CN108919557A - 彩色滤光基板的制作方法 - Google Patents

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陈孝贤
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Abstract

本申请提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括步骤：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层；通过光刻工艺在显示区域对应的黑色矩阵层上形成色阻层，在***区域形成由色阻层材料制成的色阻凸台；在色阻层和色阻凸台上形成一导电层。本申请通过在形成色阻层的同时，于衬底基板的***区域形成色阻凸台，而后形成导电层，没有新增工艺便可实现阵列基板和彩色滤光基板的导通，从而节省了点胶工艺时间，降低了材料、混胶人力成本。

Description

彩色滤光基板的制作方法
技术领域
本申请涉及一种彩色滤光基板技术，特别涉及一种彩色滤光基板的制作方法。
背景技术
随着薄膜晶体管液晶显示器技术的发展，液晶显示器的应用越来越广，也备受青睐。
在液晶显示器的制作工艺中，包括导通彩色滤光基板和阵列基板以及对位压合成盒。其中液晶显示器主要通过导电金球导通彩色滤光基板和阵列基板，通过阵列基板侧COF实现CF信号传输。
在设置导电金球时，通常采用点胶工艺，将混有导电金球的框胶，涂至电信号转换图形区域的位置(显示区域的***)，并进行压合固化后，实现彩色滤光基板和阵列基板的导通。
但是，传统的导电金球采用化学镀的方法制成，污染严重，且金本身为贵金属，价格昂贵。另外点胶工艺耗时长，导致制程时间较长。
故，需要提供一种环保、低成本且高效的彩色滤光基板的制作方法，以解决上述技术问题。
发明内容
本申请实施例提供一种环保、低成本且高效的彩色滤光基板的制作方法；以解决现有的彩色滤光基板和阵列基板通过导电金球进行导通，导致成本高、污染大且制程时间长的技术问题。
本申请实施例提供一种彩色滤光基板的制作方法，所述彩色滤光基板的制作方法包括以下步骤：
步骤S1：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层，所述衬底基板包括一显示区域和设置在所述显示区***的***区域，所述黑色矩阵层设置在所述显示区域；
步骤S2：通过光刻工艺在所述显示区域对应的所述黑色矩阵层上形成色阻层，在所述***区域形成由所述色阻层材料制成的色阻凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度；
步骤S3：在所述色阻层和所述色阻凸台上形成一导电层，以使所述色阻凸台和对应设置在所述色阻凸台上的导电层组合构成用于导通所述彩色滤光基板和阵列基板的导电凸台。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一技术方案中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述步骤S2包括：
在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述***区域和所述黑色矩阵层；
通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的色阻凸台和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；
通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第二色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；
通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第二技术方案中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层和设置在所述基层上的第二层，所述步骤S2包括：
在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述***区域和所述黑色矩阵层；
通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；
通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；
通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第三技术方案中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层、设置在所述基层上的第二层和设置在所述第二层上的第三层，所述步骤S2包括：
在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述***区域和所述黑色矩阵层；
通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；
通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述第二层和所述黑色矩阵层；
通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的第三层和对应于所述显示区域的第三色阻单元层。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第二和第三技术方案中，所述基层由红色色阻材料制成，所述基层的厚度介于1微米至4微米之间。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述导电凸台厚度介于0.1微米至9微米之间。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述色阻凸台的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种；
