CN108987937B - 一种双焦点赋形反射面天线的设计方法和装置 - Google Patents

一种双焦点赋形反射面天线的设计方法和装置 Download PDF

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Abstract

本发明实施例公开了一种双焦点赋形反射面天线的方法,该方法用于双焦点赋形反射面天线,所述双焦点赋形反射面天线包括相控阵馈源和赋形反射面;所述方法包括:预设赋型反射面为抛物面,确定赋型反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线;将方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得赋形反射面的曲面方程,由于反射面的方位向和距离采用不同的方程构建整个反射面的面型,这种反射面天线能够实现方位向±5°距离向±3°的扫描范围,并保证在扫描范围内,天线具有稳定的增益输出。本发明实施例还公开了一种双焦点赋形反射面天线的装置、双焦点赋形反射面天线和计算机可读存储介质。

Description

一种双焦点赋形反射面天线的设计方法和装置
技术领域
本发明涉及星载领域的多极化合成孔径雷达SAR技术,尤其涉及一种双焦点赋形反射面天线的方法、装置、双焦点赋形反射面天线和计算机可读存储介质。
背景技术
地球同步轨道多极化合成孔径雷达(SAR,Synthetic Aperture Radar)天线口径面积在1000m2以上,因此需要采取轻型可展开天线技术。由相控阵馈源和可展开的网状反射面共同组成的反射面天线以其所具有的展开机构相对简单、重量轻、效率高、可实现空间功率合成和波束满功率连续扫描的特点成为目前星载雷达领域大口径轻型可展开天线的主流,但以相控阵馈源反射面天线实现 SAR凝视成像所要求的宽角电扫描具有很高难度。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种双焦点赋形反射面天线的方法、装置、双焦点赋形反射面天线和计算机可读存储介质,能够利用有源相控阵馈源,通过对反射面天线进行双焦点的赋形设计,实现反射面天线的宽角扫描能力,从而为其工程应用方面提供有力支撑。
本发明的技术方案是这样实现的:
一方面,本发明实施例提供一种双焦点赋形反射面天线的方法,所述方法用于双焦点赋形反射面天线,所述双焦点赋形反射面天线包括相控阵馈源和赋形反射面;所述方法包括:
预设赋型反射面为抛物面,确定所述赋型反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线;
将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程。
在上述方案中,所述确定所述赋型反射面的方位向切面的曲线,包括:
确定赋型反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,根据所述第一参数和馈源的第一轴向位置生成所述赋型反射面的方位向切面的曲线。
在上述方案中,所述确定赋型反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,包括:
将位于抛物面轴向的单馈源设为原始照射源,将赋型反射面的参数设为预设参数,调整所述单馈源的轴向位置,当所述单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件时,确定所述单馈源的轴向位置为初始轴向位置;
在所述初始轴向位置处,将多个所述单馈源沿方位向排布成线馈源,调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当每个单馈源的波束宽度覆盖角度满足所述第一预设条件,且在满足第一预设条件的波束宽度覆盖角度内每个单馈源的方向图起伏满足第二预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第二参数,确定当前线馈源的轴向位置为第二轴向位置;
将每个单馈源的方向图数据采用仅相位加权的方法进行计算,获得天线的扫描波束,调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
在上述方案中,确定所述赋型反射面的距离向切面的曲线,包括:
在距离向将反射面进行偏馈设置,调整抛物线的焦距参数,当天线的距离向的扫描角度满足第四预设条件时,确定所述抛物线的焦距参数为最佳焦距参数,根据所述最佳焦距参数生成距离向切面的曲线。
在上述方案中,所述调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置,包括:
调整馈源的赋型反射面的面型、线馈源的轴向位置、馈源的布阵间距和馈源长度,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的面型、馈源的布阵间距和馈源长度为赋型反射面的第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
在上述方案中,在所述将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程之后,还包括:
基于所述赋形反射面的曲面方程对天线面型进行典型波束的计算,验证天线的性能。
一方面,本发明实施例还提供一种双焦点赋形反射面天线的装置,所述装置包括:确定单元和处理单元,其中,
