CN108285738A - 一种耐 uv 消影膜涂层材料 - Google Patents
一种耐 uv 消影膜涂层材料 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108285738A CN108285738A CN201610965105.XA CN201610965105A CN108285738A CN 108285738 A CN108285738 A CN 108285738A CN 201610965105 A CN201610965105 A CN 201610965105A CN 108285738 A CN108285738 A CN 108285738A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- solvent
- resistance
- coating materials
- nano
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
- C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K13/00—Use of mixtures of ingredients not covered by one single of the preceding main groups, each of these compounds being essential
- C08K13/02—Organic and inorganic ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/011—Nanostructured additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/014—Additives containing two or more different additives of the same subgroup in C08K
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
本发明涉及光学领域，公开了一种耐 UV 消影膜涂层材料，包括：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂 5‑20份、纳米α‑氧化铝 5‑15份、纳米氧化铪1‑7份、纳米氧化硅1‑8份、硅酸盐溶液1‑10份、丙烯酰吗啉 2‑7份、流平剂 0.2‑2.0份、光引发剂 1‑3份、有机溶剂 28‑83.8份。通过添加纳米氧化硅并且用氧化铝替代纳米氧化锆，完全减少氧化锆的使用量，由于纳米氧化硅和纳米氧化铝不同，从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙，使颗粒之间的缝隙有更好的致密度，从而解决了单一材料之间的致密度较低的问题。
Description
技术领域
本发明涉及光学领域，具体涉及一种耐UV消影膜涂层材料。
背景技术
消影膜是电容 ITO 导电膜的重要基础材料，电容 ITO 膜在后期制程中一般会做图案，因 ITO 线 (ITO 折射率＝ 1.8) 与蚀刻后无 ITO 区 ( 普通 HC 折射率＝ 1.5)存在较大折射率差异，造成图案可视性，即所谓的色差，会大大影响 TP 使用过程视觉效果。为此，必须进行消影处理，通常有两种方法进行消影：
——干法：即在 PET 基材上溅镀多层不同折射率的金属氧化物，通过控制各层折射率和涂层厚度达到减低色差，达到消影目的。
——湿法：即在 PET 基材上预先涂布一层高折射率涂层 ( 通常具备硬化层功能 )，进而提高蚀刻区涂层折射率接近 ITO 线折射率，该涂层一般称为 IM( 消影膜 ) 涂层。上述消影膜涂层的涂层材料目前一般是 UV 固化树脂+改性分散的纳米氧化锆，由于在ITO 膜后期使用过程中常常要进行UV固化处理，这种材料形成的消影膜涂层在经多次 UV照射后，因涂层材料和PET基材收缩率不一致，前者收缩率大于后者，故会造成涂层脱落问题，严重影响导电膜的使用。
在申请号为201510884859.8的专利中公开了一种消影膜涂层材料，由于氧化锆的硬度较大，氧化锆的磨碎程度较难，纳米级氧化锆的成本较高，单一材料之间的致密度较低。因此，需对现有技术加以改进。
发明内容
本发明提供了一种耐 UV 消影膜涂层材料，用以解决现有技术中氧化锆的磨碎程度较难，纳米级氧化锆的成本较高，单一材料之间的致密度较低的问题。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种耐 UV 消影膜涂层材料，该涂层材料包括按质量份计的下述组分：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂 5-20 份、纳米α-氧化铝 5-15 份、纳米氧化铪1-7份、纳米氧化硅1-8份、硅酸盐溶液1-10份、丙烯酰吗啉 2-7 份、流平剂 0.2-2.0 份、光引发剂 1-3 份、有机溶剂28-83.8份。
相对于现有技术而言，通过添加纳米氧化硅并且用氧化铝替代纳米氧化锆，完全减少氧化锆的使用量，同时由于纳米氧化硅和纳米氧化铝的内在晶体结构不同，两者的外在颗粒结构也不相同，从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙，使颗粒之间的缝隙有更好的致密度，从而解决了氧化锆的磨碎程度较难，纳米级氧化锆的成本较高，单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近，进一步减少影像影响、提高视觉效果。由于氧化铪有更好的光透性，进一步提高了透光率。
进一步地，所述组分的质量份数进一步如下：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂10-15 份、纳米α-氧化铝 10-15 份、纳米氧化铪2-5份、纳米氧化硅2-6份、硅酸盐溶液2-7份、丙烯酰吗啉 2-5份、流平剂 0.2-1.0 份、光引发剂 1-2 份、有机溶剂 44-70.8 份。
进一步地，所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为 2-6，分子量1000-20000。
进一步地，所述光引发剂选自光引发剂 184、光引发剂 1173、光引发剂 TPO 和光引发剂 651 之一。
进一步地，所述有机溶剂选自酮类溶剂、脂类溶剂、醇类溶剂或醚类溶剂，或者是酮类溶剂、脂类溶剂、醇类溶剂和醚类溶剂中两种以上的混合物。
进一步地，所述酮类溶剂是指丁酮、丙酮、2- 戊酮、异佛尔酮和甲基异丁基酮中的一种或两种以上的混合物，所述脂类溶剂是指乙酸乙酯和乙酸丁酯中的一种或两种以上的混合物，所述醇类溶剂是指乙醇和异丙醇中的一种或两种以上的混合物；所述醚类溶剂是指丙二醇单甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或两种以上的混合物。