当所述色阻凸台为棱台状时，所述色阻凸台的侧面和底面的夹角介于30°-50°之间。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，在所述步骤S3包括：
采用涂布工艺在所述色阻层和所述色阻凸台上涂布一层透明导电液；
干燥所述透明导电液，形成导电层。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述导电层材料为AgNW、PEDOT:PSS、CNT、Graphene中的一种。
在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述导电凸台设置有至少两排。
本申请还涉及一种彩色滤光基板，其包括：
衬底基板，包括显示区域和设置在所述显示区域***的***区域；
黑色矩阵层，设置在所述显示区域上；
色阻层，设置在所述显示区域上并覆盖所述黑色矩阵层；
色阻凸台，设置在所述***区域；以及
导电层，设置在所述色阻层和所述色阻凸台上；
所述色阻凸台和设置在所述色阻凸台上的导电层组合形成导电凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度，用于成盒时支撑和导通所述彩色滤光基板和阵列基板。
在本申请的彩色滤光基板中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元，所述色阻凸台由一种色阻材料或两种色阻材料堆叠或三种色阻材料堆叠形成。
在本申请的彩色滤光基板中，当所述色阻凸台由两种色阻材料堆叠或三种色阻材料堆叠形成时，所述色阻凸台包括设置在所述衬底基板上的基层，所述基层由红色色阻材料制成，所述基层的厚度介于1微米至4微米之间。
在本申请的彩色滤光基板中，所述色阻凸台的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种；
当所述色阻凸台为棱台状时，当所述色阻凸台为棱台状时，所述色阻凸台的侧面和底面的夹角介于30°-50°之间。
在本申请的彩色滤光基板中，所述导电层材料为AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)中的一种。
相较于现有技术的彩色滤光基板的制作方法，本申请的彩色滤光基板的制作方法通过在形成色阻层的同时，于衬底基板的***区域形成色阻凸台，而后形成导电层，没有新增工艺便可实现阵列基板和彩色滤光基板的导通，从而节省了点胶工艺时间，降低了材料、混胶人力成本；
另外，采用光刻方法形成色阻凸台，提高了色阻凸台的附着力，对位精度高，在另一方面，采用AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)等导电材料作为导电层替代ITO，可有效减少ITO脆裂风险，提高附着色阻凸台表面的性能；解决了现有的彩色滤光基板和阵列基板通过导电金球进行导通，导致成本高、污染大且制程时间长的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
图1为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一优先实施例的流程图；
图2为图1中步骤S2(形成色阻凸台步骤)的步骤流程图；
图3为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一优选实施例的步骤结构示意图；
图4为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一优先实施例的步骤S2的另一结构示意图；
图5为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第二优选实施例的形成色阻凸台的步骤流程图；
图6为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第二优先实施例的步骤结构示意图；
图7为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第三优选实施例的形成色阻凸台的步骤流程图；
图8为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第三优先实施例的步骤结构示意图；
图9为本申请的彩色滤光基板的优选实施例的结构示意图。
具体实施方式
请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本申请具体实施例，其不应被视为限制本申请未在此详述的其它具体实施例。
请参照图1至图3，图1为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一优先实施例的流程图；图2为图1中步骤S2(形成色阻凸台步骤)的步骤流程图；图3为本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一优选实施例的步骤结构示意图。
本第一优选实施例的彩色滤光基板的制作方法包括以下步骤：
步骤S1：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层，所述衬底基板包括一显示区域和设置在所述显示区***的***区域，所述黑色矩阵层设置在所述显示区域；
步骤S2：通过光刻工艺在所述显示区域对应的所述黑色矩阵层上形成色阻层，在所述***区域形成由所述色阻层材料制成的色阻凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度；
步骤S3：在所述色阻层和所述色阻凸台上形成一导电层，以使所述色阻凸台和对应设置在所述色阻凸台上的导电层组合构成导电凸台，用于导通所述彩色滤光基板和阵列基板。
在本第一优选实施例中，通过在衬底基板的显示区域形成色阻层的同时，在***区域形成由色阻材料制成的色阻凸台，而后在色阻凸台上设置一层导电层，以形成导电凸台，从而取代了现有技术的导电金球，因此本第一优选实施例在没有新增工艺的前提下，便可实现阵列基板和彩色滤光基板的导通，从而节省了点胶工艺时间，降低了材料、混胶人力成本，且达到绿色环保的目的；另外，采用光刻工艺形成色阻凸台，提高了色阻凸台的附着力，对位精度。
