CN108352138A - 显示基板以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

阵列基板11b包括：多个输入端子部28；第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20，使第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a配设于多个输入端子部28与显示区域AA之间；多个端子布线部29，配设于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧而跨越第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a并且与多个输入端子部28连接；第二平坦化膜22，其配设于多个端子布线部29的上层侧且第二平坦化膜端部22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧；以及多个保护部30，配设于第二平坦化膜22的上层侧而分别覆盖多个端子布线部29中的与第二平坦化膜22非重叠的部分。

Description

显示基板以及显示装置
技术领域
本发明涉及显示基板以及显示装置。
背景技术
作为用于现有的液晶显示装置的液晶面板的一个例子，公知有下述专利文献1所记载的内容。对于构成该专利文献1所记载的液晶面板的有源元件阵列基板而言，在层间绝缘膜端部且在邻接的安装端子之间设置凸部，由此即使在层间绝缘膜较厚地形成的情况下也能够消除后面工序中的抗蚀剂残渣。
现有技术文献
专利文件
专利文献1：日本特开平11-24101号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
在上述的专利文献1所记载的有源元件阵列基板中，以制造时的曝光不均等为起因而与安装端子及其上层侧重叠的像素电极材料中的、与层间绝缘膜重叠的部分附近有时比预想大，进而有时以对准偏差为起因而使凸部相对于安装端子而位置偏移。在这样的情况下，凸部无法充分发挥其功能，存在邻接的安装端子彼此由于像素电极材料的残渣而短路的担忧。
本发明是基于上述那样的状况而完成的，目的在于提高防止短路的可靠性。
解决问题的手段
本发明的显示基板包括：显示区域，其能够显示图像；非显示区域，其以包围上述显示区域的形式配设于外周侧；多个端子部，配设于上述非显示区域；第一绝缘膜，其以跨越上述显示区域与上述非显示区域的形式配设，且作为端部的第一绝缘膜端部配设于多个上述端子部与上述显示区域之间；多个端子布线部，至少在上述非显示区域配设于上述第一绝缘膜的上层侧而跨越上述第一绝缘膜端部并且与多个上述端子部连接；第二绝缘膜，其以跨越上述显示区域与上述非显示区域的形式配设于多个上述端子布线部的上层侧而作为端部的第二绝缘膜端部配设于比上述第一绝缘膜端部靠上述端子部侧；以及多个保护部，至少在上述非显示区域配设于上述第二绝缘膜的上层侧而由透明电极膜构成且分别覆盖多个上述端子布线部中的与上述第二绝缘膜非重叠的部分。
这样，与配设于非显示区域的多个端子部连接的多个端子布线部配设于第一绝缘膜的上层侧而以跨越位于端子部与显示区域之间的第一绝缘膜端部的形式配设。多个端子布线部中的与配设于上层侧的第二绝缘膜非重叠的部分通过配设于第二绝缘膜的上层侧且由透明电极膜构成的多个保护部而分别覆盖，从而谋求保护。多个端子布线部中的与第一绝缘膜重叠的部分若相较于与第一绝缘膜非重叠的部分，则在刻画图案时进行的曝光中容易产生曝光不均，有时线宽相对较粗。若这样，则对于邻接的端子布线部之间的间隔而言，相较于与第一绝缘膜非重叠的部分而与第一绝缘膜重叠的部分更窄。此处，假设在构成为多个端子布线部中的与第一绝缘膜端部重叠的部分未被第二绝缘膜覆盖的情况下，在对作为保护部的透明电极膜进行刻画图案时透明电极膜的残渣容易产生于第一绝缘膜端部附近，因此存在由于该残渣而使多个端子布线部中的与第一绝缘膜端部重叠的部分，换句话说邻接的端子布线部之间的间隔相对较窄的部分短路的担忧。
在这点上，对于第二绝缘膜而言，第二绝缘膜端部配置于比第一绝缘膜端部靠端子部侧，因此多个端子布线部中的与第一绝缘膜端部重叠的部分，即邻接的端子布线部之间的间隔相对较窄的部分被第二绝缘膜覆盖。多个端子布线部中的与第二绝缘膜端部重叠的部分成为与第一绝缘膜非重叠，因此邻接的端子布线部间的间隔相对较宽。因此，即使在透明电极膜的刻画图案时透明电极膜的残渣产生于第二绝缘膜端部附近，也难以产生由于该残渣而使多个端子布线部中的与第二绝缘膜端部重叠的部分短路的情况。
作为本发明的实施方法，优选以下的结构。
(1)在上述第二绝缘膜设置有配设于邻接的上述端子布线部之间而从上述第二绝缘膜端部朝向上述端子部侧突出的突起部。若这样，则第二绝缘膜端部的邻接的端子布线部间的延面距离以与突起部对应大小变长，因此即使在第二绝缘膜端部附近产生作为保护部的透明电极膜的残渣，透明电极膜的残渣也难以以跨越邻接的端子布线部之间的形式产生。并且，突起部设置于相对于多个端子布线部而配设于上层侧的第二绝缘膜，因此突起部相对于多个端子布线部以高位置精度配置。获得这样的高位置精度的理由是由于一般绝缘膜以相对于由下层侧的金属膜等构成的布线部而对准的形式被刻画图案。由此，邻接的端子布线部间的防止短路的可靠性进一步提高。
(2)具备：显示元件，其配设于上述显示区域；元件连接部，其在上述显示区域配设于上述第一绝缘膜的上层侧而与上述显示元件连接并且与上述端子布线部同层；共用电极，其在上述显示区域配设于上述第二绝缘膜的上层侧并且在与上述元件连接部重叠的位置设置有开口部而由与上述保护部相同的透明电极膜构成；第三绝缘膜，其至少在上述显示区域配设于上述共用电极的上层侧而在与上述元件连接部重叠的位置形成有也与上述第二绝缘膜连通的元件接触孔；以及像素电极，其在上述显示区域配设于上述第三绝缘膜的上层侧并通过上述元件接触孔而与上述元件连接部连接且由第二个透明电极膜构成。若这样，则像素电极通过在第三绝缘膜以及第二绝缘膜相互连通的元件接触孔而与元件连接部连接，经由该元件连接部而实现相对于显示元件的连接。像素电极相对于共用电极以经由第三绝缘膜而重叠的形式配设，因此能够基于由显示元件供给的电位而在与共用电极之间产生电位差并且基于该电位差进行既定的灰度的显示。共用电极通过在与元件连接部重叠的位置设置开口部，从而实现与像素电极的短路防止。另外，共用电极对与保护部相同的透明电极膜进行刻画图案而形成，在该刻画图案时端子布线部被保护部覆盖而谋求保护，从而难以产生伴随着刻画图案而产生的端子布线部的劣化。
这样，由与保护部相同的透明电极膜构成的共用电极需要使其开口部相对于与端子布线部同层的元件连接部而对准，相对于此，第二绝缘膜以及第三绝缘膜需要使相互连通的元件接触孔相对于与端子布线部同层的元件连接部而对准。因此，设置于第二绝缘膜的突起部以及保护部分别相对于多个端子布线部而以高位置精度配置，因此邻接的端子布线部之间的防止短路的可靠性进一步提高。
(3)上述共用电极兼作在与进行位置输入的位置输入体之间形成静电电容的位置检测电极。若这样，则能够使该显示基板内置位置输入功能。
(4)上述第二绝缘膜中的与上述第一绝缘膜非重叠的部分相较于与上述第一绝缘膜重叠的部分而膜厚相对较薄。若这样，则第二绝缘膜中的与第一绝缘膜非重叠的部分亦即第二绝缘膜端部的立起角度为缓，因此在第二绝缘膜端部附近更难以产生透明电极膜的残渣。由此，邻接的端子布线部之间的防止短路的可靠性进一步提高。
(5)具备：显示元件，其配设于上述显示区域；和元件布线部，其至少在上述显示区域配设于比上述第一绝缘膜靠下层侧而与上述显示元件连接，上述端子布线部以及上述元件布线部分别具有在上述非显示区域相互重叠的布线重叠部，相对于此，在上述第一绝缘膜中的与上述布线重叠部重叠的位置设置有将上述布线重叠部彼此连接的布线接触孔。这样，配置于比第一绝缘膜靠下层侧的元件布线部、与配置于第一绝缘膜的上层侧的端子布线部通过第一绝缘膜的布线接触孔而将布线重叠部彼此连接。多个端子布线部跨越第一绝缘膜的第一绝缘膜端部而连接于多个端子部，因此担心由于透明电极膜的残渣而使邻接者彼此短路，但通过如上述那样第二绝缘膜的第二绝缘膜端部配设于比第一绝缘膜端部靠端子部侧，从而难以产生邻接的端子布线部彼此因透明电极膜的残渣而短路的情况。
(6)上述第一绝缘膜由下层侧第一绝缘膜、和相对于上述下层侧第一绝缘膜而配设于上层侧的上层侧第一绝缘膜构成。这样，在第一绝缘膜为由下层侧第一绝缘膜和上层侧第一绝缘膜构成的二层构造中，例如若下层侧第一绝缘膜将上层侧第一绝缘膜利用作为掩模而进行刻画图案，则在第一绝缘膜端部下层侧第一绝缘膜的立起角度容易比上层侧第一绝缘膜的立起角度陡，因此担心透明电极膜的残渣产生于第一绝缘膜端部的下层侧第一绝缘膜，但通过如上述那样第二绝缘膜的第二绝缘膜端部配设于比第一绝缘膜端部靠端子部侧，从而难以产生邻接的端子布线部彼此由于透明电极膜的残渣而短路的情况。
