CN108275878A - 一种陶瓷大板底釉及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种陶瓷大板底釉，其按原料重量百分比计包括如下组分：钾长石10～20％、钠长石22～40％、霞石5～15％、混合高岭土20～30％、石英粉5～15％、氧化铝10～20％、中温熔块5～10％、硅酸锆5～15％。本发明通过调整原料组分及其配比，使得该底釉性能优异，能适应生产中的喷釉工艺操作，同时经高温烧成后，釉面无针孔、凹釉、气泡等缺陷，使其对色泽纹理的显现既具备天然大岩板顺畅自然的优点，又不失陶瓷砖的高贵典雅，且赋予陶瓷大板良好的防污性及抗化学腐蚀性。本发明还公开了该底釉的制备方法，其工艺简单，工艺参数可控性强，生产效率高，适合于大规模工业化生产。

Description

一种陶瓷大板底釉及其制备方法
技术领域
本发明涉及陶瓷砖领域，特别涉及一种陶瓷砖底釉。
背景技术
陶瓷大板作为一款新型陶瓷产品，以其超大规格的特性，能承载比传统陶瓷砖更为丰富的纹理元素，结合先进的技术水平，可实现优良的釉面品质。陶瓷大板具备装饰效果简洁大气、留缝少、避免藏污纳垢、施工铺贴效率高等优势，其在高端家居产品市场中的占有率将的不断增大。
然而，陶瓷大板规格突破常规陶瓷砖尺寸，导致生产难度增大，既要保证生产过程的稳定性，又要提高产品的品质，这就需要釉料配方能与坯体及窑炉同时配合，达到稳定高质量的效果。目前国内的陶瓷大板难以攻克釉面技术难点，产品烧成后的釉面均存在针孔、凹釉、气泡等质量缺陷，导致成品率低、生产成本高，从而降低了经济效益。
发明内容
本发明的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种陶瓷大板底釉，同时提供该陶瓷大板底釉的制备方法。
本发明所采取的技术方案是：一种陶瓷大板底釉，其按原料重量百分比计包括如下组分：
作为上述方案的进一步改进，所述钾长石为K2O含量占7～14％的长石原料，所述钠长石为Na2O含量占7～13％的长石原料，其钾长石和钠长石的优化选用和复配，赋予该底釉良好的烧成性能，其形成的底釉表面平整性高。
作为上述方案的进一步改进，所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土的混合物，其比单一选用生高岭土或煅烧高岭土有更好的砖坯适配性，高温烧成后可有效避免出现针孔现象。本发明优选生高岭土和煅烧高岭土的重量配比为1:3。
作为上述方案的进一步改进，所述氧化铝为煅烧氧化铝。
作为上述方案的进一步改进，所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为20～30％，K2O含量为1～8％，Na2O含量为5～10％。具体地，霞石兼具钾长石和钠长石两种原料的优点，其与钾长石和钠长石三者复配，不仅可进一步提高该底釉的综合性能，同时可减少原料的使用量。
作为上述方案的进一步改进，所述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为60～75％，Al2O3含量为2～10％。
作为上述方案的进一步改进，按质量百分比计包括如下主要化学组分：
作为上述方案的进一步改进，该底釉的高温烧成温度为1185～1215℃。
一种如上所述的陶瓷大板底釉的制备方法，其包括如下工艺步骤：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量30～40％的水，在加入占总组分重量0.15～0.45％的羧甲基纤维素钠和0.35～0.85％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得底釉成品。
具体地，步骤1)中加入的水量不易过多或过少，以避免因加水过多使球石浮力大，导致球磨混料出球细度大，需增加球釉时间，增大电能损耗，或避免因加水过少使混合物料难以成浆，不能用于生产，从而造成原料损耗；步骤2)中陈腐时间的限定，可使原料组分之间充分反应、分布均匀，同时排出球磨混料里面的气泡，从而避免后续高温烧成时出现气泡现象。
作为上述方案的进一步改进，步骤1)中所述所得球磨混料细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml。具体地，本发明对球磨混料工艺参数的进一步限定，可使最终所得底釉成品质量可控性强。
作为上述方案的进一步改进，步骤2)中所得底釉成品细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。具体地，本发明对底釉成品工艺参数的进一步限定，可使高温烧成后的底釉具有优异的力学性能。
本发明的有益效果是：
本发明通过调整原料组分及其配比，使得该底釉性能优异，能适应生产中的喷釉工艺操作，同时经高温烧成后，釉面无针孔、凹釉、气泡等缺陷，使其对色泽纹理的显现既具备天然大岩板顺畅自然的优点，又不失陶瓷砖的高贵典雅，且赋予陶瓷大板良好的防污性及抗化学腐蚀性。
本发明制备方法工艺简单，工艺参数可控性强，生产效率高，适合于大规模工业化生产。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行具体描述，以便于所属技术领域的人员对本发明的理解。有必要在此特别指出的是，实施例只是用于对本发明做进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，所属领域技术熟练人员，根据上述发明内容对本发明作出的非本质性的改进和调整，应仍属于本发明的保护范围。同时下述所提及的原料未详细说明的，均为市售产品；未详细提及的工艺步骤或制备方法为均为本领域技术人员所知晓的工艺步骤或制备方法。
实施例1
一种陶瓷大板底釉，其高温烧成温度为1185～1215℃，按原料重量百分比计包括如下组分：
其中，所述钾长石为K2O含量占7％的长石原料；所述钠长石为Na2O含量占13％的长石原料；所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土以重量配比为1:3组成的混合物；所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为20％，K2O含量为8％，Na2O含量为5％；所述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为60％，Al2O3含量为10％；该底釉按质量百分比计包括如下主要化学组分：22％的Al2O3、65％的SiO2、0.01％的Fe2O3、0.9％的CaO、0.1％的MgO、0.99％的K2O、1％的Na2O、0.6％的TiO2、5.4％的ZrO2、4％的烧失。
制备方法：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量30％的水，在加入占总组分重量0.45％的羧甲基纤维素钠和0.35％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得实施例1底釉成品，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。
实施例2
一种陶瓷大板底釉，其高温烧成温度为1185～1215℃，按原料重量百分比计包括如下组分：
其中，所述钾长石为K2O含量占14％的长石原料；所述钠长石为Na2O含量占7％的长石原料；所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土以重量配比为1:3组成的混合物；所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为30％，K2O含量为1％，Na2O含量为10％；所述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为75％，Al2O3含量为2％；该底釉按质量百分比计包括如下主要化学组分：29.25％的Al2O3、50％的SiO2、0.45％的Fe2O3、0.1％的CaO、0.1％的MgO、0.5％的K2O、1％的Na2O、0.6％的TiO2、10％的ZrO2、8％的烧失。
制备方法：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量35％的水，在加入占总组分重量0.3％的羧甲基纤维素钠和0.65％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得实施例2底釉成品，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。
实施例3
一种陶瓷大板底釉，其高温烧成温度为1185～1215℃，按原料重量百分比计包括如下组分：
其中，所述钾长石为K2O含量占10％的长石原料；所述钠长石为Na2O含量占10％的长石原料；所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土以重量配比为1:3组成的混合物；所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为25％，K2O含量为4％，Na2O含量为8％；所述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为70％，Al2O3含量为8％；该底釉按质量百分比计包括如下主要化学组分：25％的Al2O3、55％的SiO2、0.2％的Fe2O3、0.7％的CaO、0.4％的MgO、1.5％的K2O、8％的Na2O、0.3％的TiO2、4％的ZrO2、4.9％的烧失。
制备方法：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量38％的水，在加入占总组分重量0.3％的羧甲基纤维素钠和0.6％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得实施例3底釉成品，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。
实施例4
一种陶瓷大板底釉，其高温烧成温度为1185～1215℃，按原料重量百分比计包括如下组分：
其中，所述钾长石为K2O含量占12％的长石原料；所述钠长石为Na2O含量占8％的长石原料；所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土以重量配比为1:3组成的混合物；所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为22％，K2O含量为3％，Na2O含量为7％；所述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为70％，Al2O3含量为9％；该底釉按质量百分比计包括如下主要化学组分：28％的Al2O3、52％的SiO2、0.4％的Fe2O3、0.7％的CaO、0.2％的MgO、0.5％的K2O、4％的Na2O、0.5％的TiO2、10％的ZrO2、4％的烧失。
制备方法：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量32％的水，在加入占总组分重量0.42％的羧甲基纤维素钠和0.75％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得实施例4底釉成品，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。
实施例5
一种陶瓷大板底釉，其高温烧成温度为1185～1215℃，按原料重量百分比计包括如下组分：
其中，所述钾长石为K2O含量占7～14％的长石原料；所述钠长石为Na2O含量占12％的长石原料；所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土以重量配比为1:3组成的混合物；所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为20％，K2O含量为8％，Na2O含量为10％；述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为60％，Al2O3含量为3％；该底釉按质量百分比计包括如下主要化学组分：30％的Al2O3、50％的SiO2、0.05％的Fe2O3、0.15％的CaO、0.2％的MgO、1.8％的K2O、4％的Na2O、0.1％的TiO2、10％的ZrO2、4％的烧失。
制备方法：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量40％的水，在加入占总组分重量0.45％的羧甲基纤维素钠和0.35％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得实施例5底釉成品，控制其细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。
实施例6：性能检测
将上述实施例1～5制得的底釉成品分别布施在陶瓷大板生坯上，并于1195℃高温烧成，再进行相关性能检测，其检测结果如下表1所示。
表1 各项相关性能检测
上述实施例为本发明的优选实施例，凡与本发明类似的工艺及所作的等效变化，均应属于本发明的保护范畴。

Claims (10)

1.一种陶瓷大板底釉，其特征在于，按原料重量百分比计包括如下组分：
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷大板底釉，其特征在于：所述混合高岭土为生高岭土和煅烧高岭土的混合物。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷大板底釉，其特征在于：所述氧化铝为煅烧氧化铝。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷大板底釉，其特征在于：所述霞石中按质量百分比计Al2O3含量为20～30％，K2O含量为1～8％，Na2O含量为5～10％。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷大板底釉，其特征在于：所述中温熔块中按质量百分比计SiO2含量为60～75％，Al2O3含量为2～10％。
6.根据权利要求1所述的一种陶瓷大板底釉，其特征在于，按质量百分比计包括如下主要化学组分：
7.根据权利要求1所述的一种陶瓷大板底釉，其特征在于：该底釉的高温烧成温度为1185～1215℃。
8.一种如权利要求1～7任一项所述的陶瓷大板底釉的制备方法，其特征在于，包括如下工艺步骤：
1)按原料重量份计将各组分投入到釉料球磨机中，加入占总组分重量30～40％的水，在加入占总组分重量0.15～0.45％的羧甲基纤维素钠和0.35～0.85％的川东三聚磷酸钠，球磨混合均匀，过筛，得球磨混料；
2)将步骤1)所得球磨混料至于池内陈腐24h以上，过筛除杂，得底釉成品。
9.根据权利要求8所述的一种陶瓷大板底釉的制备方法，其特征在于：步骤1)中所述所得球磨混料细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.5～1.0％范围内，控制水分含量为34～36％，流速为60～80s，比重为1.85～2.15g/ml。
10.根据权利要求8所述的一种陶瓷大板底釉的制备方法，其特征在于：步骤2)中所得底釉成品细度为经孔径0.045mm筛网过筛后的筛余量在0.2～0.5％范围内，控制水分含量为40～52％，流速为20～30s，比重为1.50～1.65g/ml。
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