进一步地，所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂选自：脂肪族聚氨酯三甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯四甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯五甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯六甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基五丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基六丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基四丙烯酸树脂中的一种。
进一步地，所述硅酸盐溶液为硅酸钠、硅酸钾饱和溶液中的一种。
本发明由于使用以上技术方案，使其具有的有益效果是：
通过添加纳米氧化硅减少纳米氧化锆的使用量，同时由于纳米氧化硅和纳米氧化锆的内在晶体结构不同，两者的外在颗粒结构也不相同，从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙，使颗粒之间的缝隙有更好的致密度，从而解决了氧化锆的磨碎程度较难，纳米级氧化锆的成本较高，单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近，进一步减少影像影响、提高视觉效果。通过进一步选择多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂及有机溶剂，进一步降低生产成本，提高涂层材料的效果，保持了原有的很高的耐 UV 特性，能够有力的保持涂层的消影效能，也即提高了 ITO 导电膜品质。
具体实施方式
为了使发明实现的技术手段、创造特征、达成目的和功效易于明白了解，进一步阐述本发明。
下面结合实施例对本案提供的耐 UV 消影膜涂层材料进行具体说明如下：
下面的表格为本发明例举的四种实施例组分的质量份统计：
按照各实施例的配方要求进行配液，分散混合好，通过微凹版涂布方式，在东丽UH33基材 (PET) 的高折射率底涂面涂布干厚 1.5μm 的涂层，经热风干燥、500mj/cm2UV 固化后成消影膜。对该消影膜进行透光率、雾度、反射率和耐 UV 附着力测试，测试结果见下表：
| 测试项目 | 实施例一 | 实施例二 | 实施例三 | 实施例四 |
| 透光率 | 92.1% | 91.9% | 92.2% | 91.8% |
| 雾度 | 0.48 | 0.47 | 0.52 | 0.51 |
| 反射率 | 6.19% | 6.21% | 6.28% | 6.31% |
相对于现有技术而言，通过添加纳米氧化硅并且用氧化铝替代纳米氧化锆，完全减少氧化锆的使用量，同时由于纳米氧化硅和纳米氧化铝的内在晶体结构不同，两者的外在颗粒结构也不相同，从而在混合的时候可以相互填充之间的缝隙，使颗粒之间的缝隙有更好的致密度，从而解决了氧化锆的磨碎程度较难，纳米级氧化锆的成本较高，单一材料之间的致密度较低的问题。由于氧化硅和硅酸盐的折射率与基层的折射率相近，进一步减少影像影响、提高视觉效果。由于氧化铪有更好的光透性，进一步提高了透光率。通过进一步选择多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂及有机溶剂，进一步降低生产成本，提高涂层材料的效果，保持了原有的很高的耐UV特性，能够有力的保持涂层的消影效能，也即提高了ITO导电膜品质。
以上对发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是，发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改做出若干简单推演、变形或替换，这并不影响发明的实质内容。
Claims (8)
1.一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于，该涂层材料包括按质量份计的下述组分：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂 5-20 份、纳米α-氧化铝 5-15 份、纳米氧化铪1-7份、纳米氧化硅1-8份、硅酸盐溶液1-10份、丙烯酰吗啉 2-7 份、流平剂 0.2-2.0 份、光引发剂1-3 份、有机溶剂 28-83.8 份。
2.根据权利要求 1 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于，所述组分的质量份数进一步如下：多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂 10-15 份、纳米α-氧化铝 10-15 份、纳米氧化铪2-5份、纳米氧化硅2-6份、硅酸盐溶液2-7份、丙烯酰吗啉 2-5份、流平剂 0.2-1.0 份、光引发剂 1-2 份、有机溶剂 44-70.8 份。
3.根据权利要求 1 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于：所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂的官能度为 2-6，分子量 1000-20000。
4.根据权利要求 1 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于：所述光引发剂选自光引发剂 184、光引发剂 1173、光引发剂 TPO 和光引发剂 651 之一。
5.根据权利要求 1 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于：所述有机溶剂选自酮类溶剂、脂类溶剂、醇类溶剂或醚类溶剂，或者是酮类溶剂、脂类溶剂、醇类溶剂和醚类溶剂中两种以上的混合物。
6.根据权利要求 5 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于：所述酮类溶剂是指丁酮、丙酮、2-戊酮、异佛尔酮和甲基异丁基酮中的一种或两种以上的混合物，所述脂类溶剂是指乙酸乙酯和乙酸丁酯中的一种或两种以上的混合物，所述醇类溶剂是指乙醇和异丙醇中的一种或两种以上的混合物；所述醚类溶剂是指丙二醇单甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或两种以上的混合物。