接下来，为了解决上述课题，本发明的显示装置具备：上述记载的显示基板、和以与上述显示基板对置的形式配设的对置基板。根据这样的结构的显示装置，显示基板的防止短路的可靠性高，因此动作可靠性等优秀。
发明效果
根据本发明，能够提高防止短路的可靠性。
附图说明
图1是构成本发明的第一实施方式所涉及的液晶显示装置的液晶面板的俯视图。
图2是表示构成液晶面板的阵列基板的共用电极的平面配置的俯视图。
图3是表示液晶面板的显示区域的截面结构的简要剖视图。
图4是示意性地示出构成液晶面板的阵列基板的显示区域的布线结构的俯视图。
图5是示意性地示出构成液晶面板的CF基板的显示区域的布线结构的俯视图。
图6是图4的vi-vi线剖视图。
图7是图4的vii-vii线剖视图。
图8是概略地示出构成液晶面板的阵列基板的非显示区域的布线结构的俯视图。
图9是图8的放大俯视图。
图10是图9的x-x线剖视图。
图11是图9的xi-xi线剖视图。
图12是概略地示出构成本发明的第二实施方式所涉及的液晶面板的阵列基板的非显示区域的布线结构的放大俯视图。
图13是图12的xiii-xiii线剖视图。
图14是用于说明在构成液晶面板的阵列基板的制造时经由灰色调掩模而使第二平坦化膜曝光的曝光工序的剖视图。
图15是用于说明在构成液晶面板的阵列基板的制造时使第二平坦化膜显影的显影工序的剖视图。
图16是概略地示出构成本发明的第三实施方式所涉及的液晶面板的阵列基板的非显示区域的布线结构的放大俯视图。
图17是图16的xvii-xvii线剖视图。
图18是图16的xviii-xviii线剖视图。
图19是用于说明在构成本发明的第四实施方式所涉及的液晶面板的阵列基板的制造时经由半色调掩模而使第二平坦化膜曝光的曝光工序的剖视图。
具体实施方式
<第一实施方式>
根据图1～图11对本发明的第一实施方式进行说明。在本实施方式中，针对具备位置输入功能的液晶显示装置10所具有的液晶面板(显示装置、显示面板)11进行例示。此外，在各附图的一部分中示出X轴、Y轴以及Z轴，以使各轴向成为各附图所示的方向的方式进行描绘。另外，使图3、图6以及图7等的上侧成为表侧，该图下侧成为背侧。
液晶显示装置10作为整体而呈长方形，如图1所示那样，具备能够显示图像的液晶面板11，并且具备：相对于液晶面板11配设于背侧而向液晶面板11照射用于显示的光的外部光源亦即背光源装置(照明装置)等。以下，关于液晶显示装置10的结构部件，对有关液晶面板11详细地进行说明，但关于背光源装置等其他的结构部件如公知的那样，因此省略详细说明。
如图1所示，液晶面板11作为整体而成为纵长的方形(矩形状)，在靠向其长边方向上的一方的端部侧(图1所示的上侧)的位置配设有显示图像的显示区域(有源区域)AA，在靠向长边方向上的另一方的端部侧(图1所示的下侧)的位置分别安装有用于供给各种信号等的驱动器12以及柔性基板13。在该液晶面板11中显示区域AA外的区域成为不显示图像的非显示区域(非有源区域)NAA，该非显示区域NAA由包围显示区域AA的大致框状的区域(后述的CF基板11a的边框部分)、和在长边方向的另一方的端部侧被确保的区域(后述的阵列基板11b中的不与CF基板11a重叠而露出的部分)构成，其中在长边方向上的另一方的端部侧被确保的区域包括驱动器12以及柔性基板13的安装区域(实装区域)。对于液晶面板11而言，其短边方向与X轴方向一致，长边方向与Y轴方向一致，而且板面(显示面)的法线方向与Z轴方向一致。另外，在柔性基板13的与液晶面板11侧相反侧的端部连接有作为信号供给源的控制基板(控制电路基板)14。此外，图1中，框状的点链线表示显示区域AA的外形，比该点链线靠外侧的区域成为非显示区域NAA。
接着，对安装或者连接于液晶面板11的部件(驱动器12、柔性基板13以及控制基板14)依次进行说明。如图1所示，驱动器12由在内部具有驱动电路的LSI芯片构成，通过基于从控制基板14供给的信号而工作，从而生成输出信号，并将该输出信号朝向液晶面板11的显示区域AA输出。该驱动器12俯视时成为横长的方形(沿着液晶面板11的短边而成为长条状)，并且相对于液晶面板11(后述的阵列基板11b)的非显示区域NAA而直接安装，换句话说，以COG(Chip On Glass)方式安装。此外，驱动器12的长边方向与X轴方向(液晶面板11的短边方向)一致，其短边方向与Y轴方向(液晶面板11的长边方向)一致。
如图1所示，柔性基板13具备由具有绝缘性以及可挠性的合成树脂材料(例如聚酰亚胺系树脂等)构成的基材，在该基材上具有多根布线图案(未图示)，长度方向上的一方的端部如已述的那样连接于控制基板14，相对于此，另一方的端部(另一端侧)连接于液晶面板11(后述的阵列基板11b)。因此，柔性基板13以在液晶显示装置10内截面形状大致呈U型的方式弯曲为折回状。在柔性基板13的长度方向的两端部，布线图案向外部露出而构成端子部(未图示)，该端子部分别与控制基板14以及液晶面板11电连接。由此，能够将从控制基板14侧供给的信号传送至液晶面板11侧。
如图1所示，控制基板14配置于背光源装置的背侧。该控制基板14在纸苯酚或玻璃环氧树脂制的基板上安装有用于对驱动器12供给各种信号的电子部件，并且配置形成未图示的既定的图案的布线(导电线路)。柔性基板13的一方的端部(一端侧)经由未图示的ACF(Anisotropic Conductive Film：各向异性导电膜)而与该控制基板14电连接并且机械连接。
再次对液晶面板11进行说明。如图3所示，液晶面板11具有：一对基板11a、11b、和配设于两基板11a、11b间的内部空间并包含伴随着电场施加而光学特性变化的物质亦即液晶分子的液晶层(介质层)11c，液晶层11c被夹装在两基板11a、11b之间的未图示的密封部包围而谋求密封。一对基板11a、11b中的表侧(正面侧)成为CF基板(对置基板)11a，背侧(背面侧)成为阵列基板(显示基板、有源矩阵基板、元件基板)11b。CF基板11a以及阵列基板11b均由在玻璃制的玻璃基板的内表面侧层叠形成各种膜而构成。此外，在两基板11a、11b的外表面侧分别贴附有偏光板11d、11e。
如图4以及图6所示，在阵列基板11b的内表面侧(液晶层11c侧、与CF基板11a对置的对置面侧)的显示区域AA，作为开关元件的TFT(Thin Film Transistor：显示元件)11f以及像素电极11g以多个矩阵状(行列状)排列设置，并且成为格子状的栅极布线(扫描线)11i以及源极布线(数据线、信号线、元件布线部)11j包围这些TFT11f以及像素电极11g的周围而配设。栅极布线11i与源极布线11j分别连接于TFT11f的栅电极11f1和源电极11f2，像素电极11g与TFT11f的漏电极11f3连接。而且，TFT11f基于分别供给于栅极布线11i以及源极布线11j的各种信号而被驱动，伴随着该驱动而控制向像素电极11g的电位供给。该TFT11f具有连接漏电极11f3与源电极11f2的通道部11f4。此外，在本实施方式中，在各附图中栅极布线11i的延伸方向与X轴方向一致，源极布线11j的延伸方向与Y轴方向一致。像素电极11g配设于由栅极布线11i以及源极布线11j围起的方形的区域，形成多个狭缝。该像素电极11g相对于TFT11f的漏电极11f3经由TFT连接部(元件连接部)11p而连接。另外，在阵列基板11b的内表面侧除了像素电极11g之外还设置有共用电极11h，若在两电极11g、11h之间产生电位差，则在液晶层11c施加有除了包含沿着阵列基板11b的板面的成分之外还包含相对于阵列基板11b的板面的法线方向的成分的边缘电场(倾斜电场)。换句话说，该液晶面板11成为对动作模式为IPS(In-Plane Switching)模式进行了进一步改进的FFS(Fringe FieldSwitching)模式。
在阵列基板11b的内表面侧通过已知的光刻法而层叠形成有各种膜，对这些膜进行说明。如图6以及图7所示，在阵列基板11b，从下层(玻璃基板)侧起依次层叠形成有第一金属膜(栅极金属膜)15、栅极绝缘膜(绝缘膜)16、半导体膜17、第二金属膜(源极金属膜)18、第一层间绝缘膜(下层侧第一绝缘膜、第一绝缘膜)19、第一平坦化膜(上层侧第一绝缘膜、第一绝缘膜)20、第三金属膜(元件连接金属膜)21、第二平坦化膜(第二绝缘膜)22、第四金属膜23(位置检测布线金属膜)、第一透明电极膜(下层侧透明电极膜)24、第二层间绝缘膜(第三绝缘膜)25、第二透明电极膜(上层侧透明电极膜)26。此外，在图6以及图7中，省略层叠于第二透明电极膜26的更上层侧的取向膜11o的图示。
