的精神和范围的情况下可以作出许多其它的更改和修改。因此，这意味着在所附权利要求中包括属于本发明范围内的所有这些变化和修改。

Claims (10)

1.一种底釉，其特征在于，以质量份数计，包括：Al2O320-33份、SiO250-65份、CaO1-5份、MgO1-4份、ZnO2-6份、K2O2-4份、Na2O4-8份。
2.一种耐酸釉面砖，其特征在于，包括权利要求1所述的底釉，还包括坯体和面釉；
所述坯体以质量份数计，包括：SiO2 60-72份、Al2O3 17-22份、MgO 1-3份、K2O 1-3份、Na2O 2-4份；
所述面釉以质量份数计，包括：Al2O3 12-18份、SiO252-66份、CaO2-5份、CaSO43-5份、MgSO43-6份、K2SO43-5份、Na2SO4 2-4份、BaSO44-8份、ZnO2-8份、ZrSiO48-15份。
3.根据权利要求2所述的耐酸釉面砖，其特征在于，所述坯体以质量份数计，包括：SiO266份、Al2O319份、MgO 2.5份、K2O 2.5份、Na2O 3.5份；
所述面釉以质量份数计，包括：Al2O3 16份、SiO260份、CaO4份、CaSO44.5份、MgSO44份、K2SO44.5份、Na2SO4 3.5份、BaSO46份、ZnO5份、ZrSiO49份；
所述底釉以质量份数计，包括：Al2O325份、SiO255份、CaO4份、MgO2份、ZnO5份、K2O3.5份、Na2O5份。
4.根据权利要求2或3所述的耐酸釉面砖，其特征在于，用ZrO替代所述ZrSiO4，用K2O替代所述K2SO4，用Na2O替代所述Na2SO4。
5.一种权利要求2-4任一项所述的耐酸釉面砖的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：先在3000-10000吨压力下进行所述坯体的成型，然后对坯体进行第一干燥处理，得到干燥坯体；
S2：向所述干燥坯体的表面施加所述底釉，得到第一坯砖；对所述第一坯砖进行第二干燥处理，得到第二坯砖；所述底釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％；
S3：向所述第二坯砖施底釉的一面施加面釉，得到第三坯砖；对所述第三坯砖进行第三干燥处理，得到第四坯砖；所述面釉的细度为经325目筛后干料重量百分比为0.3-0.6％；
S4：对所述第四坯砖进行高温煅烧，得到第五坯砖；
S5：对所述第五坯砖进行抛光处理，得到耐酸釉面砖。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，步骤S4中，煅烧时间为1h，煅烧温度为1170-1240℃。
7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第一干燥处理的时间为90min，温度为100-350℃；所述第二干燥处理的时间为1-2min，温度为100-200℃；所述第三干燥处理的时间为1-2min，温度为150-250℃。
8.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，施加所述底釉以淋釉的方式进行，底釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.02g/ml。
9.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，施加所述面釉以淋釉的方式进行，面釉流速为4.77g/s，比重为1.89±0.04g/ml。
10.根据权利要求8或9所述的制作方法，其特征在于，所述底釉的施加量为590g/m2，所述面釉的施加量为1300g/m2。
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