CN108790365A - 一种保证铟层厚度均匀性的装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了保证铟层厚度均匀性的装置及方法，该装置包括平面工作台、靶材基板、压条、铜丝、平面靶材、压板、压块和G字型夹具，靶材基板放置在平面工作台上，铜丝放置在靶材基板上，压条压住铜丝，铜丝长度延伸至压条外沿，平面靶材放置在铜丝上，平面靶材上设有压板，压板上设有压块，压条通过G字型夹具进行固定。该方法将铜丝分布在靶材基板上，并用压条和G字型夹具将铜丝固定在平面工作台上；在靶材基板上倒入溶化的铟，再将平面靶材贴合在铟上，然后在平面靶材上面放置压板和压块，利用重力将平面靶材与靶材基板之间多余的铟挤压出来。本发明能够确保靶材贴合过程中铟层的厚度均匀性，防止平面靶材的弯曲、变形、开裂。

Description

一种保证铟层厚度均匀性的装置及方法

技术领域

本发明涉及平面靶材贴合技术领域，具体涉及一种保证铟层厚度均匀性的装置及方法。

背景技术

现有技术中，用于显示器行业的平面靶材对平整度的要求很高，而平面靶材的品类众多，尺寸各异，靶材基板也是种类繁多，尺寸各异，各靶材和靶材基板的膨胀系数不一致，导致冷却后各个点的铟层厚度不均匀，从而导致贴合好的靶材弯曲、变形严重，不但无法满足显示器行业对平面靶材的平整度要求，同时在实际生产中会因为弯曲、变形、铟层厚度不均匀而导致的脱靶，靶材开裂等严重的问题产生。而在靶材贴合的过程中如果保证了靶材和靶材基板之间的铟层的厚度及均匀性，就能有效缓冲靶材和靶材基板之间的膨胀系数差，从而能消除由于靶材和靶材基板之间的膨胀系数差而导致的弯曲、变形等问题。

发明内容

本发明旨在提供一种保证铟层厚度均匀性的装置及方法。

本发明通过如下技术方案实现上述目的：一种保证铟层厚度均匀性的装置，包括平面工作台、靶材基板、压条、铜丝、平面靶材、压板、压块和G字型夹具，所述靶材基板放置在平面工作台上，所述铜丝放置在靶材基板上，所述压条压住铜丝，所述铜丝长度延伸至压条外沿，所述平面靶材放置在铜丝上，所述平面靶材上设有压板，所述压板上设有压块，所述压条通过 G字型夹具进行固定。

优选地，所述平面工作台上设有料槽，所述料槽安装在平面工作台四周。

优选地，所述平面工作台下端安装有若干支撑柱，所述支撑柱下端安装有万向轮。

优选地，所述压块的数量为若干个，若干所述压块在压板上对称分布。

优选地，所述铜丝的数量为若干个，若干所述铜丝均匀或不均匀地分布在靶材基板上。

一种保证铟层厚度均匀性的方法，包括以下步骤：

（1）将铜丝分布在靶材基板上，并用压条和G字型夹具将铜丝固定在平面工作台上；

（2）在靶材基板上倒入溶化的铟，再将平面靶材贴合在铟上，然后在平面靶材上面放置压板和压块，利用重力将平面靶材与靶材基板之间多余的铟挤压出来。

与现有技术相比，本发明的有益效果：能够确保靶材贴合过程中铟层的厚度、厚度均匀性，从而有效缓冲平面靶材和靶材基板因为材质、尺寸、膨胀系数等因素造成的热胀冷缩差异，防止平面靶材因热胀冷缩差异而产生的弯曲、变形，甚至是开裂等问题的产生。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为本发明的主视示意图；

图2为本发明的左视示意图；

图3为本发明的俯视示意图。

图中：1-平面工作台、2-靶材基板、3-压条、4-铜丝、5-铟层、6-平面靶材、7-压板、8-压块、9-G字型夹具、10-料槽。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“外沿”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，“若干”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