所述确定单元,用于预设赋型反射面为抛物面,确定所述赋型反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线;
所述处理单元,用于将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程。
一方面,本发明实施例还提供一种双焦点赋形反射面天线,包括:相控阵馈源、赋形反射面;其中,所述相控阵馈源产生具有扫描能力的波束,所述具有扫描能力的波束通过所述赋形反射面后,实现反射面天线的大角度扫描。
在上述方案中,所述相控阵馈源摆放的位置为偏馈。
一方面,本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有一个或者多个程序,所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行,以实现如上任一项所述的方法的步骤。
本发明实施例提供了一种双焦点赋形反射面天线的方法、装置、双焦点赋形反射面天线和计算机可读存储介质,能够很好地利用有源相控阵馈源,通过对反射面天线进行双焦点的赋形设计,实现反射面天线的宽角扫描能力,从而为其工程应用方面提供有力支撑。同常规反射面天线相比,该赋形单反射面天线波束宽度能够覆盖方位向±5°,方位向±3°,以满足天线方位向大扫描角度的需求。
附图说明
图1为本发明实施例提供的双焦点赋形反射面天线的方法流程示意图;
图2为本发明实施例提供的馈源结构示意图;
图3为本发明实施例提供的双焦点反射面俯视图;
图4为本发明实施例提供的双焦点反射面侧视图;
图5为本发明实施例提供的天线法向波束信息;
图6为本发明实施例提供的天线方位向5°距离向0°波束信息;
图7为本发明实施例提供的天线方位向0°距离向3°波束信息;
图8为本发明实施例提供的天线方位向5°距离向3°波束信息;
图9为本发明实施例提供的双焦点赋形反射面天线的装置结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本发明实施例提供一种双焦点赋形反射面天线的方法,如图1所示,该方法可以包括:
步骤101、预设赋型反射面为抛物面,确定所述赋型反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线。
具体的,本发明实施例提供的方法可以用于双焦点赋形反射面天线,该双焦点赋形反射面天线至少包括:相控阵馈源和赋形反射面。
示例性的,二维平面有源相控阵馈源的设计可以如图2所示,馈源采用正方形切角成八边形的设计,以达到需要提供的扫描波束性能。可以在保证天线本身不进行机械转动的情况下,实现波束的二维电子扫描能力,灵活性得到提高。同时其工程上的易实现性为反射面天线的整个结构设计与稳定都提供了强有力的保障。图2的有源相控阵馈源参数如下表所示,其中,单元间距为相邻两个单馈源之间的距离。
表1有源相控阵馈源参数表
馈源尺寸 1920mm×1920mm
单元间距 30mm×30mm
单元数目(AZ×EL) 64×64
单元排布方式 矩形栅格
中心频率 5.4GHz
一种可能的实现方式中,所述确定所述赋型反射面的方位向切面的曲线,包括:确定赋型反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,根据所述第一参数和馈源的第一轴向位置生成所述赋型反射面的方位向切面的曲线。
具体确定赋型反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,包括:
将位于抛物面轴向的单馈源设为原始照射源,将赋型反射面的参数设为预设参数,调整所述单馈源的轴向位置,当所述单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件时,确定所述单馈源的轴向位置为初始轴向位置;
在所述初始轴向位置处,将多个所述单馈源沿方位向排布成线馈源,调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当每个单馈源的波束宽度覆盖角度满足所述第一预设条件,且在满足第一预设条件的波束宽度覆盖角度内每个单馈源的方向图起伏满足第二预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第二参数,确定当前线馈源的轴向位置为第二轴向位置;
将每个单馈源的方向图数据采用仅相位加权的方法进行计算,获得天线的扫描波束,调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
这里,单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件可以理解为,单馈源经反射面后的波束宽度覆盖±5°,以满足天线方位向扫描±5°的需求。初始轴向位置即为单馈源经反射面后的波束宽度覆盖±5°时的单馈源的轴向位置。
具体调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置,包括:
调整馈源的赋型反射面的面型、线馈源的轴向位置、馈源的布阵间距和馈源长度,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的面型、馈源的布阵间距和馈源长度为赋型反射面的第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
一种可能的实现方式中,确定所述赋型反射面的距离向切面的曲线,包括:
在距离向将反射面进行偏馈设置,调整抛物线的焦距参数,当天线的距离向的扫描角度满足第四预设条件时,确定所述抛物线的焦距参数为最佳焦距参数,根据所述最佳焦距参数生成距离向切面的曲线。
步骤102、将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程。
进一步地,在所述将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程之后,还包括:
基于所述赋形反射面的曲面方程对天线面型进行典型波束的计算,验证天线的性能。
示例性的,双焦点赋形反射面设计具体如下所述。
以抛物面为基础,将位于抛物面轴向的单馈源为原始照射源,通过优化馈源的轴向位置,使馈源经反射面后的波束宽度覆盖±5°,以满足天线方位向扫描±5°的需求,确定馈源的初始轴向位置,即调整单馈源的轴向位置,当单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件时,确定满足第一预设条件时单馈源的轴向位置为初始轴向位置。
在上一步中的轴向位置处,即初始轴向位置处,将馈源沿方位向排布成线馈源,通过优化赋型面的参数,以及小范围的调节馈源的轴向位置,使每个馈源的波束宽度均能覆盖±5°,且在±5°内每个馈源的方向图起伏最低,以满足±5°的扫描能力和低的副瓣电平要求,确定赋型面的参数和馈源的位置,即调整赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当每个单馈源的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件,且在满足第一预设条件的波束宽度覆盖角度内每个单馈源的方向图起伏满足第二预设条件时,确定满足第一预设条件和第二预设条件时当前赋型反射面的参数为第二参数,确定满足第一预设条件和第二预设条件时当前线馈源的轴向位置为第二轴向位置。
将每个馈源的方向图数据采用仅相位加权的方式,计算出天线的扫描波束,并验证方向图的副瓣以及波束宽度。其中,波束宽度可以通过优化馈源的布阵间距和馈源长度来确定,即可以通过调整馈源的布阵间距和馈源长度使波束宽度满足第三预设条件,副瓣电平则需要调节面型和馈源的轴向位置来优化,即可以通过调整馈源的赋型反射面的面型和线馈源的轴向位置使副瓣电平满足第三预设条件。
在距离向将反射面进行偏馈设计,优化出抛物线的最佳焦距参数,以满足距离向±3°的扫描能力和低副瓣的要求,即通过调整抛物线的焦距参数,使天线的距离向的扫描角度满足第四预设条件,确定满足第四预设条件时抛物线的焦距参数为最佳焦距参数。
将两个切面的曲线进行合并,形成总的曲面方程;然后对整个天线面型进行典型波束的计算,验证其性能,即将方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得赋形反射面的曲面方程。
采用以上方法进行计算,依据天线总体约束条件,初步确定了天线拓扑构型,均有良好性能。
单反射面的面型为赋型面,反射面方程为:
Figure BDA0001683546500000071
其中,F1=10.9,F2=9.5,k=0.05,a=1.2,其中,F1、F2为双焦点反射面的焦距,k为伸缩因子,a为曲率因子,反射面口径AZ×EL为:24m×22m。馈源距离赋型面顶点的距离为10m。天线结构参数定义如图3、图4所示。
反射面双焦点赋形设计,为了使反射面天线的二维扫描能力达到工程应用中的技术指标要求,反射面的方位向和距离向分别采用不同的曲线进行赋形,得到反射面的二维赋形方程,保证其在两个维度上获取不同的波束扫描能力。
对上述方法获得的反射面天线性能分析,天线波束指向为法向的方向图如图5;天线波束指向为方位向5°,距离向0°方向图如图6;天线波束指向为方位向0°,距离向3°方向图如图7;天线波束指向为方位向5°,距离向3°方向图如图8。
天线不同扫描角度下的方向性系数如下表2所示,表2中的横轴角度为距离向,纵轴角度为方位向。从表2中可以看出,随着扫描角度的变化方向性系数的变化很小。
表2
Figure BDA0001683546500000081
天线方位向波束宽度随扫描角度变化如下表3所示,表3中的横轴角度为距离向,纵轴角度为方位向。从表3中可以看出,随着扫描角度的变化天线方位向波束宽度的变化很小。
表3
Figure BDA0001683546500000091
天线距离向波束宽度随扫描角度变化如下表4所示,表4中的横轴角度为距离向,纵轴角度为方位向。从表4中可以看出,随着扫描角度的变化天线距离向波束宽度的变化很小。
表4
Figure BDA0001683546500000092
Figure BDA0001683546500000101
天线方位向副瓣电平随扫描角度变化如下表5所示,表5中的横轴角度为距离向,纵轴角度为方位向。从表5中可以看出,随着扫描角度的变化天线方位向副瓣电平的变化很小。
表5
Figure BDA0001683546500000102
天线距离向副瓣电平随扫描角度变化如下表6所示,表6中的横轴角度为距离向,纵轴角度为方位向。从表6中可以看出,随着扫描角度的变化天线距离向副瓣电平的变化很小。
表6
Figure BDA0001683546500000103
Figure BDA0001683546500000111
从上述各个表中可以看出,随扫描角度变化,方向性系数、方位向波束宽度、距离向波束宽度、方位向副瓣电平、距离向副瓣电平的均变化很小。综上,双焦点赋形反射面天线具有良好的宽角二维扫描能力,并且具有工程的可实现性,能够满足设计需求。