7.根据权利要求 3 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于，所述多官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂选自：脂肪族聚氨酯三甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯四甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯五甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯六甲基丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基五丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基六丙烯酸树脂、脂肪族聚氨酯甲基四丙烯酸树脂中的一种。
8.根据权利要求 1 所述的一种耐 UV 消影膜涂层材料，其特征在于：所述硅酸盐溶液为硅酸钠、硅酸钾饱和溶液中的一种。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610965105.XA CN108285738A (zh) | 2016-11-04 | 2016-11-04 | 一种耐 uv 消影膜涂层材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610965105.XA CN108285738A (zh) | 2016-11-04 | 2016-11-04 | 一种耐 uv 消影膜涂层材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108285738A true CN108285738A (zh) | 2018-07-17 |
Family
ID=62817145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201610965105.XA Pending CN108285738A (zh) | 2016-11-04 | 2016-11-04 | 一种耐 uv 消影膜涂层材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108285738A (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1653561A (zh) * | 2002-05-23 | 2005-08-10 | 日本油脂株式会社 | 透明导电层合薄膜、含透明导电层合薄膜的接触面板以及透明导电层合薄膜的制备方法 |
| CN105331278A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-02-17 | 江苏日久光电股份有限公司 | 一种耐uv消影膜涂层材料 |
-
2016
- 2016-11-04 CN CN201610965105.XA patent/CN108285738A/zh active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1653561A (zh) * | 2002-05-23 | 2005-08-10 | 日本油脂株式会社 | 透明导电层合薄膜、含透明导电层合薄膜的接触面板以及透明导电层合薄膜的制备方法 |
| CN105331278A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-02-17 | 江苏日久光电股份有限公司 | 一种耐uv消影膜涂层材料 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103935097B (zh) | 一种防蓝光硬化膜 | |
| KR102353577B1 (ko) | 무기 미립자 분산액의 제조 방법, 당해 분산액을 포함하는 경화성 조성물, 및 그 경화물 | |
| KR101304381B1 (ko) | 반사 방지 적층체의 제조방법 | |
| CN105331278B (zh) | 一种耐uv消影膜涂层材料 | |
| TWI395796B (zh) | 透明膜形成用組成物及積層透明膜 | |
| CN104199128A (zh) | 一种光学硬化膜 | |
| CN105315879B (zh) | 一种高清晰紫外光固化防眩硬涂膜 | |
| DE112008003517T5 (de) | Polarisationsfolie umfassend eine antistatische Beschichtungsschicht | |
| TW201522546A (zh) | 無機粒子分散液、含無機粒子之組成物、塗膜、附塗膜之塑膠基材、顯示裝置 | |
| JP2007025040A (ja) | 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 | |
| CN112480454A (zh) | 一种液晶显示用防眩光硬化膜 | |
| KR20130128466A (ko) | 반사 방지 필름 및 편광판 | |
| CN108285736A (zh) | 一种耐 uv 消影膜涂层材料 | |
| KR101192387B1 (ko) | 광학적층체 | |
| JP2006285217A (ja) | 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 | |
| CN108285738A (zh) | 一种耐 uv 消影膜涂层材料 | |
| CN114805889B (zh) | 一种用于柔性显示屏的罩层胶膜及其制备方法 | |
| JP2008156413A (ja) | 塗料と積層膜及びその製造方法並びに積層膜付き基材 | |
| KR20140040382A (ko) | 방현 필름, 이를 이용한 편광판 및 표시 장치 | |
| CN108285737A (zh) | 一种耐 uv 消影膜涂层材料 | |
| JP2007062073A (ja) | 防眩性反射防止フィルム及びその製造方法と画像表示装置 | |
| JP2005281476A (ja) | 樹脂ビーズ含有塗料及びその製造方法 | |
| CN107144901B (zh) | 一种光学浆料薄膜制备方法及光学膜 | |
| TWI676601B (zh) | 氧化鋯、氧化鋯分散液、含有氧化鋯的組成物、塗膜及顯示裝置 | |
| CN109749109A (zh) | 涂膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20180717 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |