CN108983550A - 一种水溶性感光干膜及其制备方法 - Google Patents

一种水溶性感光干膜及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108983550A
CN108983550A CN201810876497.1A CN201810876497A CN108983550A CN 108983550 A CN108983550 A CN 108983550A CN 201810876497 A CN201810876497 A CN 201810876497A CN 108983550 A CN108983550 A CN 108983550A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dry film
water soluble
soluble light
sensitive dry
acetone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810876497.1A
Other languages
English (en)
Inventor
徐光洪
罗业伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Thailand And Photoelectric Co Ltd
Original Assignee
Guangdong Thailand And Photoelectric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Thailand And Photoelectric Co Ltd filed Critical Guangdong Thailand And Photoelectric Co Ltd
Priority to CN201810876497.1A priority Critical patent/CN108983550A/zh
Publication of CN108983550A publication Critical patent/CN108983550A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

本发明公开了一种水溶性感光干膜，包括如下重量百分比组分：酸酐改性丙烯酸树脂25‑27％；改性丙烯酸树脂36‑38％；增塑剂DPHA单体1.8‑2％；三羟甲基三丙烯酸酯13‑14％；丙酮8‑9％；三苯甲烷染料0.1‑0.2％；4‑甲硫基苯基3‑4％；2‑异丙基硫1‑1.5％；2‑羟基‑2‑甲基‑1‑苯基丙酮0.8‑1％；甲醇5.6‑5.7％；品绿0.03％。此外，本发明还公开了一种水溶性感光干膜的制备方法。

Description

一种水溶性感光干膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及感光膜领域，具体涉及一种水溶性感光干膜及其制备方法。
背景技术
感光干膜为在印制线路板行业的一种光学材料，干膜在涂装中是相对湿膜而言的,干膜是一种高分子的化合物，它通过紫外线的照射后能够产生一种聚合反应(由单体合成聚合物的反应过程)形成一种稳定的物质附着于板面，从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能。湿膜其缺点是精细度达不到干膜的的精细度，生产效率也比较慢。
发明内容
本发明的目的是提供一种水溶性感光干膜，该更易溶于水，提高了容膜量，同时本发明还提供该干膜的制备方法。
本发明的具体方案如下：一种水溶性感光干膜，包括如下重量百分比组分：
其中，酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g；
改性丙烯酸树脂的固含量45％，粘度Z3-Z4，酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
在上述的水溶性感光干膜中，包括如下重量百分比组分：
同时，本发明还公开一种如上述的水溶性感光干膜制备方法，所述的方法为：将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再依次加入甲醇，丙酮，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时。
本发明相对于现有技术具有如下的优点及效果：
本发明对干膜显影时的容膜量大大的增加。干膜在显影时会将未曝光部分去除，其药膜会溶解在显影液内，但浓度会达到一定要求就要换显影液。此发明对药膜更易溶于水，提高了容膜量。
具体实施方式
下面结合实施例，对本发明作进一步的描述，但不构成对本发明的任何限制，任何在本发明权利要求范围所做的有限次的修改，仍在本发明的权利要求范围内。
实施例1
一种水溶性感光干膜中，包括如下重量百分比组分：
其中，酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g；
改性丙烯酸树脂的固含量45％，粘度Z3-Z4，酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
其制备方法为：将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再依次加入甲醇，丙酮，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时。
实施例2
一种水溶性感光干膜中，包括如下重量百分比组分：
其中，酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g；
改性丙烯酸树脂的固含量45％，粘度Z3-Z4，酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
其制备方法为：将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再依次加入甲醇，丙酮，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时,温度为80-120℃
实施例3
一种水溶性感光干膜中，包括如下重量百分比组分：
其中，酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g；
改性丙烯酸树脂的固含量45％，粘度Z3-Z4，酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
其制备方法为：将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再依次加入甲醇，丙酮，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时，温度为80-120℃。
本发明实施例1-3的干膜在干膜显影时的容膜量大大的增加。干膜在显影时会将未曝光部分去除，其药膜会溶解在显影液内，但浓度会达到一定要求就要换显影液。此发明对药膜更易溶于水，提高了容膜量
上述实施例为本发明较佳的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其它的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种水溶性感光干膜，其特征在于，包括如下重量百分比组分：
其中，酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g；
改性丙烯酸树脂的固含量45％，粘度Z3-Z4，酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
2.根据权利要求1所述的水溶性感光干膜，其特征在于，包括如下重量百分比组分：
3.一种如权利要求1或2所述的水溶性感光干膜制备方法，其特征在于，所述的方法为：将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再依次加入甲醇，丙酮，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时，反应温度140℃。
CN201810876497.1A 2018-08-03 2018-08-03 一种水溶性感光干膜及其制备方法 Pending CN108983550A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810876497.1A CN108983550A (zh) 2018-08-03 2018-08-03 一种水溶性感光干膜及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810876497.1A CN108983550A (zh) 2018-08-03 2018-08-03 一种水溶性感光干膜及其制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108983550A true CN108983550A (zh) 2018-12-11

