CN108319080B - 显示基板及其制造方法和显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示基板,包括:透明基板,包括一侧面和一边缘;透明电极层,透明电极层形成于透明基板的侧面,且覆盖全部该侧面;以及配向层,配向层形成于透明电极层上,且配向层覆盖透明电极层的全部表面;配向层包括连接区和光敏区,光敏区包括光敏材料。本发明还提供一种显示基板的制造方法和显示面板。本发明的技术方案通过在配向层内设置光敏材料,使得在配向层覆盖透明电极层时,也能实现两个相对设置的显示基板的透明电极层的互相导通,一方面可以有效减少屏幕的黑色边框区域,另一方面也不需要控制配向层与透明基板边缘之间的距离,有效的简化了生产工艺。
Description
技术领域
本发明涉及显示屏领域,尤其是一种显示基板及其制造方法和显示面板。
背景技术
现有显示屏通常包括两块平行设置的透明基板,面板上设有透明电极层和配向层,一般来说透明电极层为覆盖透明基板全部表面的ITO(Indium Tin Oxides,氧化铟锡),而配向层为PI(Polyimide,聚酰亚胺)。现有的显示屏中,在配向层不会覆盖透明电极层的边缘位置,两块面板的透明电极层通过掺有金球的封框胶连接,使两块面板的透明电极层之间互相导通,以实现显示屏正常工作,而封框胶所在的位置则形成显示屏边缘的边框,也称为“黑边”。
随着人们对电子产品的使用,美观已经成为必不可少的需求之一,其中减少显示屏的“黑边”也成为越来越多消费者的需求。现有技术中通过降低封框胶的宽度来减少黑边,然而随着封框胶宽度的降低,其加工难度越来越大,成品率低。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种显示基板及其制造方法和显示面板,旨在解决现有显示屏边框较大及生产难度大的问题。
为解决上述问题,本发明提供一种显示基板,包括:
透明基板,包括一侧面和一边缘;
透明电极层,所述透明电极层形成于所述透明基板的侧面,且覆盖全部该侧面;以及
配向层,所述配向层形成于所述透明电极层上,且所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面;
其中,所述配向层包括:
连接区,所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域,所述连接区用于与封框胶相连;
光敏区,所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域,所述光敏区包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度。
所述配向层的厚度为50-150纳米。
所述配向层的厚度为80-120纳米。
所述显示基板还包括:
偏光层,所述偏光层设置于所述透明基板远离所述透明电极层的一侧,所述偏光片与所述透明基板相贴合;以及
滤光层,所述滤光层设置于所述透明基板与所述透明电极层之间。
本发明还提供一种显示基板的制造方法,包括步骤:
在透明基板上形成透明电极层;
在所述透明电极层上形成配向层,其中,所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面,所述配向层包括:
连接区,所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域,所述连接区用于与封框胶相连;
所述配向层还包括:
光敏区,所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域,其中,所述光敏区包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度。
所述配向层的厚度为50-150纳米。
所述配向层的厚度为80-120纳米。
本发明还提供一种显示面板,包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板,所述第一基板和所述第二基板包括:
透明基板,包括一侧面和一边缘;
透明电极层,所述透明电极层形成于所述透明基板的侧面,且覆盖全部该侧面;以及
配向层,所述配向层形成于所述透明电极层上,且所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面;
其中,所述配向层包括:
连接区,所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域;
光敏区,所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域,所述光敏区包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度;
其中,所述第一基板和第二基板透明电极层相对设置且所述第一基板的连接区和所述第二基板的连接区通过封框胶相连。
所述第一基板和第二基板之间容纳有液晶层。
所述封框胶内分布有导电金球,所述导电金球包括球体和设于所述球体外的镀层,所述球体由高分子材料制成,所述镀层为黄金或铂金。
本发明的技术方案通过在配向层内设置光敏材料,使得在配向层覆盖透明电极层时,也能实现两个相对设置的显示基板的透明电极层的互相导通,一方面可以有效减少屏幕的黑色边框区域,另一方面也不需要控制配向层与透明基板边缘之间的距离,有效的简化了生产工艺。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明实施例显示基板的局部结构示意图;
图2为本发明一实施例中配向层的局部结构示意图;
图3为本发明又一实施例中配向层的局部结构示意图;
图4为本发明实施例显示面板的局部结构示意图;
图5为本发明实施例显示基板制作方法的流程图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