具体的，在本第一优选实施例的步骤S1中，在衬底基板11上形成图案化的黑色矩阵层12，衬底基板11包括一显示区域和设置在显示区***的***区域，黑色矩阵层12设置在显示区域。
其中，采用黄光工艺(涂布、曝光和显影)形成图案化的黑色矩阵层12。
在本第一优选实施例的步骤S2中，通过光刻工艺在显示区域对应的黑色矩阵层12上形成色阻层，在***区域形成由色阻层材料制成的色阻凸台134，色阻凸台134的厚度高于色阻层的厚度。
具体的，色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层131、第二色阻单元层132和第三色阻单元层133，步骤S2包括：
S201：在衬底基板11上涂布一层第一光刻胶，第一光刻胶覆盖***区域和黑色矩阵层12；
S202：通过第一光刻掩模板对第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于***区域的色阻凸台134和对应于显示区域的第一色阻单元层131；
S203：在衬底基板11上涂布一层第二光刻胶，第二光刻胶覆盖黑色矩阵层12；
S204：通过第二光刻掩模板对第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于显示区域的第二色阻单元层132；
S205：在衬底基板11上涂布一层第三光刻胶，第三光刻胶覆盖黑色矩阵层12；
S206：通过第三光刻掩模板对第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于显示区域的第三色阻单元层133。
其中，第一光刻掩模板可采用半色调掩模板或灰阶掩模板，以形成不同厚度的色阻凸台134和第一色阻单元层131，色阻凸台134的厚度大于第一色阻单元层131的厚度。第二光刻掩模板和第三光刻掩模板可采用全色调掩模板，以形成一样厚度的第二色阻单元层132和一样厚度的第三色阻单元层133。
需要说明的是，第一光刻胶、第二光刻胶和第三光刻胶的颜色不同，即第一光刻胶、第二光刻胶和第三光刻胶的颜色分别可以为红色、绿色或蓝色任一一种，只要三者颜色不同即可。
且步骤S201-S202用于形成第一色阻单元层131和色阻凸台134，步骤S203-S204用于形成第二色阻单元层132，步骤S205-S206用于形成第三色阻单元层133。步骤S201-S202、S203-S204和S205-S206三组步骤中没有先后之分，但本第一优选实施例以S201-S206的步骤顺序，且以第一光刻胶为红色光刻胶、第二光刻胶为绿色光刻胶和第三光刻胶为蓝色光刻胶为例进行说明。
在步骤S2中，色阻凸台134的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种。在本第一优选实施例中，色阻凸台134为棱台状。其中，色阻凸台134的侧面和底面的夹角α介于30°-50°之间，即30°≤α≤50°。
当本实施例的彩色滤光基板和阵列基板进行压合时，需要通过框胶进行稳定压合，其中框胶和色阻凸台134同排且间隔设置。因此将色阻凸台134的侧面和底面的夹角α设置为30°-50°之间，在保证彩色滤光基板和阵列基板具有稳定导通接触面积的前提下，有利于框胶的光照固化。
当然，为了使得本实施例的彩色滤光基板和阵列基板的压合导通更加稳定，在衬底基板11的***区域可以设置至少两排导电凸台。如图4。
在本第一优选实施例的步骤S3中，在色阻层和色阻凸台134上形成一导电层14。具体的，步骤S3包括：
S31：采用涂布工艺在色阻层和色阻凸台134上涂布一层透明导电液；
S32：干燥透明导电液，形成导电层14。
在步骤S3中，由于透明导电液具有流平性，在进行涂布时可以平坦第一色阻单元层131、第二色阻单元层132和第三色阻单元层133之间存在的高度差异，起到平坦的作用。
另外，导电液涂布在色阻凸台134的最外层表面，并形成图案，形成与彩色滤光基板的公共电极导通的导电凸台。且导电凸台的厚度依据成盒时，盒间隙的不同而不同，所以色阻凸台134和设置在色阻凸台134上的导电层14组合构成导电凸台，导电凸台厚度介于0.1微米至9微米之间。优选的，导电凸台为5.8微米。
另外，导电层材料为AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)中的一种。在步骤S3中，采用透明的导电液代替现有技术的ITO膜，可有效的减少ITO膜脆裂的风险，且采用涂布工艺使得导电层14具有良好的附着力。
这样便完成了本实施例的步骤过程。
请参照图5和图6，在第二优选实施例中，本实施例和第一优选实施例的不同之处在于，在步骤S2中，通过光刻工艺在显示区域对应的黑色矩阵层22上形成色阻层，在***区域形成由色阻层材料制成的色阻凸台，色阻凸台的厚度高于色阻层的厚度。
具体的，色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层231、第二色阻单元层232和第三色阻单元层233，色阻凸台包括基层234和设置在基层234上的第二层235，步骤S2包括：
S211：在衬底基板21上涂布一层第一光刻胶，第一光刻胶覆盖***区域和黑色矩阵层22；
S212：通过第一光刻掩模板对第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于***区域的基层234和对应于显示区域的第一色阻单元层231；
S213：在衬底基板21上涂布一层第二光刻胶，第二光刻胶覆盖基层234和黑色矩阵层22；
S214：通过第二光刻掩模板对第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于***区域的第二层235和对应于显示区域的第二色阻单元层232；
S215：在衬底基板11上涂布一层第三光刻胶，第三光刻胶覆盖黑色矩阵层22；
S216：通过第三光刻掩模板对第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于显示区域的第三色阻单元层233。
其中，第一光刻掩模板和第二光刻掩模板可采用半色调掩模板或灰阶掩模板，以获得不同厚度的色阻凸台的基层234和第一色阻单元层231，以及获得不同厚度的色阻凸台的第二层235和第二色阻单元层232。色阻凸台的厚度大于色阻层的厚度。第三光刻掩模板可采用全色调掩模板，以形成一样厚度的第三色阻单元层233。