Family

ID=64555206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810876497.1A Pending CN108983550A (zh) 2018-08-03 2018-08-03 一种水溶性感光干膜及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108983550A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114456425A (zh) * 2021-12-23 2022-05-10 河源诚展科技有限公司 一种感光干膜及其制备方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1545643A (zh) * 2001-08-21 2004-11-10 �������⻯ѧƷ�ع����޹�˾ 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用
JP2006268014A (ja) * 2005-02-05 2006-10-05 Eternal Chemical Co Ltd ハロゲンフリードライフィルム感光性樹脂組成物
CN101718953A (zh) * 2008-10-09 2010-06-02 北京印刷学院 一种制作射频识别(rfid)标签天线的紫外光固化银导电浆料
CN101952269A (zh) * 2007-10-10 2011-01-19 巴斯夫欧洲公司 锍盐引发剂
CN105938296A (zh) * 2015-03-04 2016-09-14 太阳油墨制造株式会社 抗蚀剂组合物和干膜
CN105938297A (zh) * 2015-03-04 2016-09-14 太阳油墨制造株式会社 抗蚀剂组合物和干膜
US20160313642A1 (en) * 2015-04-21 2016-10-27 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Photosensitive polyimide compositions
CN106867373A (zh) * 2017-03-28 2017-06-20 惠州市潮新科数字器材科技有限公司 Uv感光胶组合物及其在免电化学处理ctp版中的应用

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1545643A (zh) * 2001-08-21 2004-11-10 �������⻯ѧƷ�ع����޹�˾ 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用
JP2006268014A (ja) * 2005-02-05 2006-10-05 Eternal Chemical Co Ltd ハロゲンフリードライフィルム感光性樹脂組成物
CN101952269A (zh) * 2007-10-10 2011-01-19 巴斯夫欧洲公司 锍盐引发剂
CN101718953A (zh) * 2008-10-09 2010-06-02 北京印刷学院 一种制作射频识别(rfid)标签天线的紫外光固化银导电浆料
CN105938296A (zh) * 2015-03-04 2016-09-14 太阳油墨制造株式会社 抗蚀剂组合物和干膜
CN105938297A (zh) * 2015-03-04 2016-09-14 太阳油墨制造株式会社 抗蚀剂组合物和干膜
US20160313642A1 (en) * 2015-04-21 2016-10-27 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Photosensitive polyimide compositions
CN106867373A (zh) * 2017-03-28 2017-06-20 惠州市潮新科数字器材科技有限公司 Uv感光胶组合物及其在免电化学处理ctp版中的应用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114456425A (zh) * 2021-12-23 2022-05-10 河源诚展科技有限公司 一种感光干膜及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7709545B2 (en) Benzophenone/thioxanthone derivatives and their use in photopolymerizable compositions
CN103608396A (zh) 树脂组合物
CN107987244B (zh) 一种水性光敏超分子聚氨酯树脂及其制备方法与应用
JP6904439B2 (ja) レジスト組成物およびレジスト膜
TW201343791A (zh) 含梯狀矽倍半氧烷(silsesquioxane)高分子之光學薄膜用樹脂組成物
CN108983550A (zh) 一种水溶性感光干膜及其制备方法
DE502008001338D1 (de) Herstellung von acrylathaftklebemassen
CN110885633A (zh) 一种自由基光固化离型膜及其制备方法
CN103881031B (zh) 一种光固化涂料专用有机硅树脂及其制备工艺
US9523916B2 (en) Photoresist and methods of preparing and using the same
BR112013013274A2 (pt) polímero, polímero enxertado, composição de aglutinante aquoso, processo para preparar o polímero, e, produto de fibra de vidro
TW574628B (en) High resolution positive acting dry film photoresist
JPH02118575A (ja) 光二量化性重合体組成物、その製造方法およびスクリーン印刷用フォトステンシル
JP2021504537A (ja) 官能化された部分加水分解ポリ酢酸ビニルを製造する方法
US20150370168A1 (en) Negative photoresist and methods of preparing and using the same
US8288580B2 (en) Benzophenone compound
JP6325371B2 (ja) イミド基含有樹脂およびイミド基含有樹脂組成物
JP6741854B2 (ja) 新規カチオン型光開始剤、並びにその製造方法及び使用
CN110003365B (zh) 一种大分子光引发剂及其制备方法
KR102281050B1 (ko) 평탄화막용 또는 마이크로렌즈용 수지 조성물
CN108291007B (zh) 树脂组合物
CN105837731A (zh) 大分子光引发剂及其制备方法
CN102301279B (zh) 正型感光性绝缘树脂组合物及使用该组合物的图形形成方法
JP2002097267A (ja) 新規半芳香族ポリアミドおよびその製造法
JPS6210642A (ja) 感光性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20181211

RJ01 Rejection of invention patent application after publication