另外,本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
本发明提供一种显示基板。
请参阅图1所示,在一个实施例中,显示基板包括透明电极层10和配向层20,在某些具体实施方式中,显示基板为Array基板(阵列基板)或CF基板(Color Filter,彩色滤光片基板),透明电极层10为ITO,而配向层20为PI。透明电极层10形成于透明基板50上,而配向层20形成于透明电极层10上。
如图1所示,透明电极层10和配向层20相贴合,配向层20覆盖透明电极层10一侧的全部表面。
如图2和图3所示,配向层20包括连接区21和光敏区22,连接区21和光敏区22都指的是配向层20的一部分,其具体形状可根据透明基板50的形状设置。
在某些具体实施方式中,透明基板50为矩形,则连接区21和光敏区22均指的是配向层20位于该矩形边缘的一方框形区域,该方框形区域从透明基板50的边缘向内延伸一宽度,其中连接区21的宽度为第一预设宽度,而光敏区22的宽度为第二预设宽度,其中第一预设宽度小于或等于第二预设宽度。
在其他一些具体实施方式中,透明基板50的形状为圆形,则连接区21和光敏区22为相应的圆环状,且连接区21的宽度为第一预设宽度,光敏区22的宽度为第二预设宽度,且第一预设宽度小于或等于第二预设宽度。
显然,透明基板50的形状还可以是其他形状,而连接区21和光敏区22的形状也相应的发生变化。
如图2所示,在某一具体实施方式中,连接区21的范围与光敏区22的范围相同,即第一预设宽度等于第二预设宽度;请进一步参阅图3,在其他一些具体实施方式中,连接区21的范围小于光敏区22的范围,即第一预设宽度小于第二预设宽度。
本实施例中的光敏区22内设有遇光导通的光敏材料,具体的,在形成配向层20的光敏区22时,向原料中增加了光敏材料。
在某些具体实施方式中,配向层20为PI,而光敏材料为紫外光敏材料,显然,在其他一些具体实施方式中,还可以选用其他材料制成配向层20或选用其他类型的光敏材料。
由于第一预设宽度小于或等于第二预设宽度,因此连接区21的范围小于或等于光敏区22的范围,即光敏区22的一部分或者全部与连接区21重合。为了简化生产工艺和降低生产难度,本实施例中的光敏区22的宽度只要大于连接区21的宽度即可,即使光敏区22的范围过大,也不会产生不利影响,因此第二预设宽度并不需要精确控制,在某些具体实施方式中,可以将第二预设宽度设定为0.5±0.2毫米,即将第二预设宽度定义为0.5毫米,同时允许存在0.2毫米的误差,在加工过程中的加工难度相对较低,对加工设备的要求也相对较低。
应当理解的是,如果在配向层20边缘和透明基板50的边缘加工出一空白区域,使得透明电极层10的部分直接暴露出来,那么随着该空白区域的宽度的减小,加工难度会越来越大。例如,如果需要将显示面板周围的黑色边框的宽度控制为0.3毫米,那么必须加工出宽度为0.3毫米的空白区域,而如果要求显示面板周围的黑色边框宽度更小,则必须也相应加工出宽度更小的空白区域,由于误差的存在,加工难度也越来越大。而本实施例的技术方案则直接将配向层20覆盖透明电极层10的全部表面,不涉及到误差控制,加工工艺成熟,成品率更高。
本实施例的技术方案中,在配向层20的边缘区域设置一包括光敏材料的光敏区22,当光敏材料受到光照而导通时,使得配向层20的边缘区域不再是绝缘状态,同时,本实施例中,配向层20覆盖透明电极层10的全部表面,因此生产加工过程中,不需要刻意控制配向层20的边缘与透明基板50边缘之间的距离。
一般来说,配向层20的厚度应当为50-150纳米,本实施例中,考虑到加工精度,以配向层20的厚度为80-120纳米为例。由于配向层20的厚度较小,所以单位面积的电阻相对较小,所以可以利用光敏材料实现其导通。
此外,为实现上述目的,本发明还提供一种显示基板的制造方法,如图5所示,在一实施例中,该显示基板的制造方法包括步骤:
S10、在透明基板50上形成透明电极层10;
S20、在所述透明电极层10上形成配向层20,其中,所述配向层20覆盖所述透明电极层10的全部表面,所述配向层20包括:
连接区21,所述连接区21为配向层20距离所述透明基板50边缘的距离小于第一预设宽度的区域,所述连接区21用于与封框胶30相连;所述配向层20还包括:
光敏区22,所述光敏区22为配向层20距离所述透明基板50边缘的距离小于第二预设宽度的区域,其中,所述光敏区22包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于第二预设宽度。
在某些实施方式的制作过程中,可以在形成配向层20过程中,在原料中直接增加光敏材料,因为即使全部配向层20内都具有光敏材料,那么未设有封框胶30的区域也不会导通,因此并不会对显示效果产生不利影响,在其他一些具体实施方式中,还可以在生产设备中增加一组加料装置,该加料装置用于向原料中添加光敏材料,在形成配向层20中央部分时,加料装置的开关关闭,该区域的配向层20不包括光敏材料,当形成配向层20的边缘区域,也就是光敏区22时,加料装置的开关打开,向配向层20的原料中添加光敏材料,使得边缘区域的配向层20中增加了光敏材料。
应当理解的是,本实施例的技术方案中,对于光敏材料的范围并不需要精确控制,所以可以通过合理设置第一预设宽度以保证设置有光敏材料的光敏区22的范围大于连接区21。所以本实施例的技术方案中,控制过程简单,生产过程中,精度要求也相对较低,有助于提高成品率。
请进一步参阅图4,为实现上述目的,本实施例还提供一种显示面板,在一实施例中,该显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板,第一基板和第二基板具体为上述任一项的显示基板,第一基板的配向层20和第二基板的配向层20相对设置,第一基板的连接区21和第二基板的连接区21通过封框胶30密封。
在又一个实施例中,第一基板和第二基板之间容纳有液晶层40。在第一基板远离第二基板的一侧设有背光模组(Black Light)80,封框胶30内设有导电金球,导电金球均匀的分布于封框胶30内。导电金球包括球体和设于球体外的镀层,球体由高分子材料制成,镀层为黄金或铂金,以提高导电金球的导电效率。
在处于使用状态下,显示面板的第一基板和第二基板需要处于导通状态,本实施例中,可以通过使用光源照射光敏区22,使得光敏区22中的光敏材料处于导通状态,实现第一基板和第二基板的透明电极层10通过光敏区22和封框胶30中的导电金球相导通,可以满足正常的工作状态。
本实施例的技术方案通过利用设置光敏区22,解决了显示基板边缘需要为配向层20预留空隙以实现显示面板的透明电极层10之间的导通的问题,可以有效的减少显示面板边缘的黑色边框,同时生产方式简单,工艺相对成熟。
在又一实施例中,显示面板还可以包括偏光层(polarizer)60和彩色滤光层(CF,color filter)70,偏光层60设置于透明基板50远离透明电极层10的一侧,偏光层60与透明基板50相贴合,彩色滤光层70设置于透明基板50与透明电极层10之间,即透明电极层10实际上形成于彩色滤光层70上,配向层20形成于透明电极层10上。
为了实现显示面板的正常功能,在工作过程中,每一显示面板的两片显示基板的透明电极层10必须互相导通,而配向层20本身为绝缘材料,因此现有的显示面板中,配向层20不能覆盖透明电极层10的全部表面,而是在边缘预留一定的空白区域,并在该空白区域设置封框胶30以实现两片显示面板的透明电极层10之间的导通。
本实施例的显示面板由于每一基板的边缘位置设置有光敏区22,可以实现第一基板和第二基板之间的导通,因此只要合理控制封框胶30的用量,即可合理控制“黑边”的宽度,在加工过程中,由于控制过程更加简单,工艺更加成熟,因此可以合理的协调良品率与黑边宽度的关系,在保证黑边宽度一定的前提下,可以有效提高良品率。
由于本实施例的技术方案采用了上述实施例的全部技术方案,因此至少具有上述实施例的全部技术效果,此处不再一一赘述。
以上仅为本发明的可选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (8)
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
透明基板,包括一侧面和一边缘;
透明电极层,所述透明电极层形成于所述透明基板的侧面,且覆盖全部该侧面;以及
配向层,所述配向层形成于所述透明电极层上,且所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面;
其中,所述配向层包括:
连接区,所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域,所述连接区用于与封框胶相连;
光敏区,所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域,所述光敏区包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度;
所述配向层的厚度为50-150纳米,所述第二预设宽度设定为0.5±0.2毫米。
2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述配向层的厚度为80-120纳米。
3.如权利要求1-2任一项所述的显示基板,其特征在于,还包括:
偏光层,所述偏光层设置于所述透明基板远离所述透明电极层的一侧,所述偏光层与所述透明基板相贴合;以及
滤光层,所述滤光层设置于所述透明基板与所述透明电极层之间。
4.一种显示基板的制造方法,其特征在于,包括步骤:
在透明基板上形成透明电极层;
在所述透明电极层上形成配向层,其中,所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面,所述配向层包括:
连接区,所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域,所述连接区用于与封框胶相连;
所述配向层还包括:
光敏区,所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域,其中,所述光敏区包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度;
所述配向层的厚度为50-150纳米,所述第二预设宽度设定为0.5±0.2毫米。
5.如权利要求4所述的显示基板的制造方法,其特征在于,所述配向层的厚度为80-120纳米。
6.一种显示面板,包括相对设置的第一基板和第二基板,其特征在于,所述第一基板和所述第二基板包括:
透明基板,包括一侧面和一边缘;
透明电极层,所述透明电极层形成于所述透明基板的侧面,且覆盖全部该侧面;以及
配向层,所述配向层形成于所述透明电极层上,且所述配向层覆盖所述透明电极层的全部表面;
其中,所述配向层包括:
连接区,所述连接区为所述配向层由边缘向内延伸第一预设宽度的区域;
光敏区,所述光敏区为所述配向层由边缘向内延伸第二预设宽度的区域,所述光敏区包括光敏材料,所述第一预设宽度小于或等于所述第二预设宽度;
其中,所述第一基板和第二基板透明电极层相对设置且所述第一基板的连接区和所述第二基板的连接区通过封框胶相连,所述配向层的厚度为50-150纳米,所述第二预设宽度设定为0.5±0.2毫米。
7.如权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一基板和第二基板之间容纳有液晶层。
8.如权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述封框胶内分布有导电金球,所述导电金球包括球体和设于所述球体外的镀层,所述球体由高分子材料制成,所述镀层为黄金或铂金。
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