CN109116685B - 一种曝光方法及其曝光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种曝光方法及其曝光装置，该曝光方法包括步骤：确认待曝光点在待曝光区域中的位置；进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；曝光机完成曝光操作。本发明能够减少曝光机的工作的节拍时间和提升产出产品的对位精度。

Description

一种曝光方法及其曝光装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光方法及其曝光装置。
背景技术
随着科技的发展和进步，液晶显示器由于具备机身薄、省电和辐射低等热点而成为显示器的主流产品，得到了广泛应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(backlightmodule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
其中，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay，TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面品质以及较高的生产良率等性能，目前已经逐渐占据了显示领域的主导地位。同样，薄膜晶体管液晶显示器包含液晶面板和背光模组，液晶面板包括彩膜基板(Color Filter Substrate，CF Substrate，也称彩色滤光片基板)、薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Substrate，TFTSubstrate)和光罩(Mask)，上述基板的相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(LiquidCrystal，LC)。
在显示面板的制造过程中，有很多的制程需要经过曝光，一般采用曝光机，但曝光机存在曝光的节拍时间较长，且产出的产品对位精度不佳的情况。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能够减少曝光机的工作的节拍时间和提升产出产品的对位精度的方法。
为实现上述目的，本发明提供了一种曝光方法，包括步骤：
确认待曝光点在待曝光区域中的位置；
进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；
对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；
曝光机完成曝光操作。
可选的，所述确认待曝光点在待曝光区域中的位置的步骤，其中包括：
确认待曝光点位于抓取视野的中心位置。
可选的，所述确认待曝光点在待曝光区域中的位置的步骤，其中还包括：确认待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态。
本方案中，如果待曝光点是模糊的，那么在抓取时，会导致中心点的偏移，进而导致产出的产品对位精度不佳；而本方案则通过先确认并调整待曝光点，在待曝光点位于抓取视野的中心位置后，调整镜头进行对焦，并确认待曝光点处于最佳清晰状态，如此操作，不仅加快对焦的成功率，节省对焦时间，而且可以增加抓取成功率以推进制作流程，既减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率；而且，有利于保证产出的产品的对位精度，提高产品的良率。
可选的，所述待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功的步骤，其中还包括：镜头尝试进行自动抓取所述待曝光点，并确认抓取成功；多次抓取所述待曝光点，并确认抓取次数。
本方案中，在已经将曝光机的光源位置调整好后，利用曝光机的自动抓取功能对待曝光点进行抓取；虽然不是在最佳的抓取条件下进行抓取，但是仍然有可能抓取成功，如此操作，可以避免在其他步骤进行时，浪费抓取的机会，有利于加快抓取的进程；另外，确认抓取次数有利于提供经验，使得后续的抓取操作可以向抓取次数少的操作进行学习，有利于提高抓取的成功率和效率。
可选的，所述对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置的步骤，其中还包括：为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源；重复调整找到最佳光源，计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；当三倍标准差小于2时，所述曝光机使用曝光光罩完成曝光操作。