第一金属膜15通过例如钛(Ti)层/铝(A1)层/钛层的三层层叠膜而形成。第一金属膜15主要构成栅极布线11i。如图6以及图7所示，栅极绝缘膜16至少层叠于第一金属膜15的上层侧，并由例如作为无机材料的氧化硅(SiO2)构成。栅极绝缘膜16夹设于第一金属膜15(栅极布线11i)与第二金属膜18(源极布线11j)之间而使它们彼此绝缘。半导体膜17层叠于栅极绝缘膜16的上层侧，并由使用了氧化物半导体作为材料的薄膜构成。半导体膜17主要构成TFT11f的通道部11f4。作为成为半导体膜17的具体的氧化物半导体，例如使用包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)、氧(O)的In-Ga-Zn-O系半导体(氧化铟镓锌)。此处，In-Ga-Zn-O系半导体是In(铟)、Ga(镓)、Zn(锌)的三元系氧化物，In、Ga以及Zn的比例(组成比)未特别限定，例如包括In：Ga：Zn＝2：2：1、ln：Ga：Zn＝1：1：1、ln：Ga：Zn＝1：1：2等。在本实施方式中，使用以1：1：1的比例包含In、Ga以及Zn的In-Ga-Zn-0系半导体。这样的氧化物半导体(In-Ga-Zn-O系半导体)也可以是非晶体，但优选具有包含结晶质部分的结晶性的物质。作为具有结晶性的氧化物半导体，例如优选c轴与层面大体垂直地取向的结晶质In-Ga-Zn-O系半导体。这样的氧化物半导体(In-Ga-Zn-O系半导体)的结晶构造例如公开于日本特开2012-134475号公报。为了参考，将日本特开2012-134475号公报的公开内容的全部引用于本说明书。
如图6以及图7所示，第二金属膜18至少层叠于半导体膜17的上层侧，与第一金属膜15同样，由例如钛层/铝层/钛层的三层层叠膜形成。第二金属膜18主要构成源极布线11j、源电极11f2以及漏电极11f3。第一层间绝缘膜19至少层叠于第二金属膜18的上层侧，由例如作为无机材料的氧化硅(SiO2)构成。第一平坦化膜20层叠于第一层间绝缘膜19的上层侧，由例如作为有机树脂材料的丙烯酸系树脂材料(例如聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA))构成。第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20夹设于第二金属膜18以及半导体膜17与第三金属膜21之间而使它们彼此绝缘。第三金属膜21至少层叠于第一平坦化膜20的上层侧，与第一金属膜15以及第二金属膜18同样，由例如钛层/铝层/钛层的三层层叠膜形成。第三金属膜21在显示区域AA主要构成TFT连接部11p，但在非显示区域NAA构成后述的输入端子部28以及端子布线部29。
如图6以及图7所示，第二平坦化膜22层叠于第三金属膜21以及第一平坦化膜20的上层侧，与第一平坦化膜20同样，由例如作为有机树脂材料的丙烯酸系树脂材料(例如聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA))构成。第二平坦化膜22夹设于第三金属膜21与第四金属膜23以及第一透明电极膜24之间而使它们彼此绝缘。第四金属膜23至少层叠于第二平坦化膜22的上层侧，与第一金属膜15、第二金属膜18以及第三金属膜21同样，由例如钛层/铝层/钛层的三层层叠膜形成。第四金属膜23主要构成后述的位置检测布线11q。第一透明电极膜24层叠于第四金属膜23以及第一平坦化膜20的上层侧，由ITO(Indium Tin Oxide)或ZnO(ZincOxide)之类的透明电极材料构成。第一透明电极膜24在显示区域AA主要构成共用电极11h，但在非显示区域NAA主要构成后述的保护部30。第二层间绝缘膜25至少层叠于第一透明电极膜24的上层侧，由作为无机材料的氮化硅(SiNx)构成。第二层间绝缘膜25夹设于第一透明电极膜24与第二透明电极膜26之间而使它们彼此绝缘。第二透明电极膜26层叠于第二层间绝缘膜25的上层侧，与第一透明电极膜24同样，由ITO(Indium Tin Oxide)或ZnO(ZincOxide)之类的透明电极材料构成。第二透明电极膜26主要构成像素电极11g。上述的各绝缘膜16、19、20、22、25中的第一平坦化膜20以及第二平坦化膜22一起成为有机绝缘膜而其膜厚比其他的绝缘膜(无机绝缘膜)16、19、25厚，并具有使表面平坦化的功能。上述的各绝缘膜16、19、20、22、25中的除去第一平坦化膜20以及第二平坦化膜22以外的栅极绝缘膜16、第一层间绝缘膜19以及第二层间绝缘膜25分别是无机绝缘膜，其膜厚比作为有机绝缘膜的第一平坦化膜20以及第二平坦化膜22薄。
如图4所示，TFT连接部(元件连接部)11p成为纵长的方形，并且成为相对于TFT11f的漏电极11f3与像素电极11g双方于俯视时重叠的平面配置。而且，如图7所示，在第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20中的与TFT连接部11p以及漏电极11f3双方重叠的位置，开口形成有第一TFT接触孔(第一元件接触孔)CH1，上层侧的TFT连接部11p通过该第一TFT接触孔CH1而与下层侧的漏电极11f3连接。另一方面，如图6所示，在第二平坦化膜22以及第二层间绝缘膜25中的与TFT连接部11p以及漏电极11f3双方重叠且与第一TFT接触孔CH1非重叠的位置开口形成有第二TFT接触孔(第二元件接触孔、元件接触孔)CH2，上层侧的像素电极11g通过该第二TFT接触孔CH2而与下层侧的TFT连接部11p连接。这样，像素电极11g以及漏电极11f3之间夹设有四个绝缘膜19、20、22、25，但经由配设于其中间的TFT连接部11p而实现相互的连接。另外，在共用电极11h中的与第二TFT接触孔CH2(TFT连接部11p的一部分)重叠的位置，形成用于防止与像素电极11g的短路的开口部OP。此外，各绝缘膜16、19、20、22、25除去上述的各接触孔CH1、CH2之外，遍及阵列基板11b的显示区域AA的几乎整个区域而形成为满布状。
另一方面，如图3以及图5所示，在CF基板11a中的显示区域AA的内表面侧且在与阵列基板11b侧的各像素电极11g成为对置状的位置设置有彩色滤光片11k。彩色滤光片11k由R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)三色的着色部以矩阵状反复排列配置而成。以矩阵状排列的彩色滤光片11k的各着色部(各像素PX)之间由遮光部(黑矩阵)11l分隔。通过该遮光部11l防止透射各着色部的各色的光彼此混合的混色。遮光部11l由俯视时成为格子状而分隔各着色部之间的格子状部、和俯视时成为框状(边框状)而从外周侧包围格子状部的框状部构成。遮光部11l的格子状部成为俯视时与上述的栅极布线11i以及源极布线11j重叠的配置。遮光部11l的框状部沿着密封部延伸，俯视时成为纵长的方形的框状。在彩色滤光片11k以及遮光部11l的表面，与内侧重叠而设置有覆盖膜(平坦化膜)11m。此外，在该液晶面板11中，通过彩色滤光片11k的着色部、和与其对置的像素电极11g的组构成一个像素PX。像素PX包括：具有彩色滤光片11k中的R的着色部的红色像素、具有彩色滤光片11k中的G的着色部的绿色像素、以及具有彩色滤光片11k中的B的着色部的蓝色像素。这些三色的像素PX在液晶面板11的板面沿着行方向(X轴方向)反复排列配设，从而构成像素群，多个该像素群沿着列方向(Y轴方向)排列配设。这样像素PX在液晶面板11的显示区域AA内以矩阵状排列多个。另外，作为处于两基板11a、11b中的最内侧且与液晶层11c接触的层，分别形成用于使液晶层11c所含的液晶分子取向的取向膜11n、11o。
然而，本实施方式所涉及的液晶面板11如已叙述的那样，兼具显示图像的显示功能、和基于显示的图像而检测使用者输入的位置(输入位置)的位置输入功能(位置检测功能)，内置(内嵌化)用于发挥其中的位置输入功能的触摸面板图案。该触摸面板图案成为所谓的投影型静电电容方式，其检测方式成为自电容方式(self-capacitance method)。如图2所示，触摸面板图案设置于一对基板11a、11b中的阵列基板11b，在阵列基板11b中由在其面内以矩阵状排列配设的多个位置检测电极27构成。位置检测电极27配设于阵列基板11b的显示区域AA。因此，液晶面板11的显示区域AA与能够检测输入位置的触摸区域几乎一致，非显示区域NAA与无法检测输入位置的非触摸区域几乎一致。此处，若基于显示于液晶面板11的显示区域AA的图像，使用者欲进行位置输入使作为导电体的手指(位置检测体)接近液晶面板11的表面，则在该手指与位置检测电极27之间形成静电电容。由此，由处于手指附近的位置检测电极27检测出的静电电容从手指接近前的状态发生变化，与处于距手指较远的位置检测电极27不同，因此基于此能够检测输入位置。此外，也存在有位置检测电极27相对于手指以外的导电体也形成寄生电容的情况。
