CN108050947A - 一种膜层厚度的检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种膜层厚度的检测方法，通过使用照射光线照射待检测膜层，采集被待检测膜层散射形成散射光线，根据采集的散射光线得到光谱图，并可以从光谱图上获取所述待检测膜层的特征峰的参数信息，从而通过所述参数信息确定所述待检测膜层的厚度。这样，可以实现待检测膜层的厚度的自动检测，无需人工反复检测及反复调整，省时省力，方便快捷，有利于降低生产成本，提高产能，规范化生产工艺。

Description

一种膜层厚度的检测方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种膜层厚度的检测方法。

背景技术

随着全球信息社会的兴起增加了对各种显示装置的需求。因此，对各种平面显示装置的研究和开发投入了很大的努力，如有机电致发光显示装置(OLED)、液晶显示装置(LCD)、等离子显示装置(PDP)、场致发光显示装置(ELD)以及真空荧光显示装置(VFD)。

无论是传统的有机电致发光显示装置还是传统的液晶显示装置，一般是分别制作阵列基板和彩膜基板，然后将阵列基板与彩膜基板对位成盒，再注入液晶形成液晶显示面板，而在阵列基板以及彩膜基板的制作过程中，大多需要繁多的曝光、显影及刻蚀的工序，其中，在曝光、显影及刻蚀的工序中，如果有膜层在曝光、显影及刻蚀的工序后有残留，如光刻胶层等，由此对相应的膜层以及后续的工序造成不便，易造成误差增大并引起各种不良。

针对在曝光、显影及刻蚀的工序中膜层残留的问题，虽然现有方式可以快速找到残留位置，但是膜层的残留量，只能人工进行反复检测及反复调整才能去除残留量，不仅繁琐复杂，而且需要花费大量的人力和物力，不利于成本的降低、产能的提升及工艺的规范化。

发明内容

本发明实施例提供一种膜层厚度的检测方法，以解决传统方式中需要人工进行反复检测及反复调整，导致繁琐复杂，需要花费大量的人力和物力，不利于成本的降低、产能的提升及工艺的规范化的问题。

本发明实施例提供了一种膜层厚度的检测方法，所述方法包括：

使用照射光线照射待检测膜层；

采集待检测膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线，根据采集到的散射光线得到光谱图；

从所述光谱图上确定所述待检测膜层的特征峰的参数信息；

基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度。

进一步的，在所述基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度的步骤之后，所述方法包括：

计算所述厚度与所述待检测膜层的预设厚度之间的差值；

基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整。

进一步的，在所述基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度的步骤之前，所述方法包括：

建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系。

进一步的，所述建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系的步骤，包括：

使用所述照射光线分别照射多个不同厚度的测试膜层；

采集每个测试膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线，根据采集到的散射光线得到每个测试膜层对应的光谱图；

提取每个测试膜层的光谱图上特征峰的参数信息；

建立表示特征峰的参数信息与膜层厚度之间对应关系的模拟关系曲线。

进一步的，所述模拟关系曲线的相关系数大于95％。

进一步的，所述照射光线的穿透深度大于所述待检测膜层和所述测试膜层的厚度。

进一步的，所述待检测膜层为光刻胶层，在所述基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整的步骤之前，所述方法包括：

对多个待曝光的测试光刻胶层进行不同程度的曝光，并对曝光的测试光刻胶层进行显影处理；

检测每个测试光刻胶层显影后去除的光刻胶的厚度；

确定光刻胶层的曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系。

进一步的，所述基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整的步骤，包括：

基于曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系，确定与所述差值相对应的目标曝光量；

对待检测的光刻胶层进行所述目标曝光量的曝光和显影，以在所述待检测的光刻胶层上去除与所述差值对应的厚度的光刻胶。

进一步的，所述照射光线为激光。

进一步的，所述光谱图为拉曼光谱图。

本发明实施例提供的膜层厚度的检测方法，通过使用照射光线照射待检测膜层，采集被待检测膜层散射形成散射光线，根据采集的散射光线得到光谱图，并可以从光谱图上获取所述待检测膜层的特征峰的参数信息，从而通过所述参数信息确定所述待检测膜层的厚度。这样，可以实现待检测膜层的厚度的自动检测，无需人工反复检测及反复调整，省时省力，方便快捷，有利于降低生产成本，提高产能，规范化生产工艺。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一较佳实施例提供的膜层厚度的检测方法的流程图；

图2为使用照射光线照射待检测膜层的示意图；

图3为预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系曲线；

图4为待检测膜层的厚度调整的示意图；

图5为使用照射光线照射测试膜层的示意图；

图6为建立特征峰的参数信息与膜层厚度之间对应关系的模拟关系曲线的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请同时参阅图1，图1为本发明一较佳实施例提供的膜层厚度的检测方法的流程图。如图1中所示，本发明实施例提供一种膜层厚度的检测方法，所述方法包括：

步骤101、使用照射光线照射待检测膜层。

该步骤中，当需要对待检测膜层进行检测时，可以在取得所述待检测膜层后，使用光源10发出的照射光线对所述待检测膜层20进行照射，如图2中所示，其中，图2为使用照射光线照射待检测膜层的示意图。