本发明实施例提供的双焦点赋形反射面天线的方法,能够很好地利用有源相控阵馈源,通过对反射面天线进行双焦点的赋形设计,实现反射面天线的宽角扫描能力,从而为其工程应用方面提供有力支撑。同常规反射面天线相比,该赋形单反射面天线波束宽度能够覆盖方位向±5°,方位向±3°,以满足天线方位向大扫描角度的需求。
本发明实施例还提供一种双焦点赋形反射面天线的装置20,如图9所示,所述装置包括:确定单元201和处理单元202,其中,
所述确定单元201,用于预设赋型反射面为抛物面,确定所述赋型反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线;
所述处理单元202,用于将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程。
进一步地,所述确定单元201,具体用于确定赋型反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,根据所述第一参数和馈源的第一轴向位置生成所述赋型反射面的方位向切面的曲线。
进一步地,所述确定单元201,具体用于:
将位于抛物面轴向的单馈源设为原始照射源,将赋型反射面的参数设为预设参数,调整所述单馈源的轴向位置,当所述单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件时,确定所述单馈源的轴向位置为初始轴向位置;
在所述初始轴向位置处,将多个所述单馈源沿方位向排布成线馈源,调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当每个单馈源的波束宽度覆盖角度满足所述第一预设条件,且在满足第一预设条件的波束宽度覆盖角度内每个单馈源的方向图起伏满足第二预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第二参数,确定当前线馈源的轴向位置为第二轴向位置;
将每个单馈源的方向图数据采用仅相位加权的方法进行计算,获得天线的扫描波束,调整所述赋型反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
进一步地,所述确定单元201,具体用于:
在距离向将反射面进行偏馈设置,调整抛物线的焦距参数,当天线的距离向的扫描角度满足第四预设条件时,确定所述抛物线的焦距参数为最佳焦距参数,根据所述最佳焦距参数生成距离向切面的曲线。
进一步地,所述确定单元201,具体用于:
调整馈源的赋型反射面的面型、线馈源的轴向位置、馈源的布阵间距和馈源长度,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋型反射面的面型、馈源的布阵间距和馈源长度为赋型反射面的第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
进一步地,所述处理单元202,还用于基于所述赋形反射面的曲面方程对天线面型进行典型波束的计算,验证天线的性能。
具体的,本发明实施例提供的双焦点赋形反射面天线的装置的理解可以参考上述双焦点赋形反射面天线的方法实施例的说明,本发明实施例在此不再赘述。
本发明实施例还提供一种双焦点赋形反射面天线,包括:相控阵馈源、赋形反射面;其中,所述相控阵馈源产生具有扫描能力的波束,所述具有扫描能力的波束通过所述赋形反射面后,实现反射面天线的大角度扫描。
其中,所述相控阵馈源摆放的位置为偏馈。
本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有一个或者多个程序,所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行,以实现如上所述的方法的步骤。
本领域内的技术人员应明白,本发明的实施例可提供为方法、***、或计算机程序产品。因此,本发明可采用硬件实施例、软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且,本发明可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器和光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。
本发明是参照根据本发明实施例的方法、设备(***)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器,使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中,使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品,该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上,使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理,从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种双焦点赋形反射面天线的设计方法,其特征在于,所述方法用于双焦点赋形反射面天线,所述双焦点赋形反射面天线包括相控阵馈源和赋形反射面;所述方法包括:
预设赋形反射面为抛物面,确定所述赋形反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线;