本方案中，鉴于市场上已有时曝光机采用每个待曝光区域共用一组光源的模式，这样会导致待曝光点的光源不佳，不利于待曝光点的抓取，延长曝光的节拍时间；使用同一组光源，会导致其中一个待曝光区域的光亮程度较好，而其他待曝光区域的光效果不好，进而对产品造成影响，甚至导致产品的品质下降；而本方案，采用每个待曝光区域独立使用一组光源的模式，则能够使每个待曝光区域的光源环境达到最佳化。这样就可以针对每个待曝光区域依次调整光源，不断重复调整后，找到每个待曝光区域的最佳光源。计算在最佳光源下的量测值的三倍标准差，当三倍标准差小于2时，符合要求，曝光机完成曝光操作。针对每个待曝光区域，找到每个待曝光区域所需要的最佳光源后，待曝光点和模糊程度在最佳光源下更加容易调节，同时增加产品的清晰度，进一步改善曝光机的节拍时间和产品对位精度，提升了产品的良率。
可选的，所述待曝光区域属于一块基板上对应曝光光罩大小的一块区域；所述基板划分为至少两块待曝光区域。
本方案中，待曝光区域属于一块基板上对应曝光光罩大小的一块区域，根据光罩的设计会有不同尺寸的基板，基板划分为至少两块待曝光区域，全部的待曝光区域构成整个基板，针对每个待曝光区域去调整光源，使得基板的局部得以完善，如此才能在曝光操作结束后，整个基板曝光出来的结果更好。
可选的，所述基板划分为六块待曝光区域。
本方案中，基板划分为六块待曝光区域，全部六块待曝光区域构成整个基板，划分为六块待曝光区域，可以使调整光源更加精细，光源照射的集中，在曝光操作结束后，整个基板得到较好的曝光结果。
本发明还提供了一种曝光方法，包括：
确认待曝光点位于抓取视野的中心位置；
确认待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态；
镜头尝试进行自动抓取所述待曝光点，并确认抓取成功；
多次抓取所述待曝光点，并确认抓取次数；
为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源，重复调整找到最佳光源；
计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；当三倍标准差小于2时，所述曝光机使用曝光光罩完成曝光操作。
本方案中，如果待曝光点不位于抓取视野的中心位置，那么会延长抓取待曝光点的时间；因而本方案采用通过先确认并调整待曝光点，使待曝光点位于抓取视野的中心的操作，可以增加待曝光点抓取成功率以推进制作流程，减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率。本方案中，如果待曝光点是模糊的，那么在抓取时，会导致中心点的偏移，进而导致产出的产品对位精度不佳；而本方案则通过先确认并调整待曝光点，在待曝光点位于抓取视野的中心位置后，再调整镜头进行对焦，并确认待曝光点处于最佳清晰状态，如此操作，不仅加快对焦的成功率，节省对焦时间，而且可以增加抓取成功率以推进制作流程，既减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率；而且，有利于保证产出的产品的对位精度，提高产品的良率。本方案中，在已经将曝光机的光源位置调整好后，利用曝光机的自动抓取功能对待曝光点进行抓取；虽然不是在最佳的抓取条件下进行抓取，但是仍然有可能抓取成功，确认抓取次数，可以避免在其他步骤进行时，浪费抓取的机会，有利于加快抓取的进程；另外，确认抓取次数有利于提供经验，使得后续的抓取操作可以向抓取次数少的操作进行学习，有利于提高抓取的成功率和效率。本方案中，鉴于市场上已有时曝光机采用每个待曝光区域共用一组光源的模式，这样会导致待曝光点的光源不佳，不利于待曝光点的抓取，延长曝光的节拍时间；使用同一组光源，会导致其中一个待曝光区域的光亮程度较好，而其他待曝光区域的光效果不好，进而对产品造成影响，甚至导致产品的品质下降；而本方案，采用每个待曝光区域独立使用一组光源的模式，则能够使每个待曝光区域的光源环境达到最佳化。这样就可以针对每个待曝光区域依次调整光源，不断重复调整后，找到每个待曝光区域的最佳光源。计算在最佳光源下的量测值的三倍标准差，当三倍标准差小于2时，符合要求，曝光机完成曝光操作。针对每个待曝光区域，找到每个待曝光区域所需要的最佳光源后，待曝光点和模糊程度在最佳光源下更加容易调节，同时增加产品的清晰度，进一步改善曝光机的节拍时间和产品对位精度，提升了产品的良率。
本发明还提供了一种用于显示面板制程的曝光装置，包括：
确认模块，用于确认待曝光点在待曝光区域中的位置；
抓取模块，用于进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；
光源调整模块，用于对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；
曝光机，用于在将待曝光点调整光源至适配位置后完成曝光操作。
本方案中，确认模块确认待曝光点在待曝光区域中的位置后，再进行待曝光点的抓取，如果不确认和调整待曝光点的位置而直接进行待曝光点的抓取，则很容易造成抓取失败，甚至增加曝光的节拍时间，使得曝光机单位时间可处理的产品的数量变少，影响曝光机的生产效率。本方案先通过抓取模块进行待曝光点的抓取并且在确认待曝光点抓取成功之后，再通过光源调整模块调整光源至适配位置。如此，曝光机可以在调整光源的步骤之后，才进行曝光操作，如此操作可以减少单个产品的曝光的节拍时间，避免曝光不足或者曝光过度的情况发生，而且有利于提高产出的产品的对位精度，并且有利于提高单位时间的产品产出，提高生产效率。