优选的，本实施方式中，所述光源10发出的照射光线可以为激光，但并不局限于此，在其他实施方式中，所述照射光线还可以为红外光线。

进一步的，所述照射光线的穿透深度需要大于所述待检测膜层20的厚度，这样，才能保证所述照射光线照射所述待检测膜层20时，可以有效透过所述待检测膜层20，便于后续的检测和采集等。

步骤102、采集待检测膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线，根据采集到的散射光线得到光谱图。

该步骤中，当使用所述照射光线照射所述待检测膜层20时，由于所述待检测膜层20会对所述照射光线进行散射，所以可以使用CCD图像传感器或者CCD摄像头等器件或者设备采集所述待检测膜层20对所述照射光线进行散射后形成的散射光线，然后根据采集到的散射光线，通过绘制等方式得到散射光线的光图谱。

优选的，本实施方式中，所述光谱图为拉曼光谱，但并不局限于此，在其他实施方式中，如使用红外光线照射所述待检测膜层时，还可以是通过检测所述待检测膜层对红外光的吸收情况来得到红外光谱，并不以此为限。

步骤103、从所述光谱图上确定所述待检测膜层的特征峰的参数信息。

该步骤中，当通过采集散射光摄得到所述光谱图后，可以对所述光谱图进行分析，进而通过分析从所述光谱图中找出光谱曲线的特征峰，并根据找到的特征峰，确定所述待检测膜层20的特征峰的参数信息。

其中，所述待检测膜层20的特征峰的参数信息，可以是所述待检测膜层20的特征峰积分强度，也可是所述待检测膜层20的特征峰高度等，并不依次为限。优选的，本实施方式中，可以是使用所述待检测膜层20的特征峰积分强度。

步骤104、基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度。

该步骤中，当确定了所述待检测膜层20的特征峰的参数信息之后，可以根据预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，即通过调取预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，如对应关系曲线30等，从预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系中，来查找或者计算得到所述待检测膜层20的厚度，从而确定与所述待检测膜层20的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度D(图4中所示)，如图3中所示。

其中，图3为预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系曲线，本实施方式中，是以特征峰的参数信息与膜层厚度之间的关系曲线30为例进行说明，但并不局限于此，在其他实施方式中，还可以是其他的对应关系，并不以此为限。

其中，本实施方式中，是以特征峰的参数信息与膜层厚度之间的关系曲线为线性曲线为例进行说明的，但并不局限于此没在其他实施方式中，特征峰的参数信息与膜层厚度之间还的关系曲线还可以为非线性曲线。

这样，通过使用照射光线对待检测膜层进行照射后得到光谱图，并从光谱图中确定待检测膜层的特征峰的参数信息，然后根据待检测膜层的特征峰的参数信息可以得到待检测膜层的话厚度，可以实现待检测膜层的厚度的自动检测，省时省力，方便快捷，有利于降低生产成本，提高产能，规范化生产工艺。

可选的，在步骤104之后，所述方法包括：

计算所述厚度与所述待检测膜层的预设厚度之间的差值；基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整。

该步骤中，当通过所述待检测膜层20的特征峰的参数信息确定所述待检测膜层的厚度之后，可以将所述待检测膜层20的厚度与所述待检测膜层20的预设厚度进行比较，从而计算出所述厚度与所述预设厚度之间的差值d，得到所述差值d之后，可以根据所述差值，将所述待检测膜层20的厚度进行调整，来补偿所述差值的厚度，如图4中所示，其中，图4为待检测膜层的厚度调整的示意图。

其中，将所述待检测膜层20的厚度进行调整，可以是将所述待检测膜层20的厚度进行减薄，还可以是增加所述待检测膜层20的厚度等。优选的，本是方式中，是以将所述待检测膜层20的厚度进行减薄为例进行说明的。

可选的，在步骤104之前，所述方法包括：

建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系。

该步骤中，在确定与所述待检测膜层20的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层20的厚度的步骤之前，需要预先建立起预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系。

具体的，可以是先获取多个不同厚度的测试膜层40，然后使用所述光源10发出的照射光线分别对多个不同厚度的测试膜层40进行照射，然后使用CCD图像传感器或者CCD摄像头等器件或者设备来采集每个测试膜层40对所述照射光线进行散射后形成的散射光线，接着根据采集到的散射光线，获得每个测试膜层40被照射后形成的对应的光谱图，得到每个测试膜层40对应的光谱图后，可以从每个光谱图中提取到每个测试膜层40对应的特征峰的参数信息，如特征峰积分强度等，然后根据得到的多个特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应数据点50，进行数据模拟，从而来建立表示特征峰的参数信息与膜层厚度之间对应关系的模拟关系曲线30，如图5和图6中所示，图5为使用照射光线照射测试膜层的示意图，图6为建立特征峰的参数信息与膜层厚度之间对应关系的模拟关系曲线的示意图。