将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程;
所述确定所述赋形反射面的方位向切面的曲线,包括:
确定赋形反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置;
根据赋形反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,生成所述赋形反射面的方位向切面的曲线;其中,所述第一参数,包括所述赋形反射面的面型、馈源的布阵间距和馈源长度;所述第一轴向位置,是通过以下方式确定的:
将位于抛物面轴向的单馈源设为原始照射源,将每个单馈源的方向图数据采用仅相位加权的方法进行计算,获得天线的扫描波束,调整所述赋形反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋形反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置;所述第三预设条件,表示所述天线波束宽度能够覆盖方向位±5°和±3°,且,所述副瓣电平随扫描角度的变化改变微弱;其中,所述线馈源,是在初始轴向位置处,将多个所述单馈源沿方位向排布得到的;所述初始轴向位置,是将位于抛物面轴向的所述单馈源设为原始照射源,将赋形反射面的参数设为预设参数,调整所述单馈源的轴向位置,当所述单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件时,确定的所述单馈源的轴向位置;所述第一预设条件,表示所述单馈源经所述反射面后的波束宽度覆盖±5°;
所述确定所述赋形反射面的距离向切面的曲线,包括:
在距离向将反射面进行偏馈设置,根据抛物线的最佳焦距参数生成所述距离向切面的曲线;其中,所述最佳焦距参数,表示能够满足距离向±3°的扫描能力和低副瓣的要求时的聚焦参数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述调整所述赋形反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋形反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置,包括:
调整馈源的赋形反射面的面型、线馈源的轴向位置、馈源的布阵间距和馈源长度,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋形反射面的面型、馈源的布阵间距和馈源长度为赋形反射面的第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程之后,还包括:
基于所述赋形反射面的曲面方程对天线面型进行典型波束的计算,验证天线的性能。
4.一种双焦点赋形反射面天线的设计装置,其特征在于,所述装置包括:确定单元和处理单元,其中,
所述确定单元,用于预设赋形反射面为抛物面,确定所述赋形反射面的方位向切面的曲线和距离向切面的曲线;
所述处理单元,用于将所述方位向切面的曲线和距离向切面的曲线进行合并处理,获得所述赋形反射面的曲面方程;
其中,所述确定单元,用于确定所述赋形反射面的方位向切面的曲线,包括:
根据赋形反射面的第一参数和馈源的第一轴向位置,生成所述赋形反射面的方位向切面的曲线;其中,所述第一参数,包括所述赋形反射面的面型、馈源的布阵间距和馈源长度;所述第一轴向位置,是通过以下方式确定的:
将位于抛物面轴向的单馈源设为原始照射源,将每个单馈源的方向图数据采用仅相位加权的方法进行计算,获得天线的扫描波束,调整所述赋形反射面的参数和线馈源的轴向位置,当所述方向图的副瓣电平和扫描波束的波束宽度满足第三预设条件时,确定当前赋形反射面的参数为第一参数,确定当前线馈源的轴向位置为第一轴向位置;所述第三预设条件,表示所述天线波束宽度能够覆盖方向位±5°和±3°,且,所述副瓣电平随扫描角度的变化改变微弱;其中,所述线馈源,是在初始轴向位置处,将多个所述单馈源沿方位向排布得到的;所述初始轴向位置,是将位于抛物面轴向的所述单馈源设为原始照射源,将赋形反射面的参数设为预设参数,调整所述单馈源的轴向位置,当所述单馈源经反射面后的波束宽度覆盖角度满足第一预设条件时,确定的所述单馈源的轴向位置;所述第一预设条件,表示所述单馈源经所述反射面后的波束宽度覆盖±5°;
所述确定单元,用于确定所述赋形反射面的距离向切面的曲线,包括:
在距离向将反射面进行偏馈设置,根据抛物线的最佳焦距参数生成所述距离向切面的曲线;其中,所述最佳焦距参数,表示能够满足距离向±3°的扫描能力和低副瓣的要求时的聚焦参数。
5.一种双焦点赋形反射面天线,所述双焦点赋形反射面天线,是通过权利要求1所述的方法得到的,其特征在于,包括:相控阵馈源、赋形反射面;其中,所述相控阵馈源产生具有扫描能力的波束,所述具有扫描能力的波束通过所述赋形反射面后,实现反射面天线的大角度扫描。
6.根据权利要求5所述的天线,其特征在于,所述相控阵馈源摆放的位置为偏馈。
7.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质存储有一个或者多个程序,所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行,以实现如权利要求1至3任一项所述的方法的步骤。
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