参照图1-3，一种保证铟层厚度均匀性的装置，包括平面工作台1、靶材基板2、压条3、铜丝4、平面靶材6、压板7、压块8、G字型夹具9、料槽10。

靶材基板2放置在平面工作台1上，铜丝4放置在靶材基板2上，压条3压住铜丝4进行固定，铜丝长度延伸至压条3外沿；平面靶材6放置在铜丝4上，平面靶材6上设有压板7，压板尺寸与平面靶材的尺寸相近，压板7上设有压块8；压条3通过 G字型夹具9进行固定。

G字型夹具9包括T型旋转手柄（图未标）、梯形螺纹丝杆（图未标）、加强型G字钢（图未标），加强型G字钢的底部压住平面工作台1的底面，加强型G字钢的顶部安装梯形螺纹丝杆，梯形螺纹丝杆的底部设有T型旋转手柄，T型旋转手柄对压条3进行压紧，可以方便调整夹持长度，适合不同类型的平面工作台和工装，梯形螺纹丝杆可保证对压条的夹持稳定。

平面工作台1下端安装有若干支撑柱（图未示），支撑柱下端安装有万向轮（图未示）。

平面工作台上设有料槽10，料槽10安装在平面工作台四周，料槽可以将残余的金属铟废料收集起来，以备后续重复利用。

压块的数量为若干个，若干压块在压板上对称分布。

铜丝的数量为若干个，若干铜丝均匀或不均匀地分布在靶材基板2上。

一种保证铟层厚度均匀性的方法，包括以下步骤：

（1）根据平面靶材和靶材基板的特性，如：材质、尺寸、膨胀系数等具体参数，将不同直径的铜丝根据实际数据分布在靶材基板上的不同部位，并用压条和G字型夹具将铜丝固定在平面工作台上；

（2）在靶材基板上倒入溶化的铟，再将平面靶材贴合在铟上，然后在平面靶材上面放置压板和压块，利用重力将平面靶材与靶材基板之间多余的铟挤压出来；从而使铟层更均匀，达到更好的贴合效果。

该方法中不同尺寸的铜丝分布在平面靶材和靶材基板之间，可以有效缓冲平面靶材和靶材基板由于材质、尺寸、膨胀系数等差异而造成的热胀冷缩差异，从而保证铟层的厚度均匀性，防止平面靶材和靶材基板因为热胀冷缩的差异而导致的最终产品弯曲、变形、甚至开裂等问题的产生；压板可以增大平面靶材的铜片层的受力面积，进而使铜片层受力均匀，防止因铜片层将不均匀的受力传导至平面靶材上，从而将平面靶材压裂或压弯等问题的产生。

在本发明技术方案中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明技术方案较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1. 一种保证铟层厚度均匀性的装置，其特征在于：包括平面工作台、靶材基板、压条、铜丝、平面靶材、压板、压块和G字型夹具，所述靶材基板放置在平面工作台上，所述铜丝放置在靶材基板上，所述压条压住铜丝，所述铜丝长度延伸至压条外沿，所述平面靶材放置在铜丝上，所述平面靶材上设有压板，所述压板上设有压块，所述压条通过 G字型夹具进行固定。

2.根据权利要求1所述的保证铟层厚度均匀性的装置，其特征在于：所述平面工作台上设有料槽，所述料槽安装在平面工作台四周。

3.根据权利要求1所述的保证铟层厚度均匀性的装置，其特征在于：所述平面工作台下端安装有若干支撑柱，所述支撑柱下端安装有万向轮。

4.根据权利要求1所述的保证铟层厚度均匀性的装置，其特征在于：所述压块的数量为若干个，若干所述压块在压板上对称分布。

5.根据权利要求1所述的保证铟层厚度均匀性的装置，其特征在于：所述铜丝的数量为若干个，若干所述铜丝均匀或不均匀地分布在靶材基板上。

6.一种保证铟层厚度均匀性的方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将铜丝分布在靶材基板上，并用压条和G字型夹具将铜丝固定在平面工作台上；

（2）在靶材基板上倒入溶化的铟，再将平面靶材贴合在铟上，然后在平面靶材上面放置压板和压块，利用重力将平面靶材与靶材基板之间多余的铟挤压出来。