当然，第一光刻掩模板和第二光刻掩模板也可以是其中一个采用半色调掩模板或灰阶掩模板，只要使得色阻凸台的厚度满足盒缝隙的要求的即可。
需要说明的是，第一光刻胶、第二光刻胶和第三光刻胶的颜色不同，即第一光刻胶、第二光刻胶和第三光刻胶的颜色分别可以为红色、绿色或蓝色任一一种，只要三者颜色不同即可。
且步骤S211-S212用于形成第一色阻单元层231和色阻凸台的基层234，步骤S213-S214用于形成第二色阻单元层232和色阻凸台的第二层235，步骤S215-S216用于形成第三色阻单元层233。步骤S213-S214紧跟于步骤S211-S212之后，步骤S211-S212和S215-S216两组步骤中没有先后之分，但本第二优选实施例以S211-S216的步骤顺序，且以第一光刻胶为红色光刻胶、第二光刻胶为绿色光刻胶和第三光刻胶为蓝色光刻胶为例进行说明。
在本第二优选实施例中，基层234由红色色阻材料制成，基层234的厚度介于1微米至4微米之间。其中优选制备红色色阻，以使红色色阻作为色阻凸台的基层，从而提高制程特性，且提高色阻凸台的稳定性。优选的，基层234的厚度为3微米。
其中导电层24设置在色阻凸台和色阻层上。
请参照图7和图8，在本第三优选实施例中，本实施例和第一优选实施例的不同之处在于，在步骤S2中，通过光刻工艺在显示区域对应的黑色矩阵层32上形成色阻层，在***区域形成由色阻层材料制成的色阻凸台，色阻凸台的厚度高于色阻层的厚度。
具体的，色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层331、第二色阻单元层332和第三色阻单元层333，色阻凸台包括设置在衬底基板31上的基层334、设置在基层334上的第二层335和设置在第二层335上的第三层336，步骤S2包括：
S231：在衬底基板31上涂布一层第一光刻胶，第一光刻胶覆盖***区域和所述黑色矩阵层32；
S232：通过第一光刻掩模板对第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于***区域的基层334和对应于显示区域的第一色阻单元层331；
S233：在衬底基板31上涂布一层第二光刻胶，第二光刻胶覆盖基层334和黑色矩阵层32；
S234：通过第二光刻掩模板对第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于***区域的第二层335和对应于显示区域的第二色阻单元层332；
S235：在衬底基板31上涂布一层第三光刻胶，第三光刻胶覆盖第二层335和黑色矩阵层32；
S236：通过第三光刻掩模板对第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于***区域的第三层336和对应于显示区域的第三色阻单元层333。
其中，第一光刻掩模板、第二光刻掩模板和第三光刻掩模板可采用半色调掩模板或灰阶掩模板，以获得不同厚度的色阻凸台的基层334和第一色阻单元层331，以及获得不同厚度的色阻凸台的第二层335和第二色阻单元层332，获得不同厚度的色阻凸台的第三层336和第三色阻单元层333。色阻凸台的厚度大于色阻层的厚度。
当然，第一光刻掩模板、第二光刻掩模板和第三光刻掩模板也可以是其中任一一个光刻掩模板或任一两个光刻掩模板采用半色调掩模板或灰阶掩模板，或三个光刻掩模板均采用全色调掩模板。只要使得色阻凸台的厚度满足盒缝隙的要求的即可。
需要说明的是，第一光刻胶、第二光刻胶和第三光刻胶的颜色不同，即第一光刻胶、第二光刻胶和第三光刻胶的颜色分别可以为红色、绿色或蓝色任一一种，只要三者颜色不同即可。
且步骤S221-S222用于形成第一色阻单元层331和色阻凸台的基层334，步骤S223-S224用于形成第二色阻单元层332和色阻凸台的第二层335，步骤S225-S226用于形成第三色阻单元层333。本第二优选实施例以S221-S226的步骤顺序，且以第一光刻胶为红色光刻胶、第二光刻胶为绿色光刻胶和第三光刻胶为蓝色光刻胶为例进行说明。
在本第三优选实施例中，基层334由红色色阻材料制成，基层334的厚度介于1微米至4微米之间。其中优选制备红色色阻，以使红色色阻作为色阻凸台的基层，从而提高制程特性，且提高色阻凸台的稳定性。优选的，基层334的厚度为3微米。
其中导电层34设置在色阻凸台和色阻层上。
请参照图9，本实施例的一种彩色滤光基板，其包括：
衬底基板41，包括显示区域和设置在所述显示区域***的***区域；
黑色矩阵层42，设置在所述显示区域上；
色阻层，设置在所述显示区域上并覆盖所述黑色矩阵层42；
色阻凸台，设置在所述***区域；以及
导电层44，设置在所述色阻层和所述色阻凸台上；
所述色阻凸台和设置在所述色阻凸台上的导电层44组合形成导电凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度，用于成盒时支撑和导通所述彩色滤光基板和阵列基板。
在本实施例的彩色滤光基板中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层431、第二色阻单元层432和第三色阻单元433，所述色阻凸台由一种色阻材料或两种色阻材料堆叠或三种色阻材料堆叠形成。
在本实施例中，色阻凸台由三种色阻材料堆叠形成，色阻凸台包括设置在衬底基板41上的基层434、设置在基层434上的第二层435和设置在第二层435上的第三层436。
在本实施例的彩色滤光基板中，当所述色阻凸台由两种色阻材料堆叠或三种色阻材料堆叠形成时，所述基层由红色色阻材料制成，所述基层的厚度介于1微米至4微米之间。
在本实施例的彩色滤光基板中，所述色阻凸台的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种；
当所述色阻凸台为棱台状时，当所述色阻凸台为棱台状时，所述色阻凸台的侧面和底面的夹角介于30°-50°之间。
在本实施例的彩色滤光基板中，所述导电层材料为AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)中的一种。
相较于现有技术的彩色滤光基板的制作方法，本申请的彩色滤光基板的制作方法通过在形成色阻层的同时，于衬底基板的***区域形成色阻凸台，而后形成导电层，没有新增工艺便可实现阵列基板和彩色滤光基板的导通，从而节省了点胶工艺时间，降低了材料、混胶人力成本；
另外，采用光刻方法形成色阻凸台，提高了色阻凸台的附着力，对位精度高，在另一方面，采用AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)等导电材料作为导电层替代ITO，可有效减少ITO脆裂风险，提高附着色阻凸台表面的性能；解决了现有的彩色滤光基板和阵列基板通过导电金球进行导通，导致成本高、污染大且制程时间长的技术问题。
本申请尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本公开，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本公开包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。此外，尽管本公开的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
综上所述，虽然本申请已以实施例揭露如上，实施例前的序号，如“第一”、“第二”等仅为描述方便而使用，对本申请各实施例的顺序不造成限制。并且，上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述彩色滤光基板的制作方法包括以下步骤：
步骤S1：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层，所述衬底基板包括一显示区域和设置在所述显示区***的***区域，所述黑色矩阵层设置在所述显示区域；
步骤S2：通过光刻工艺在所述显示区域对应的所述黑色矩阵层上形成色阻层，在所述***区域形成由所述色阻层材料制成的色阻凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度；
步骤S3：在所述色阻层和所述色阻凸台上形成一导电层，以使所述色阻凸台和对应设置在所述色阻凸台上的所述导电层组合构成用于导通所述彩色滤光基板和阵列基板的导电凸台。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述步骤S2包括：
在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述***区域和所述黑色矩阵层；
通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的色阻凸台和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；
通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第二色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；
通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。
3.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层和设置在所述基层上的第二层，所述步骤S2包括：
在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述***区域和所述黑色矩阵层；
通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；
通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；
通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。
4.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层、设置在所述基层上的第二层和设置在所述第二层上的第三层，所述步骤S2包括：
在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述***区域和所述黑色矩阵层；
通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；
通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层；
在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述第二层和所述黑色矩阵层；
通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述***区域的第三层和对应于所述显示区域的第三色阻单元层。
5.根据权利要求3-4任一项所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述基层由红色色阻材料制成，所述基层的厚度介于1微米至4微米之间。
6.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述导电凸台厚度介于0.1微米至9微米之间。
7.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述色阻凸台的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种；
当所述色阻凸台为棱台状时，所述色阻凸台的侧面和底面的夹角介于30°-50°之间。
8.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，在所述步骤S3包括：
采用涂布工艺在所述色阻层和所述色阻凸台上涂布一层透明导电液；
干燥所述透明导电液，形成导电层。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述导电层材料为AgNW、PEDOT:PSS、CNT、Graphene中的一种。
10.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述导电凸台设置有至少两排。
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