另外，该位置检测电极27由设置于阵列基板11b的共用电极11h构成。如图2所示，共用电极11h由在阵列基板11b的面内以棋盘格状分割的多个分割共用电极11hS构成，上述多个分割共用电极11hS各自构成位置检测电极27。由此，假设和与共用电极11h分开另外设置位置检测电极的情况相比，在实现构造的简化以及低成本化等为优选。对于位置检测电极27(分割共用电极11hS)而言，沿着X轴方向(行方向)以及Y轴方向(列方向)每多个以矩阵状(行列状)排列配设。位置检测电极27在俯视时成为方形，各边的尺寸为数mm左右。因此，位置检测电极27俯视时的大小大于像素PX(像素电极11g)，配置在X轴方向以及Y轴方向上跨越每多个像素PX的范围。此外，图2是示意性地表示位置检测电极27的排列的图，针对位置检测电极27的具体的设置数、配置，除图示以外也能够适当地变更。
如图2所示，在多个位置检测电极(分割共用电极11hS)27连接有多个位置检测布线11q。位置检测布线11q在显示区域AA中沿着Y轴方向即源极布线11j的延伸方向(列方向)直线地延伸，并具有与成为连接对象的位置检测电极27对应的长度尺寸。换句话说，对于位置检测布线11q而言，配设于显示区域AA内的一方的端部成为与作为连接对象的位置检测电极27重叠的配置而连接于该位置检测电极27，相对于此，配设于非显示区域NAA的另一方的端部连接于驱动器12。因此，驱动器12在图像显示时驱动TFT11f，相对于此，在位置检测时驱动位置检测电极27，兼具显示功能和位置检测功能。位置检测布线11q如已叙述的那样由第四金属膜23构成，相对于此，位置检测电极27也是共用电极11h，由第一透明电极膜24构成，因此位置检测电极11q未经由接触孔而直接地连接于位置检测电极27。因此，位置检测布线11q除了成为连接对象的位置检测电极27之外，相对于存在于该位置检测电极27与驱动器12之间的其他的位置检测电极27也连接。即使为像这样相对于属于相同的列的多个位置检测电极27(沿着位置检测布线11q的延伸方向排列的多个位置检测电极27)而连接有多个位置检测布线11q的连接方式，也能够通过从属于相同的列的多个位置检测布线11q中抽出进行了位置检测的位置检测布线11q的组合，来确定出实际进行了位置输入的位置检测电极27。另外，如图4所示，位置检测布线11q俯视时与既定的源极布线11j(遮光部11l)重叠，并配设于与像素PX非重叠的位置。由此，可避免因位置检测布线11q而使像素PX的开口率降低的情况。
接着，对阵列基板11b的非显示区域NAA的结构进行说明。如图1所示，在阵列基板11b的非显示区域NAA中的不与CF基板11a重叠的非重叠部分，分别安装有柔性基板13的端部以及驱动器12，柔性基板13的端部配设于阵列基板11b的沿着短边方向(X轴方向)的端部，相对于此，驱动器12位于阵列基板11b中比柔性基板13靠显示区域AA侧而配设。在阵列基板11b的驱动器12的安装区域设置有用于对驱动器12输出信号的输出端子部(未图示)、和输入有来自驱动器12的信号的输入端子部(端子部)28。在阵列基板11b的柔性基板13的安装区域设置有连接于柔性基板13的柔性基板用端子部(未图示)。与其他的端子部(输出端子部以及柔性基板用端子部)相比，输入端子部28成为在Y轴方向上靠近显示区域AA的配置。
如图8所示，多个输入端子部28在驱动器12的安装区域中以锯齿状平面配置，与下述的端子布线部29连接。端子布线部29在阵列基板11b的非显示区域NAA中沿着X轴方向隔开既定的间隔排列多个并且沿着Y轴方向延伸，一方的端部连接于各输入端子部28，另一方(显示区域AA侧)的端部连接于各源极布线11j的端部。此外，对于源极布线11j而言，其大部分配设于显示区域AA，但一部分(包括布线重叠部11j1)延长直至非显示区域NAA。如图10所示，输入端子部28以及端子布线部29均由与TFT连接部11p相同的第三金属膜21构成。因此，端子布线部29相对于作为连接对象的源极布线11j而隔着第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20而位于上层侧。端子布线部29的与输入端子部28侧相反侧的端部、和源极布线11j的与TFT11f侧相反侧的端部成为在阵列基板11b的非显示区域NAA中俯视时相互重叠的配置，此处分别成为布线重叠部11j1、29a。在夹设于端子布线部29与源极布线11j之间的第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20中的、与端子布线部29以及源极布线11j的布线重叠部11j1、29a于俯视时重叠的位置，设置有使布线重叠部11j1、29a彼此连接的布线接触孔CH3。由此，从驱动器12输出的信号经由输入端子部28、端子布线部29以及源极布线11j而供给于TFT11f的源电极11f2。
与此相对，如图8以及图10所示，各绝缘膜16、19、20、22、25在阵列基板11b的非显示区域NAA中的驱动器12以及柔性基板13的安装区域附近，选择性地被除去，它们的各端部16a、19a、20a、22a、25a位于Y轴方向上显示区域AA与端子部群中的最接近显示区域AA的输入端子部28之间的位置。因此，输入端子部28的整个区域直接地设置于构成阵列基板11b的玻璃基板上，相对于此，对于端子布线部29而言，输入端子部28侧的部分直接地设置于构成阵列基板11b的玻璃基板上，但剩余的部分(源极布线11j侧的部分)设置在第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧。换句话说，端子布线部29在从输入端子部28侧朝向源极布线11j侧的中途搁置于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20，以至少跨越第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a的形式配设。
如图8以及图10所示，在端子布线部29的输入端子部28侧的部分(未搁置在第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的部分)且成为与比自身靠上层侧的各绝缘膜22、25非重叠的部分，以覆盖的形式设置有保护部30。保护部30由与共用电极11h相同的第一透明电极膜24构成，除了端子布线部29的上述部分之外还覆盖输入端子部28。此处，在阵列基板11b的制造时成膜和曝光后，对第一透明电极膜24进行湿式蚀刻时，由三层构造的第三金属膜21构成的端子布线部29的一部分以及输入端子部28的铝层相较于钛层，更容易被蚀刻液蚀刻，因此可能产生端子布线部29的一部分以及输入端子部28的铝层产生比钛层细小的缺陷，即产生侧移。在这点上，若如上述那样通过保护部30来覆盖端子布线部29的一部分以及输入端子部28，则在对已被成膜和曝光的第一透明电极膜24进行湿式蚀刻时，通过保护部30而自蚀刻液保护端子布线部29的一部分以及输入端子部28，因此可避免在端子布线部29以及输入端子部28产生侧移。
然而，在如上述那样端子布线部29部分地搁置在第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的结构中，在阵列基板11b的制造时使作为端子布线部29的第三金属膜21成膜后进行曝光时，存在产生曝光不均的担忧。具体而言，在第三金属膜21的曝光工序中，使焦点与端子布线部29中的与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠的部分(直接载置在玻璃基板上的部分)匹配而进行曝光，因此焦点未与端子布线部29中同第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20重叠的部分(搁置于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的部分)匹配而产生曝光不均，以此为起因而存在使端子布线部29中的与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20重叠的部分如图9所示，相较于与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠的部分而相对较粗的倾向。若这样，则对于邻接的端子布线部29之间的间隔而言，相较于与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠的部分而与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20重叠的部分更狭窄。此处，假设成为多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a重叠的部分未被第二平坦化膜22覆盖的结构的情况下，在对成为共用电极11h以及保护部30的第一透明电极膜24进行刻画图案时第一透明电极膜24的残渣容易产生于第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a附近。该残渣以由于为了对第一透明电极膜24进行刻画图案而层叠于第一透明电极膜24上的光抗蚀剂中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a重叠的部分相较于其他的部分膜厚变厚而产生的光抗蚀剂的膜剩余为起因而产生，因此其产生位置成为第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a附近。有由于这样的第一透明电极膜24的残渣而使多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部2a重叠的部分即邻接的端子布线部29之间的间隔相对变窄的部分短路之虞。
因此，在本实施方式中，如图9以及图10所示，相对于端子布线部29而配设于上层侧且相对于第一透明电极膜24(后述的保护部30)而配设于下层侧的第二平坦化膜22构成为：第二平坦化膜端部22a相较于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a而在Y轴方向(端子布线部29的延伸方向)上配设在输入端子部28侧。根据这样的结构，多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a重叠部分，即邻接的端子布线部29之间的间隔相对变窄的部分被第二平坦化膜22覆盖。多个端子布线部29中的与第二平坦化膜端部22a重叠的部分成为与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠，因此邻接的端子布线部29间的间隔相对变宽。因此，即使在第一透明电极膜24的刻画图案时第一透明电极膜24的残渣产生于第二平坦化膜端部22a附近，也难以产生由于该残渣而使多个端子布线部29中的与第二平坦化膜端部22a重叠的部分短路的情况。
另外，如图9～图11所示，在第二平坦化膜22设置有配设于邻接的端子布线部29之间而从第二平坦化膜端部22a朝向输入端子部28侧突出的突起部31。突起部31于X轴方向上配设于邻接的端子布线部29间的中央位置，且距与图9所示的左侧邻接的端子布线部29的距离、和距与该图右侧邻接的端子布线部29的距离几乎相等。每多个突起部31以及端子布线部29以沿着X轴方向隔开间隔而交替排列的形式配设。突起部31具有在Y轴方向上朝向突出前端侧(越远离第二平坦化膜端部22a)而宽度尺寸变窄那样的尖端渐细状的平面形状，具体而言俯视时成为三角形状。根据这样的结构，第二平坦化膜端部22a的邻接的端子布线部29间的延面距离以与突起部31对应的大小变长，因此即使在第二平坦化膜端部22a附近产生作为保护部30的第一透明电极膜24的残渣，第一透明电极膜24的残渣也难以以跨越邻接的端子布线部29之间的形式产生。
而且，如图9～图11所示，突起部31设置在相对于多个端子布线部29而配设于上层侧的第二平坦化膜22，相对于此，保护部30由相对于第二平坦化膜22而配设于上层侧的第一透明电极膜24构成，因此突起部31以及保护部30相对于多个端子布线部29而以高位置精度配置，其详细理由如下。即，如图7所示，对于由与保护部30相同的第一透明电极膜24构成的共用电极11h而言，其开口部OP与端子布线部29同层且相对于由第三金属膜21构成的TFT连接部11p而在X轴方向以及Y轴方向上对准(对位)，相对于此，对于设置有突起部31的第二平坦化膜22以及第二层间绝缘膜25而言，相互连通的第二TFT接触孔CH2与端子布线部29同层且相对于由第三金属膜21构成的TFT连接部11p而在X轴方向以及Y轴方向上对准。因此，覆盖设置于第二平坦化膜22的突起部31以及端子布线部29的保护部30分别相对于多个端子布线部29而在X轴方向以及Y轴方向上以高位置精度配置，因此进一步提高邻接的端子布线部29间的防止短路的可靠性。
另外，在阵列基板11b的制造时，在第一层间绝缘膜19成膜后使第一平坦化膜20成膜，在该第一平坦化膜20被刻画图案(曝光和显影)后，将被刻画了图案的第一平坦化膜20作为掩模而利用，对第一层间绝缘膜19进行刻画图案(蚀刻)(参照图10)。在经由这样的制造工序而制造出的阵列基板11b中，如图10所示，第一层间绝缘膜19的第一层间绝缘膜端部19a的立起角度比第一平坦化膜20的第一平坦化膜端部20a的立起角度陡，因此假设若构成为第一层间绝缘膜端部19a未被第二平坦化膜22覆盖，则存在第一透明电极膜24的残渣更容易产生于第一层间绝缘膜端部19a的担忧。然而，如上述那样，第二平坦化膜22的第二平坦化膜端部22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧，从而可避免第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a被第二平坦化膜22覆盖而使第一透明电极膜24的残渣产生于第一层间绝缘膜端部19a，因此难以产生邻接的端子布线部29彼此因第一透明电极膜24的残渣而短路的情况。
本实施方式为以上那样的构造，接下来对其作用进行说明。本实施方式所涉及的液晶显示装置10具备位置输入功能，因此其使用者能够基于显示于液晶面板11的显示区域AA的图像而通过手指进行位置输入。液晶面板11的阵列基板11b所具备的共用电极11h也是位置检测电极27，因此在显示时通过驱动器12而施加成为相对于像素电极11g的电位的基准的共用电位(基准电位)，相对于此，在位置检测时通过驱动器12而施加用于在与手指之间形成静电电容的电位。换句话说，驱动器12将一个单位期间分为显示期间和位置检测期间而控制液晶面板11的驱动。
在显示期间，从驱动器12对各栅极布线11i供给扫描信号，对各源极布线11j供给数据信号(图像信号)，对各位置检测布线11q供给共用电位信号。其中，如图4以及图8所示，从驱动器12输出的数据信号经由各输入端子部28以及各端子布线部29而传送至各源极布线11j。若将属于通过供给于各栅极布线11i的扫描信号而选择出的行的各TFT11f设为ON，则与供给于各源极布线11j的数据信号对应的电压经由TFT11f的通道部11f4而施加于像素电极11g。通过供给于各位置检测布线11q的共用电位信号而对共用电极11h的各分割共用电极11hS在相同的时机一并施加相同的共用电位。基于各像素电极11g与共用电极11h的电位差而在各像素PX以既定的灰度进行显示，进而在液晶面板11的显示区域AA显示既定的图像。
在位置检测期间，从驱动器12对各位置检测布线11q供给位置检测驱动信号。此时，在液晶显示装置10的使用者在液晶面板11的显示区域AA内用手指进行了位置输入的情况下，在接近该手指的位置检测电极27与手指之间形成静电电容。换句话说，接近手指的位置检测电极27在与手指之间形成静电电容，因此相较于距手指较远的位置检测电极27而静电电容较大。若在驱动器12中经由各位置检测布线11q而检测出各位置检测电极27的静电电容，则驱动器12从该检测出的静电电容中抽出产生了变化的静电电容，基于传送产生了变化的静电电容的位置检测布线11q而获取输入位置所涉及的位置信息。由此，能够检测基于使用者的手指的输入位置。
如以上说明那样，本实施方式的阵列基板(显示基板)11b具备：显示区域AA，其能够显示图像；非显示区域NAA，其以包围显示区域AA的形式配设于外周侧；多个输入端子部(端子部)28，配设于非显示区域NAA；第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20(第一绝缘膜)，其以跨越显示区域AA与非显示区域NAA的形式配设且作为端部的第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a(第一绝缘膜端部)配设于多个输入端子部28与显示区域AA之间；多个端子布线部29，至少在非显示区域NAA配设于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧而跨越第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a并且连接于多个输入端子部28；第二平坦化膜(第二绝缘膜)22，其以跨越显示区域AA与非显示区域NAA的形式配设于多个端子布线部29的上层侧且作为端部的第二平坦化膜端部(第二绝缘膜端部)22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧；以及多个保护部30，至少在非显示区域NAA配设于第二平坦化膜22的上层侧并由第一透明电极膜(透明电极膜)24构成且分别覆盖多个端子布线部29中的与第二平坦化膜22非重叠的部分。
这样，与配设于非显示区域NAA的多个输入端子部28连接的多个端子布线部29配设于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧而以跨越位于输入端子部28与显示区域AA之间的第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a的形式配设。多个端子布线部29中的与配设于上层侧的第二平坦化膜22非重叠的部分通过配设于第二平坦化膜22的上层侧而由第一透明电极膜24构成的多个保护部30分别覆盖，从而谋求保护。多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20重叠的部分相较于与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠的部分，在刻画图案时进行的曝光中容易产生曝光不均，有时线宽相对较粗。若这样，则对于邻接的端子布线部29之间的间隔而言，相较于与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠的部分而与第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20重叠的部分更窄。此处，假设在构成为多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a重叠的部分未被第二平坦化膜22覆盖的情况下，在对成为保护部30的第一透明电极膜24进行刻画图案时第一透明电极膜24的残渣容易在第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a附近产生，因此担心由于该残渣而使多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a重叠的部分，即邻接的端子布线部29之间的间隔相对较窄的部分短路。
在这一点上，第二平坦化膜22的第二平坦化膜端部22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧，因此多个端子布线部29中的与第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a重叠的部分，即邻接的端子布线部29之间的间隔相对较窄的部分被第二平坦化膜22覆盖。多个端子布线部29中的与第二平坦化膜端部22a重叠的部分同第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20非重叠，因此邻接的端子布线部29间的间隔相对变宽。因此，即使在第一透明电极膜24的刻画图案时第一透明电极膜24的残渣产生于第二平坦化膜端部22a附近，也难以产生由于该残渣而使多个端子布线部29中的与第二平坦化膜端部22a重叠的部分短路的情况。
另外，在第二平坦化膜22设置有配设于邻接的端子布线部29之间而从第二平坦化膜端部22a朝向输入端子部28侧突出的突起部31。若这样，则第二平坦化膜端部22a的邻接的端子布线部29之间的延面距离以与突起部31对应的大小变长，因此即使在第二平坦化膜端部22a附近产生作为保护部30的第一透明电极膜24的残渣，第一透明电极膜24的残渣也更难以以跨越邻接的端子布线部29之间的形式产生。并且，突起部31设置于相对于多个端子布线部29而配设于上层侧的第二平坦化膜22，因此突起部31相对于多个端子布线部29以高位置精度配置。获得这样的高位置精度的理由是由于一般绝缘膜相对于由下层侧的金属膜等构成的布线部而以采取对准的形式被刻画图案。由此，邻接的端子布线部29之间的防止短路的可靠性进一步变高。
另外，具备：TFT(显示元件)11f，其配设于显示区域AA；TFT连接部(元件连接部)11p，其在显示区域AA配设于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧而与TFT11f连接并且与端子布线部29同层；共用电极11h，其在显示区域AA配设于第二平坦化膜22的上层侧并且在与TFT连接部11p重叠的位置设置有开口部OP而由与保护部30相同的第一透明电极膜24构成；第二层间绝缘膜(第三绝缘膜)25，其至少在显示区域AA配设于共用电极11h的上层侧而在与TFT连接部11p重叠的位置形成有也与第二平坦化膜22连通的第二TFT接触孔(元件接触孔)CH2；以及像素电极11g，其在显示区域AA配设于第二层间绝缘膜25的上层侧并通过第二TFT接触孔CH2而与TFT连接部11p连接且由第二透明电极膜(第二个透明电极膜)26构成。若这样，则像素电极11g通过在第二层间绝缘膜25以及第二平坦化膜22相互连通的第二TFT接触孔CH2而与TFT连接部11p连接，经由该TFT连接部11p谋求相对于TFT11f的连接。像素电极11g相对于共用电极11h以经由第二层间绝缘膜25而重叠的形式配设，因此能够基于由TFT11f供给的电位而在与共用电极11h之间产生电位差并且基于该电位差而进行既定的灰度的显示。共用电极11h通过在与TFT连接部11p重叠的位置设置有开口部OP而谋求与像素电极11g的短路防止。另外，对于共用电极11h而言，对与保护部30相同的第一透明电极膜24进行刻画图案而形成，在该刻画图案时端子布线部29被保护部30覆盖而谋求保护，从而难以产生伴随着刻画图案而产生的端子布线部29的劣化。
这样，由与保护部30相同的第一透明电极膜24构成的共用电极11h需要使其开口部OP相对于与端子布线部29同层的TFT连接部11p而对准，相对于此，第二平坦化膜22以及第二层间绝缘膜25需要使相互连通的第二TFT接触孔CH2相对于与端子布线部29同层的TFT连接部11p而对准。因此，设置于第二平坦化膜22的突起部31以及保护部30分别相对于多个端子布线部29而以高位置精度配置，因此邻接的端子布线部29间的防止短路的可靠性进一步提高。
另外，共用电极11h兼作在与进行位置输入的位置输入体之间形成静电电容的位置检测电极27。若这样，则能够使该阵列基板11b内置位置输入功能。
另外，具备：TFT11f，其配设于显示区域AA；和源极布线(元件布线部)11j，其至少在显示区域AA配设于比第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20靠下层侧而与TFT11f连接，端子布线部29以及源极布线11j分别具有在非显示区域NAA相互重叠的布线重叠部11j1、29a，相对于此，在第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20中的与布线重叠部11j1、29a重叠的位置设置有将布线重叠部11j1、29a彼此连接的布线接触孔CH3。这样，配设于比第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20靠下层侧的源极布线11j、和配设于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧的端子布线部29通过第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的布线接触孔CH3而布线重叠部11j1、29a彼此连接。多个端子布线部29跨越第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a而与多个输入端子部28连接，因此存在由于第一透明电极膜24的残渣而使邻接的端子布线部29彼此短路的担忧，但如上述那样第二平坦化膜22的第二平坦化膜端部22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧，从而难以产生邻接的端子布线部29彼此因第一透明电极膜24的残渣而短路的情况。
另外，配设于第二平坦化膜22的下层侧的第一绝缘膜由第一层间绝缘膜(下层侧第一绝缘膜)19、和相对于第一层间绝缘膜19而配设于上层侧的第一平坦化膜(上层侧第一绝缘膜)20构成。这样，在配设于第二平坦化膜22的下层侧的第一绝缘膜由第一层间绝缘膜19和第一平坦化膜20构成的二层构造中，例如若第一层间绝缘膜19将第一平坦化膜20作为掩模利用而进行刻画图案，则在第一绝缘膜端部中第一层间绝缘膜19的立起角度容易比第一平坦化膜20的立起角度陡，因此存在第一透明电极膜24的残渣产生于第一层间绝缘膜端部19a的担忧，但如上述那样第二平坦化膜22的第二平坦化膜端部22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧，从而难以产生邻接的端子布线部29彼此由于第一透明电极膜24的残渣而短路的情况。
另外，本实施方式的液晶面板(显示装置)11具备：上述的阵列基板11b、和以与阵列基板11b对置的形式配设的CF基板(对置基板)11a。根据这样的结构的液晶面板11，阵列基板11b的防止短路的可靠性高，因此动作可靠性等优秀。
<第二实施方式>
根据图12～图15对本发明的第二实施方式进行说明。在该第二实施方式中，示出变更了第二平坦化膜122的结构。此外，针对与上述的第一实施方式相同的构造、作用以及效果，省略重复的说明。
如图12以及图13所示，本实施方式所涉及的第二平坦化膜122成为与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120非重叠的部分相较于与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120重叠的部分而膜厚相对较薄。第二平坦化膜122中的与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120非重叠的部分包括第二平坦化膜端部122a，因此第二平坦化膜端部122a的立起角度θ2比上述的第一实施方式所记载的第二平坦化膜端部22a的立起角度θ1(参照图10)缓。因此，在阵列基板111b的制造时对构成保护部130等的第一透明电极膜124进行刻画图案时，第一透明电极膜124的残渣更难以在第二平坦化膜端部122a附近产生，进而邻接的端子布线部129间的防止短路的可靠性进一步提高。在本实施方式中，伴随着采用上述那样的结构，可省略上述的第一实施方式所记载的突起部31(参照图9)。
如上述那样膜厚以两个阶段变化的第二平坦化膜122在阵列基板111b的制造时如以下那样形成。即，阵列基板111b的制造方法包括形成第二平坦化膜122的第二平坦化膜形成工序，该第二平坦化膜形成工序包括：使由正型的感光性材料构成的第二平坦化膜122以满布状成膜的成膜工序、使成膜的满布状的第二平坦化膜122经由作为光掩模的灰色调掩模GM而曝光的曝光工序、以及使曝光的第二平坦化膜122显影的显影工序。如图14所示，曝光工序中使用的灰色调掩模GM由透明的玻璃基材GMGS、和形成于玻璃基材GMGS的板面而对来自光源的曝光用光进行遮光的遮光膜GMBM构成。该遮光膜GMBM形成有成为曝光装置的分辨率以上的开口部GMBMa、和成为曝光装置的分辨率以下的狭缝GMBMb。遮光膜GMBM形成于同满布状的第二平坦化膜122中的与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120重叠的部分的形成预定位置重叠的位置，相对于此，开口部GMBMa形成于满布状的第二平坦化膜122中的与刻画图案后的第二平坦化膜122非重叠的位置(比第二平坦化膜端部122a靠输入端子部侧的部分)。此外，同样的开口部也形成于与未图示的第二TFT接触孔(参照图6以及图7)的形成预定位置重叠的位置。该开口部GMBMa成为曝光用光的透射率几乎100％的透射区域TA。另一方面，狭缝GMBMb形成于同满布状的第二平坦化膜122中的与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120非重叠的部分(包括第二平坦化膜端部122a的部分)的形成预定位置重叠的位置。换句话说，狭缝GMBMb相对于上述开口部GMBMa而于Y轴方向上配设于与显示区域AA侧邻接的位置，隔开间隔排列配设多个。这些狭缝GMBMb群成为曝光用光的透射率例如为10％～70％左右的半透射区域HTA。
在使用这样的结构的灰色调掩模GM进行的曝光工序中，若来自光源的曝光用光亦即紫外线经由灰色调掩模GM而照射于满布状的第二平坦化膜122，则在第二平坦化膜122中的与开口部GMBMa(透射区域TA)重叠的部分，照射光量相对较多，相对于此，在与狭缝GMBMb群(半透射区域HTA)重叠的部分，照射光量相对较少。因此，若接着进行显影工序，则如图15所示，第二平坦化膜122与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120非重叠的部分的膜厚相对较薄，与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120重叠的部分的膜厚相对较厚。这样，通过进行一次曝光工序，从而能够形成具有膜厚不同的部分的第二平坦化膜122，因此获得制造所需要的时间短即可的效果。
如以上说明那样，根据本实施方式，第二平坦化膜122中的与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120非重叠的部分相较于与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120重叠的部分而膜厚相对较薄。若这样，则第二平坦化膜122中的与第一层间绝缘膜119以及第一平坦化膜120非重叠的部分亦即第二平坦化膜端部122a的立起角度缓，因此在第二平坦化膜端部122a附近更难以产生第一透明电极膜124的残渣。由此，邻接的端子布线部129间的防止短路的可靠性进一步提高。
<第三实施方式>
根据图16～图18对本发明的第三实施方式进行说明。在该第三实施方式中，示出将上述的第一实施方式、第二实施方式组合而成者。此外，针对与上述的第一实施方式、第二实施方式相同的构造、作用以及效果，省略重复的说明。
如图16～图18所示，本实施方式所涉及的第二平坦化膜222除了具有配设于邻接的端子布线部229之间而从第二平坦化膜端部222a朝向输入端子部侧突出的突起部231之外，与第一层间绝缘膜219以及第一平坦化膜220非重叠的部分相较于与第一层间绝缘膜219以及第一平坦化膜220重叠的部分而膜厚相对较薄。第二平坦化膜222中的与第一层间绝缘膜219以及第一平坦化膜220非重叠的部分包括包含第二平坦化膜端部222a以及突起部231的部分，因此第二平坦化膜端部222a以及突起部231的立起角度分别更缓。因此，在阵列基板211b的制造时对构成保护部230等的第一透明电极膜224进行刻画图案时，第一透明电极膜224的残渣在第二平坦化膜端部222a以及突起部231附近更难以产生，进而邻接的端子布线部229之间的防止短路的可靠性进一步提高。
<第四实施方式>
根据图19对本发明的第四实施方式进行说明。在该第四实施方式中，示出从上述的第二实施方式将在曝光工序中使用的光掩模变更为半色调掩模HM而成者。此外，针对与上述的第二实施方式相同的构造、作用以及效果，省略重复的说明。
在本实施方式所涉及的阵列基板311b的制造方法中，在第二平坦化膜形成工序所包含的成膜工序中利用正型的感光性材料使第二平坦化膜322成膜，在曝光工序中作为光掩模而使用半色调掩模HM。如图19所示，半色调掩模HM由透明的玻璃基材HMGS、形成于玻璃基材HMGS的板面而对来自光源的曝光用光进行遮光的遮光膜HMBM、以及形成于玻璃基材HMGS的板面而使来自光源的曝光用光以既定的透射率透射的半透射膜HMHT构成。遮光膜HMBM曝光用光的透射率几乎为0％，其中，在同满布状的第二平坦化膜322的与第一层间绝缘膜319以及第一平坦化膜320重叠的部分的形成预定位置重叠的位置形成有开口部HMBMa。半透射膜HMHT以层叠于相对于遮光膜HMBM而与玻璃基材HMGS侧相反侧的形式形成，曝光用光的透射率例如为10％～70％左右。在半透射膜HMHT中的与刻画图案后的第二平坦化膜322非重叠的位置(比第二平坦化膜端部322a靠输入端子部侧的部分)形成有开口部HMHTa。换句话说，在半色调掩模HM的玻璃基材HMGS中的、同第二平坦化膜322中的与第一层间绝缘膜319以及第一平坦化膜20非重叠的部分(包含第二平坦化膜端部322a的部分)的形成预定位置重叠的位置，不存在遮光膜HMBM而仅存在半透射膜HMHT，这成为曝光用光的透射率例如为10％～70％左右的半透射区域HTA。半透射区域HTA成为遮光膜HMBM的开口部HMBMa中的与半透射膜HMHT的开口部HMHTa非重叠的范围。与此相对，半透射膜HMHT的开口部HMHTa成为曝光用光的透射率几乎为100％的透射区域TA。
在使用这样的结构的半色调掩模HM而进行的曝光工序中，若作为来自光源的曝光用光的紫外线经由半色调掩模HM而照射于满布状的第二平坦化膜322，则在第二平坦化膜322中的与半透射膜HMHT的开口部HMHTa(透射区域TA)重叠的部分中，照射光量相对较多，相对于此，在同遮光膜HMBM的开口部HMBMa中的与半透射膜HMHT的开口部HMHTa非重叠的范围(半透射区域HTA)重叠的部分中，照射光量相对较少。因此，若接着进行显影工序，则第二平坦化膜322中与第一层间绝缘膜319以及第一平坦化膜320非重叠的部分的膜厚相对较薄，与第一层间绝缘膜319以及第一平坦化膜320重叠的部分的膜厚相对较厚。这样，通过进行一次曝光工序，能够形成具有膜厚不同的部分的第二平坦化膜322，因此可获得制造所需要的时间较短即可的效果。
<其他的实施方式>
本发明不限定于通过上述记述以及附图而说明的实施方式，例如以下那样的实施方式也包含于本发明的技术的范围。
(1)在上述的各实施方式中，示出端子布线部由与TFT连接部相同的第三金属膜构成的情况，但也能够构成为：端子布线部由与位置检测布线相同的第四金属膜构成，端子布线部由与源极布线等相同的第二金属膜构成，端子布线部由与栅极布线等相同的第一金属膜构成等。
(2)在上述的各实施方式中，示出了端子布线部连接于源极布线的情况，但也能够为端子布线部与栅极布线、位置检测布线等源极布线以外的布线连接的结构。
(3)在上述的各实施方式中，示出在第一平坦化膜的下层侧层叠有第一层间绝缘膜的结构，但也能够省略第一层间绝缘膜。
(4)在上述的各实施方式(除去第二实施方式)中，示出了设置于第二平坦化膜的突起部的平面形状为三角形的情况，但突起部的平面形状除了三角形以外，也可以是梯形状、圆形状(半圆形状)、椭圆形状(半椭圆形状)、方形、五边形以上的多边形等。
(5)作为上述的第二实施方式～第四实施方式的变形例，也能够使构成第二平坦化膜的感光性材料成为负型。在该情况下，半色调掩模或者灰色调掩模的透射区域至少配设于同第二平坦化膜中的与第一层间绝缘膜以及第一平坦化膜重叠的部分的形成预定位置重叠的位置即可。
(6)在上述的各实施方式中，示出使用者通过自身的手指而进行位置输入的情况，但也能够通过触摸笔等手指以外的位置输入体进行位置输入。
(7)在上述的各实施方式中，示出位置检测电极与共用电极共用化的情况，但也能够与共用电极分开另外设置位置检测电极。
(8)在上述的各实施方式中，示出了触摸面板图案(位置检测电极以及位置检测布线等)内置于液晶面板的内嵌类型，但也可为所谓的外嵌(on-cell)类型、外置(out-cell)类型的液晶面板。特别是，在外置类型的液晶面板中，液晶面板不具有位置检测功能(触摸面板图案)。
(9)在上述的各实施方式中，示出具备位置检测功能(触摸面板图案)的液晶显示装置，但在不具备位置检测功能的液晶显示装置中也能够应用本发明。
(10)在上述的各实施方式中，示出平面形状为长方形的液晶面板，但在平面形状为正方形、圆形、椭圆形等的液晶面板中也能够应用本发明。
(11)在上述的各实施方式中，示出驱动器相对于液晶面板的阵列基板而被进行COG安装的情况，但也可以构成为驱动器相对于柔性基板而被进行COF(Chip On FiIm)安装。
(12)在上述的各实施方式中，例示出构成TFT的通道部的半导体膜由氧化物半导体材料构成的情况，但除此以外，例如也能够将多晶硅(作为多结晶化的硅(多结晶硅)的一种的CG硅(Continuous Grain Silicon))、非晶硅作为半导体膜的材料而使用。
(13)在上述的各实施方式中，例示出动作模式为FFS模式的液晶面板，除此以外，在IPS(In-Plane Switching)模式、VA(Vertical Alignment：垂直取向)模式等其他的动作模式的液晶面板中也能够应用本发明。
(14)在上述的各实施方式中，例示出液晶面板的彩色滤光片成为红色、绿色以及蓝色三色结构，但在具备在红色、绿色以及蓝色的各着色部加上黄色的着色部而成为四色结构的彩色滤光片的液晶面板中也能够应用本发明。
(15)在上述的各实施方式中，例示出成为在一对基板间夹持了液晶层的结构的液晶面板，但在一对基板间夹持了液晶材料以外的功能性有机分子的显示面板中也能够应用本发明。
(16)在上述的各实施方式中，作为液晶面板的开关元件而使用了TFT，但在使用了TFT以外的开关元件(例如薄膜二极管(TFD))的液晶面板中也能够应用，除了彩色显示的液晶面板以外，白黑显示的液晶面板中也能够应用。
(17)在上述的各实施方式中，例示出液晶面板，但在其他种类的显示面板(PDP(等离子显示器面板)、有机EL面板、EPD(电泳显示器面板)、MEMS(Micro Electro MechanicalSystems)显示面板等)中也能够应用本发明。
符号说明
11…液晶面板(显示装置)；11a...CF基板(对置基板)；11b、111b、211b、311b…阵列基板(显示基板)；11f…TFT(显示元件)；11g...像素电极；11h...共用电极；11j...源极布线(元件布线部)；11j1...布线重叠部；11p...TFT连接部(元件连接部)；19、119、219、319...第一层间绝缘膜(下层侧第一绝缘膜、第一绝缘膜)；19a...第一层间绝缘膜端部(第一绝缘膜端部)；20、120、220、320...第一平坦化膜(上层侧第一绝缘膜、第一绝缘膜)；20a...第一平坦化膜端部(第一绝缘膜端部)；22、122、222、322…第二平坦化膜(第二绝缘膜)；22a、122a、222a、322a...第二平坦化膜端部(第二绝缘膜端部)；24、124、224...第一透明电极膜(透明电极膜)；25...第二层间绝缘膜(第三绝缘膜)；26...第二透明电极膜(第二个透明电极膜)；27...位置检测电极；28...输入端子部(端子部)；29、129、229...端子布线部；29a...布线重叠部；30、130、230...保护部；31、231...突起部；AA...显示区域；CH2...第二TFT接触孔(元件接触孔)；CH3...布线接触孔；NAA...非显示区域；OP...开口部。

Claims (8)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
显示区域，其能够显示图像；
非显示区域，其以包围所述显示区域的形式配设于外周侧；
多个端子部，配设于所述非显示区域；
第一绝缘膜，其以跨越所述显示区域与所述非显示区域的形式配设，且作为端部的第一绝缘膜端部配设于多个所述端子部与所述显示区域之间；
多个端子布线部，至少在所述非显示区域配设于所述第一绝缘膜的上层侧而跨越所述第一绝缘膜端部并且与多个所述端子部连接；
第二绝缘膜，其以跨越所述显示区域与所述非显示区域的形式配设于多个所述端子布线部的上层侧，而作为端部的第二绝缘膜端部配设于比所述第一绝缘膜端部靠所述端子部侧；以及
多个保护部，至少在所述非显示区域配设于所述第二绝缘膜的上层侧而由透明电极膜构成，且分别覆盖多个所述端子布线部中的与所述第二绝缘膜非重叠的部分。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
在所述第二绝缘膜设置有配设于邻接的所述端子布线部之间而从所述第二绝缘膜端部朝向所述端子部侧突出的突起部。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，包括：
显示元件，其配设于所述显示区域；
元件连接部，其在所述显示区域配设于所述第一绝缘膜的上层侧而与所述显示元件连接，并且与所述端子布线部同层；
共用电极，其在所述显示区域配设于所述第二绝缘膜的上层侧，并且在与所述元件连接部重叠的位置设置有开口部而由与所述保护部相同的透明电极膜构成；
第三绝缘膜，其至少在所述显示区域配设于所述共用电极的上层侧，而在与所述元件连接部重叠的位置形成有也与所述第二绝缘膜连通的元件接触孔；以及
像素电极，其在所述显示区域配设于所述第三绝缘膜的上层侧并通过所述元件接触孔而与所述元件连接部连接且由第二个透明电极膜构成。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，
所述共用电极兼作在与进行位置输入的位置输入体之间形成静电电容的位置检测电极。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的显示基板，其特征在于，
所述第二绝缘膜中的与所述第一绝缘膜非重叠的部分相较于与所述第一绝缘膜重叠的部分而膜厚相对较薄。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的显示基板，其特征在于，包括：
显示元件，其配设于所述显示区域；和
元件布线部，其至少在所述显示区域配设于比所述第一绝缘膜靠下层侧而与所述显示元件连接，
所述端子布线部以及所述元件布线部分别具有在所述非显示区域相互重叠的布线重叠部，相对于此，在所述第一绝缘膜中的与所述布线重叠部重叠的位置设置有将所述布线重叠部彼此连接的布线接触孔。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的显示基板，其特征在于，
所述第一绝缘膜由下层侧第一绝缘膜、和相对于所述下层侧第一绝缘膜而配设于上层侧的上层侧第一绝缘膜构成。
8.一种显示装置，其特征在于，具备：
权利要求1～7中任一项所述的显示基板、和以与所述显示基板对置的形式配设的对置基板。
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