CN108481530A - 转盘式倾转施釉装置 - Google Patents

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黎勤涛
韦郁芬
覃驿
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    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/044Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish

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Abstract

本发明提供一种转盘式倾转施釉装置,施釉电机使施釉机构向上移动,顶转气缸动作将推杆向下拉起,放置于传送带一上的碗坯向釉池的方向移动,随后吸盘一将待施釉的碗坯放置到托架上,顶转气缸通过推杆使顶针顶住碗坯,紧接着转盘转位,施釉电机通过丝杆驱动施釉机构向下移动,碗坯完全浸入釉水当中进行施釉,待施釉完成后施釉机构向上移动,转杆气缸使转座转动,从而使完成施釉的碗坯旋转,留于碗坯底部的釉水流出,随即转盘转位到吸盘二的位置,吸盘二将碗坯运至传送带二上送走,完成上釉过程,可用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤,克服传统上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、自动化程度不高的缺陷。

Description

转盘式倾转施釉装置
技术领域
本发明涉及日用陶瓷生产技术,特别是一种用于日用陶瓷生产过程中的自动上釉装置。
背景技术
在以往的日用陶瓷生产中,各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因,施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉,手工浸釉生产效率低,同时由于在施釉过程中手指接触坯体,使坯体在施釉后留下手指印,影响坯体的施釉质量。另外,由于釉水中加有多种化工材料,这些化工材料对人体有腐蚀作用,长期手工浸釉对人体有危害。
为了提高生产效率,提高产品质量,改善工人生产环境,降低成本等,技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中,针对陶瓷上釉工序的技术文献有:
1、专利文献【公开号:CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”, 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置,以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高,但结构复杂,成本高,并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。
2、专利文献【公开号:CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”, 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰,这种方式的上釉能量消耗巨大,不适用大批量生产制造过程。
3、专利文献【公开号:CN202246453U】公开了“一种上釉装置”,该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐,通过打釉泵将釉料送入稳压罐中,再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程,这种工艺过程过于繁琐,生产效率低,其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化,导致其上釉质量不稳定。
4、专利文献【公开号:CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”,该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘,电机固定在支撑架上;电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序,其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积,使得一次上釉的面积减少,影响生产效率。
5、专利文献【公开号:CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”,该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序,但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格,若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致,直接影响成品率。
6、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中,储釉筒壁上设有吸釉孔,以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用,在生产过程发现,吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中,碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些,对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉,碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大,坯体上釉不合格。
综上所述,现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不足等缺陷。
发明内容
本发明的目的在于提供一种全自动化上釉装置,能够快速、可靠、安全的完成碗坯上釉过程,最大限度缩短日用陶瓷生产时间,同时克服现有的淋釉设备操作员工数量多、上釉过程存在死角的缺陷,提供了结构简单、操作便利的倾转式浸釉机。
本发明通过以下技术方案实现上述目的; 一种转盘式倾转施釉装置, 传送支架一和传送支架二固定于地面上,传送带一和传送带二分别与传送支架一和传送支架二配合安装,在所述传送支架一和传送支架二的上方为吸盘一和吸盘二,两者之间为釉池,在所述釉池的内部为转盘支座,与所述转盘支座连接的为转杆,转盘支座上侧安装转盘电机和减速器,减速器输出轴端安装小齿轮,与小齿轮啮合的为大齿轮安装在转杆下侧,转盘支座的上端连接转盘,所述转盘的上侧固定了施釉电机,位于转盘下侧与所述施釉电机连接的为碗坯浸釉机构。碗坯浸釉机构包括丝杆、铰耳、推杆、顶针、托架、转座、顶转气缸、滑板、侧板和转杆气缸,所述侧板一端固定于转盘的下方,丝杆与施釉电机连接,并且驱动滑板上下移动,所述滑板的一端安装转杆气缸,另一端安装转座,转座的上侧固定顶转气缸和铰耳,前端固定托架,推杆的一端和中部考前位置则分别与顶转气缸和铰耳铰接,所述推杆的另一端连接了顶针。
所述托架的两端大,中部横向尺寸小,这样有助于减小重量的同时增加受力的稳定性。
本发明的显著效果在于:
1、本发明装置的转盘是通过与电机驱动的减速器相连接的小齿轮拨动大齿轮旋转,最后转盘跟随转动,整个过程为为全机械式转位控制机构,不需要购买变频电气设备配合使用,结构简单、紧凑,转位机构价格低廉,控制方便。
2、上釉时,碗坯充分浸入釉池釉水中,同时托架与碗坯接触面积较小,从而可以实现碗坯均匀、无死角上釉,上釉效果好,对碗坯形状的适应性也高。
3、本装置的自动化程度高,工作稳定可靠,生产效率高。
4、装置卧式安装,流水线式工作,便于工厂组成自动化生产线。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为本装置的主视图,其中A为碗坯流向工位,B为转盘转向工位。
图3为C处碗坯浸釉机构放大示意图。
其中:1-传送支架一;2-传送带一;3-吸盘一;4-施釉电机;5-转盘;6-吸盘二;7-传送带二;8-传送支架二;9-转杆;10-釉池;11-转盘支座;12-大齿轮;13-转盘电机;14-减速器;15-小齿轮;16-碗坯;17-丝杆;18-铰耳;19-推杆;20-顶针;21-托架;22-转座;23-顶转气缸;24-滑板;25-侧板;26-转杆气缸。
具体实施方式
如图1至图3所示,顶转气缸22活塞杆收回使推杆19向上翘起,顶针20远离托架21,转杆气缸26动作使转座22保持水平,施釉电机4通过丝杆17驱动滑板24向上移动到最高位置,传送支架一1被固定于地面上,传送带一2上放置好待施釉的碗坯16,随后传送带一2将碗坯16向前运送,直到达吸盘一3的下方,装置的准备工作完成。
装置启动后,转盘5转位使托架21位于传送带一2的正前方,随后吸盘一3将传送带一2上待施釉的碗坯16运至托架21上,顶转气缸23动作,其活塞杆向上顶起推杆19,所述推杆19的末端顶针20顶住碗坯16的内侧底部,转盘5转位1/4周,施釉电机4通过丝杆17驱动滑板24向下移动直至碗坯16全部浸入釉水当中,随后施釉电机4通过丝杆17驱动滑板24向上移动离开釉水面,转杆气缸26转动,转座22连同碗坯16转位,于是碗坯16底部的釉水被倒出,随后转杆气缸26回位,碗坯16重新被置于水平,转盘5转位对下一碗坯16进行施釉和吸盘一3向托架21添加碗坯16,至此装置完成碗坯16上釉过程,重复上述过程即可不断的对随后碗坯16施釉。