其中，建立特征峰的参数信息与膜层厚度的模拟关系曲线后，需要对所述模拟关系曲线进行检测，可以通过检测所述模拟关系曲线的相关系数，来确定所述模拟关系曲线的准确率。优选的，本实施方式中，当检测到所述模拟挂你曲线的才能过关系数大于95％的话们可以认为所述模拟关系曲线为准确的。

进一步的，所述照射光线的穿透深度需要大于每个测试膜层40的厚度，这样，才能保证所述照射光线照射每个测试膜层40时，可以有效透过测试膜层40，便于后续的检测和采集等。

可选的，所述待检测膜层为光刻胶层，在所述基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整的步骤之前，所述方法包括：

对多个待曝光的测试光刻胶层进行不同程度的曝光，并对曝光的测试光刻胶层进行显影处理；检测每个测试光刻胶层显影后去除的光刻胶的厚度；确定每个测试光刻胶层的曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系。

该步骤中，当所述待检测膜层20为光刻胶时，可以是建立光刻胶层的曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系，具体的，可以是先提供多个待曝光的测试光刻胶层，然后对多个测试光刻胶层进行不同程度的曝光处理，然后对曝光后的测试光刻胶层进行显影处理，以去除曝光的光刻胶，去除曝光的光刻胶后，检测每个测试光刻胶层通过显影处理后去除的光刻胶的厚度，从而来确定每个测试光刻胶层的曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系。

可选的，所述基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整的步骤，包括：

基于曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系，确定与所述差值相对应的目标曝光量；对待检测的光刻胶层进行所述目标曝光量的曝光和显影，以在所述待检测的光刻胶层上去除与所述差值对应的厚度的光刻胶。

该步骤中，在通过计算得到待检测膜层厚度与所述预设厚度之间的差值，即待检测的光刻胶层的厚度与待检测的光刻胶层的预设厚度之间的差值后，可以基于预先确定的光刻胶层的曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系，来确定待检测的光刻胶层的厚度与待检测的光刻胶层的预设厚度之间的差值所对应的目标曝光量，然后可以基于所述目标曝光量对待检测的光刻胶层进行调整，具体的，可以是对待检测的光刻胶层进行所述目标曝光量的曝光后，进行显影处理，以在所述待检测的光刻胶层上去除与所述差值对应的厚度的光刻胶，从而达到对所述待检测的光刻胶层进行调整的目的。

本发明实施例提供的膜层厚度的检测方法，通过使用照射光线照射待检测膜层，采集被待检测膜层散射形成散射光线，根据采集的散射光线得到光谱图，并可以从光谱图上获取所述待检测膜层的特征峰的参数信息，从而通过所述参数信息确定所述待检测膜层的厚度。这样，可以实现待检测膜层的厚度的自动检测，无需人工反复检测及反复调整，省时省力，方便快捷，有利于降低生产成本，提高产能，规范化生产工艺。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种膜层厚度的检测方法，其特征在于，所述方法包括：

使用照射光线照射待检测膜层；

采集待检测膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线，根据采集到的散射光线得到光谱图；

从所述光谱图上确定所述待检测膜层的特征峰的参数信息；

基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度。

2.如权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度的步骤之后，所述方法包括：

计算所述厚度与所述待检测膜层的预设厚度之间的差值；

基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整。

3.如权利要求1所述的检测方法，其特征在于，在所述基于预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系，确定与所述待检测膜层的特征峰的参数信息相对应的所述待检测膜层的厚度的步骤之前，所述方法包括：

建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系。

4.如权利要求3中所述的检测方法，其特征在于，所述建立预设的特征峰的参数信息与膜层厚度之间的对应关系的步骤，包括：

使用所述照射光线分别照射多个不同厚度的测试膜层；

采集每个测试膜层对照射光线进行散射后形成的散射光线，根据采集到的散射光线得到每个测试膜层对应的光谱图；

提取每个测试膜层的光谱图上特征峰的参数信息；

建立表示特征峰的参数信息与膜层厚度之间对应关系的模拟关系曲线。

5.如权利要求4所述的检测方法，其特征在于，所述模拟关系曲线的相关系数大于95％。

6.如权利要求4所述的检测方法，其特征在于，所述照射光线的穿透深度大于所述待检测膜层和所述测试膜层的厚度。

7.如权利要求2所述的检测方法，其特征在于，所述待检测膜层为光刻胶层，在所述基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整的步骤之前，所述方法包括：

对多个待曝光的测试光刻胶层进行不同程度的曝光，并对曝光的测试光刻胶层进行显影处理；

检测每个测试光刻胶层显影后去除的光刻胶的厚度；

确定光刻胶层的曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系。

8.如权利要求7所述的检测方法，其特征在于，所述基于所述差值，对所述待检测膜层的厚度进行调整的步骤，包括：

基于曝光量与去除光刻胶的厚度之间的对应关系，确定与所述差值相对应的目标曝光量；

对待检测的光刻胶层进行所述目标曝光量的曝光和显影，以在所述待检测的光刻胶层上去除与所述差值对应的厚度的光刻胶。

9.如权利要求1至8中任一项所述的检测方法，其特征在于，所述照射光线为激光。

10.如权利要求1至8中任一项所述的检测方法，其特征在于，所述光谱图为拉曼光谱图。