可选的，所述确认模块，用于确认待曝光点位于抓取视野的中心位置，待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态；所述抓取模块，用于镜头尝试进行自动抓取所述待曝光点，并确认抓取成功；多次抓取所述待曝光点，并确认抓取次数。
本方案中，如果待曝光点不位于抓取视野的中心位置，那么会延长抓取待曝光点的时间；因而本方案采用先通过确认模块确认并调整待曝光点，使待曝光点位于抓取视野的中心的操作，可以增加待曝光点抓取成功率以推进制作流程，减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率。本方案中，如果待曝光点是模糊的，那么在抓取时，会导致中心点的偏移，进而导致产出的产品对位精度不佳；而本方案则通过确认模块确认并调整待曝光点，在待曝光点位于抓取视野的中心位置后，调整镜头进行对焦，并确认待曝光点处于最佳清晰状态，如此操作，不仅加快对焦的成功率，节省对焦时间，而且可以增加抓取成功率以推进制作流程，既减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率；而且，有利于保证产出的产品的对位精度，提高产品的良率。在已经将曝光机的光源位置调整好后，利用曝光机的自动抓取功能对待曝光点进行抓取；虽然不是在最佳的抓取条件下通过抓取模块进行抓取，但是抓取模块仍然有可能抓取成功，如此操作，可以避免在其他步骤进行时，浪费抓取的机会，有利于加快抓取模块的抓取进程；另外，确认抓取模块的抓取次数有利于提供经验，使得后续的抓取操作可以向抓取次数少的操作进行学习，有利于提高抓取的成功率和效率。
可选的，所述光源调整模块，用于为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源，重复调整找到最佳光源，计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；所述曝光机用于在检测到量测值的三倍标准差小于2时，完成曝光操作。
本方案中，鉴于市场上已有时曝光机采用每个待曝光区域共用一组光源的模式，这样会导致待曝光点的光源不佳，不利于待曝光点的抓取，延长曝光的节拍时间；使用同一组光源，会导致其中一个待曝光区域的光亮程度较好，而其他待曝光区域的光效果不好，进而对产品造成影响，甚至导致产品的品质下降；而本方案，同过光源调整模块，为每个待曝光区域独立配置一组光源，使每个待曝光区域能够独立使用一组光源，则能够使每个待曝光区域的光源环境达到最佳化。这样就可以针对每个待曝光区域依次调整光源，不断重复调整后，找到每个待曝光区域的最佳光源。计算在最佳光源下的量测值的三倍标准差，当三倍标准差小于2时，符合要求，曝光机完成曝光操作。针对每个待曝光区域，找到每个待曝光区域所需要的最佳光源后，待曝光点和模糊程度在最佳光源下更加容易调节，同时增加产品的清晰度，进一步改善曝光机的节拍时间和产品对位精度，提升了产品的良率。
本发明的有益效果是：确认待曝光点在待曝光区域中的位置后，再进行待曝光点的抓取，如果不确认和调整待曝光点的位置而直接进行待曝光点的抓取，则很容易造成抓取失败，甚至增加曝光的节拍时间，使得曝光机单位时间可处理的产品的数量变少，影响曝光机的生产效率。本方案先进行待曝光点的抓取并且在确认待曝光点抓取成功之后，再调整光源至适配位置。如此，曝光机可以在调整光源的步骤之后，才进行曝光操作，如此操作可以减少单个产品的曝光的节拍时间，避免曝光不足或者曝光过度的情况发生，而且有利于提高产出的产品的对位精度，并且有利于提高单位时间的产品产出，提高生产效率。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
图1是本发明实施例一种曝光方法的应用流程图；
图2是本发明实施例一种曝光方法的应用最佳流程图；
图3是本发明实施例一种用于显示面板制程的曝光装置的示意图；
图4是本发明实施例调整前显示区待曝光点的示意图；
图5是本发明实施例调整前抓取前清晰度佳的待曝光点的示意图；
图6是本发明实施例调整后抓取前清晰度佳的待曝光点的示意图。
其中，10、曝光装置；20、确认模块；30、抓取模块；40、光源调整模块；50、曝光机。
具体实施方式
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。除非上下文明确地另有所指，否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。还应当理解的是，这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在，而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
如图1至图2所示，本发明实施例公开了一种曝光方法，包括步骤：
S11:确认待曝光点在待曝光区域中的位置；
S12:进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；
S13:对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；
S14:曝光机完成曝光操作。
确认待曝光点在待曝光区域中的位置后，再进行待曝光点的抓取，如果不确认和调整待曝光点的位置而直接进行待曝光点的抓取，则很容易造成抓取失败，甚至增加曝光的节拍时间，使得曝光机单位时间可处理的产品的数量变少，影响曝光机的生产效率。本方案先进行待曝光点的抓取并且在确认待曝光点抓取成功之后，再调整光源至适配位置。如此，曝光机可以在调整光源的步骤之后，才进行曝光操作，如此操作可以减少单个产品的曝光的节拍时间，避免曝光不足或者曝光过度的情况发生，而且有利于提高产出的产品的对位精度，并且有利于提高单位时间的产品产出，提高生产效率。
本实施例可选的，确认待曝光点在待曝光区域中的位置的步骤S11，其中包括：
S21:确认待曝光点位于抓取视野的中心位置。
本方案中，如果待曝光点不位于抓取视野的中心位置，那么会延长抓取待曝光点的时间；因而本方案采用通过先确认并调整待曝光点，使待曝光点位于抓取视野的中心的操作，可以增加待曝光点抓取成功率以推进制作流程，减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率。
本实施例可选的，确认待曝光点在待曝光区域中的位置的步骤S11，其中还包括：
S22:确认待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态。
本方案中，如果待曝光点是模糊的，那么在抓取时，会导致中心点的偏移，进而导致产出的产品对位精度不佳；而本方案则通过先确认并调整待曝光点，在待曝光点位于抓取视野的中心位置后，调整镜头进行对焦，并确认待曝光点处于最佳清晰状态，如此操作，不仅加快对焦的成功率，节省对焦时间，而且可以增加抓取成功率以推进制作流程，既减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率；而且，有利于保证产出的产品的对位精度，提高产品的良率。本实施例可选的，待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功的步骤S11，其中还包括：
S23:镜头尝试进行自动抓取待曝光点，并确认抓取成功；
多次抓取待曝光点，并确认抓取次数。
本方案中，在已经将曝光机的光源位置调整好后，利用曝光机的自动抓取功能对待曝光点进行抓取；虽然不是在最佳的抓取条件下进行抓取，但是仍然有可能抓取成功，如此操作，可以避免在其他步骤进行时，浪费抓取的机会，有利于加快抓取的进程；另外，确认抓取次数有利于提供经验，使得后续的抓取操作可以向抓取次数少的操作进行学习，有利于提高抓取的成功率和效率。
本实施例可选的，对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置的步骤S13，其中还包括：
S24:为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源,重复调整找到最佳光源；
S25:计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；
S26:当三倍标准差小于2时，曝光机完成曝光操作。
本方案中，鉴于市场上已有时曝光机采用每个待曝光区域共用一组光源的模式，这样会导致待曝光点的光源不佳，不利于待曝光点的抓取，延长曝光的节拍时间；使用同一组光源，会导致其中一个待曝光区域的光亮程度较好，而其他待曝光区域的光效果不好，进而对产品造成影响，甚至导致产品的品质下降；而本方案，采用每个待曝光区域独立使用一组光源的模式，则能够使每个待曝光区域的光源环境达到最佳化。这样就可以针对每个待曝光区域依次调整光源，不断重复调整后，找到每个待曝光区域的最佳光源。计算在最佳光源下的量测值的三倍标准差，当三倍标准差小于2时，符合要求，曝光机完成曝光操作。针对每个待曝光区域，找到每个待曝光区域所需要的最佳光源后，待曝光点和模糊程度在最佳光源下更加容易调节，同时增加产品的清晰度，进一步改善曝光机的节拍时间和产品对位精度，提升了产品的良率。
本实施例可选的，所述待曝光区域属于一块基板上对应曝光光罩大小的一块区域；所述基板划分为至少两块待曝光区域。
本方案中，待曝光区域属于一块基板上对应曝光光罩大小的一块区域，根据光罩的设计会有不同尺寸的基板，基板划分为至少两块待曝光区域，全部的待曝光区域构成整个基板，针对每个待曝光区域去调整光源，使得基板的局部得以完善，如此才能在曝光操作结束后，整个基板曝光出来的结果更好。
本实施例可选的，所述基板划分为六块待曝光区域。
本方案中，基板划分为六块待曝光区域，全部六块待曝光区域构成整个基板，划分为六块待曝光区域，可以使调整光源更加精细，光源照射的集中，在曝光操作结束后，整个基板得到较好的曝光结果。
作为本发明的另一实施例，参考图2所示，公开了另一种曝光方法，包括：
S21:确认待曝光点位于抓取视野的中心位置；
S22:确认待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态；
S23:镜头尝试进行自动抓取待曝光点，并确认抓取成功；
多次抓取待曝光点，并确认抓取次数；
S24:为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源,
重复调整找到最佳光源；
S25:计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；
S26:当三倍标准差小于2时，曝光机完成曝光操作。
本方案中，如果待曝光点不位于抓取视野的中心位置，那么会延长抓取待曝光点的时间；因而本方案采用通过先确认并调整待曝光点，使待曝光点位于抓取视野的中心的操作，可以增加待曝光点抓取成功率以推进制作流程，减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率。本方案中，如果待曝光点是模糊的，那么在抓取时，会导致中心点的偏移，进而导致产出的产品对位精度不佳；而本方案则通过先确认并调整待曝光点，在待曝光点位于抓取视野的中心位置后，再调整镜头进行对焦，并确认待曝光点处于最佳清晰状态，如此操作，不仅加快对焦的成功率，节省对焦时间，而且可以增加抓取成功率以推进制作流程，既减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率；而且，有利于保证产出的产品的对位精度，提高产品的良率。本方案中，在已经将曝光机的光源位置调整好后，利用曝光机的自动抓取功能对待曝光点进行抓取；虽然不是在最佳的抓取条件下进行抓取，但是仍然有可能抓取成功，确认抓取次数，可以避免在其他步骤进行时，浪费抓取的机会，有利于加快抓取的进程；另外，确认抓取次数有利于提供经验，使得后续的抓取操作可以向抓取次数少的操作进行学习，有利于提高抓取的成功率和效率。本方案中，鉴于市场上已有使曝光机采用每个待曝光区域共用一组光源的模式，这样会导致待曝光点的光源不佳，不利于待曝光点的抓取，延长曝光的节拍时间；使用同一组光源，会导致其中一个待曝光区域的光亮程度较好，而其他待曝光区域的光效果不好，进而对产品造成影响，甚至导致产品的品质下降；而本方案，采用每个待曝光区域独立使用一组光源的模式，则能够使每个待曝光区域的光源环境达到最佳化。这样就可以针对每个待曝光区域依次调整光源，不断重复调整后，找到每个待曝光区域的最佳光源。计算在最佳光源下的量测值的三倍标准差，当三倍标准差小于2时，符合要求，曝光机完成曝光操作。针对每个待曝光区域，找到每个待曝光区域所需要的最佳光源后，待曝光点和模糊程度在最佳光源下更加容易调节，同时增加产品的清晰度，进一步改善曝光机的节拍时间和产品对位精度，提升了产品的良率。
作为本发明的另一实施例，参考图3所示，公开了一种曝光装置10，包括：
确认模块20，用于确认待曝光点在待曝光区域中的位置；
抓取模块30，用于进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；
光源调整模块40，用于对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；
曝光机50，用于在将待曝光点调整光源至适配位置后完成曝光操作。
本方案中，确认模块确认待曝光点在待曝光区域中的位置后，再进行待曝光点的抓取，如果不确认和调整待曝光点的位置而直接进行待曝光点的抓取，则很容易造成抓取失败，甚至增加曝光的节拍时间，使得曝光机单位时间可处理的产品的数量变少，影响曝光机的生产效率。本方案先通过抓取模块进行待曝光点的抓取并且在确认待曝光点抓取成功之后，再通过光源调整模块调整光源至适配位置。如此，曝光机可以在调整光源的步骤之后，才进行曝光操作，如此操作可以减少单个产品的曝光的节拍时间，避免曝光不足或者曝光过度的情况发生，而且有利于提高产出的产品的对位精度，并且有利于提高单位时间的产品产出，提高生产效率。
本实施例可选的，确认模块20，用于确认待曝光点位于抓取视野的中心位置，待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态；抓取模块30，用于镜头尝试进行自动抓取待曝光点，并确认抓取成功；多次抓取待曝光点，并确认抓取次数。
本方案中，如果待曝光点不位于抓取视野的中心位置，那么会延长抓取待曝光点的时间；因而本方案采用先通过确认模块20确认并调整待曝光点，使待曝光点位于抓取视野的中心的操作，可以增加待曝光点抓取成功率以推进制作流程，减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率。本方案中，如果待曝光点是模糊的，那么在抓取时，会导致中心点的偏移，进而导致产出的产品对位精度不佳；而本方案则通过确认模块20确认并调整待曝光点，在待曝光点位于抓取视野的中心位置后，调整镜头进行对焦，并确认待曝光点处于最佳清晰状态，如此操作，不仅加快对焦的成功率，节省对焦时间，而且可以增加抓取成功率以推进制作流程，既减少抓取的时间，从而减少单个产品的生产时间，提高生产效率；而且，有利于保证产出的产品的对位精度，提高产品的良率；在已经将曝光机的光源位置调整好后，利用曝光机的自动抓取功能对待曝光点进行抓取；虽然不是在最佳的抓取条件下通过抓取模块30进行抓取，但是抓取模块30仍然有可能抓取成功，如此操作，可以避免在其他步骤进行时，浪费抓取的机会，有利于加快抓取模块30的抓取进程；另外，确认抓取模块30的抓取次数有利于提供经验，使得后续的抓取操作可以向抓取次数少的操作进行学习，有利于提高抓取的成功率和效率。
本实施例可选的，光源调整模块40，用于为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源，重复调整找到最佳光源，计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；曝光机50用于在检测到量测值的三倍标准差小于2时，完成曝光操作。
本方案中，鉴于市场上已有时曝光机采用每个待曝光区域共用一组光源的模式，这样会导致待曝光点的光源不佳，不利于待曝光点的抓取，延长曝光的节拍时间；使用同一组光源，会导致其中一个待曝光区域的光亮程度较好，而其他待曝光区域的光效果不好，进而对产品造成影响，甚至导致产品的品质下降；而本方案，同过光源调整模块40，为每个待曝光区域独立配置一组光源，使每个待曝光区域能够独立使用一组光源，则能够使每个待曝光区域的光源环境达到最佳化。这样就可以针对每个待曝光区域依次调整光源，不断重复调整后，找到每个待曝光区域的最佳光源。计算在最佳光源下的量测值的三倍标准差，当三倍标准差小于2时，符合要求，曝光机50完成曝光操作。针对每个待曝光区域，找到每个待曝光区域所需要的最佳光源后，待曝光点和模糊程度在最佳光源下更加容易调节，同时增加产品的清晰度，进一步改善曝光机的节拍时间和产品对位精度，提升了产品的良率。
本发明的面板可以是TN面板(全称为Twisted Nematic，即扭曲向列型面板)、IPS面板(In-PaneSwitcing，平面转换)、VA面板(Multi-domain Vertica Aignment，多象限垂直配向技术)，当然，也可以是其他类型的面板，适用即可。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种曝光方法，其特征在于，包括步骤：
确认待曝光点在待曝光区域中的位置；
进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；
对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；
曝光机使用曝光光罩完成曝光操作;
所述确认待曝光点在待曝光区域中的位置的步骤，其中包括：确认待曝光点位于抓取视野的中心位置；
所述确认待曝光点在待曝光区域中的位置的步骤，其中还包括：确认待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态；
所述待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功的步骤，其中还包括：镜头尝试进行自动抓取所述待曝光点，并确认抓取成功；多次抓取所述待曝光点，并确认抓取次数；
所述对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置的步骤，其中还包括：为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源，重复调整找到最佳光源；计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；
当三倍标准差小于2时，所述曝光机使用曝光光罩完成曝光操作。
2.如权利要求1所述的一种曝光方法，其特征在于，所述待曝光区域属于一块基板上对应曝光光罩大小的一块区域；所述基板划分为至少两块待曝光区域。
3.一种曝光方法，其特征在于，包括：
确认待曝光点位于抓取视野的中心位置；
确认待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态；
镜头尝试进行自动抓取所述待曝光点，并确认抓取成功；
多次抓取所述待曝光点，并确认抓取次数；
为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源，重复调整找到最佳光源；
计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；
当三倍标准差小于2时，所述曝光机使用曝光光罩完成曝光操作。
4.一种使用如权利要求1至3任意一项所述的曝光方法的曝光装置，其特征在于，包括：
确认模块，用于确认待曝光点在待曝光区域中的位置；
抓取模块，用于进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；
光源调整模块，用于对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；
曝光机，用于在将待曝光点调整光源至适配位置后完成曝光操作。
5.如权利要求4所述的一种曝光装置，其特征在于，所述确认模块，还用于确认待曝光点位于抓取视野的中心位置，待曝光点位于抓取视野的中心位置后，当待曝光点显示模糊时，调整镜头对焦，直至待曝光点显示为最佳清晰状态; 所述抓取模块，还用于镜头尝试进行自动抓取所述待曝光点，并确认抓取成功；多次抓取所述待曝光点，并确认抓取次数。
6.如权利要求5所述的一种曝光装置，其特征在于，所述光源调整模块还用于为每个待曝光区域独立配置一组光源，针对每个待曝光区域依次调整光源，重复调整找到最佳光源，计算最佳光源下的量测值的三倍标准差；所述曝光机用于在检测到量测值的三倍标准差小于2时，完成曝光操作。
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