Claims (2)

1.一种转盘式倾转施釉装置, 传送支架一(1)和传送支架二(8)固定于地面上,传送带一(2)和传送带二(7)分别与传送支架一(1)和传送支架二(8)配合安装,在所述传送支架一(1)和传送支架二(8)的上方为吸盘一(3)和吸盘二(6),两者之间为釉池(10),在所述釉池(10)的内部为转盘支座(11),与所述转盘支座(11)连接的为转杆(9),转盘支座(11)上侧安装转盘电机(13)和减速器(14),减速器(14)输出轴端安装小齿轮(15),与小齿轮(15)啮合的为大齿轮(12)安装在转杆(9)下侧,转盘支座(11)的上端连接转盘(5),所述转盘(5)的上侧固定了施釉电机(4),位于转盘(5)下侧与所述施釉电机(4)连接的为碗坯浸釉机构,其特征在于:碗坯浸釉机构包括丝杆(17)、铰耳(18)、推杆(19)、顶针(20)、托架(21)、转座(22)、顶转气缸(23)、滑板(24)、侧板(25)和转杆气缸(26),所述侧板(25)一端固定于转盘(5)的下方,丝杆(17)与施釉电机(4)连接,并且驱动滑板(24)上下移动,所述滑板(24)的一端安装转杆气缸(26),另一端安装转座(22),转座(22)的上侧固定顶转气缸(23)和铰耳(18),前端固定托架(21),推杆(19)的一端和中部位置则分别与顶转气缸(23)和铰耳(18)铰接,所述推杆(19)的另一端连接了顶针(20)。
2.根据权利要求1所述的转盘式倾转施釉装置,其特征在于:托架(21)的两端大,中部横向尺寸小,这样有助于减小重量的同时增加受力的稳定性。
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