CN108032509A - 一种清除杂质的方法和装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供的一种清除杂质的方法和装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题；本发明提供的清除杂质的方法和装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产的产品质量，避免浪费。
Description
技术领域
本发明涉及清洁领域，尤其涉及一种清除杂质的方法和装置。
背景技术
模压机生产薄膜需要通过放卷装置、一版模压装置、二版膜压装置、烫平装置以及收卷装置。放卷装置的辊子上放置涂布膜，膜上面有镭射承载层膜；一版模压装置作用是是形成部分有镭射图案的膜；二版膜压装置作用是进行补偿模压，使得整张膜都有镭射图案；烫平装置主要部件是烫平辊，其作用是因为一版模压装置和二版膜压装置在模压过程中冷热辊控制即拉伸情况不一样，致使产品上有皱印，需要烫平皱印；收卷装置回收薄膜成品。
目前，烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量。
发明内容
本发明目的在于提供一种清除杂质的方法和装置，以解决现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。
本发明提供了如下技术方案：
第一方面，本申请实施例提供一种清除杂质的方法，所述方法包括：
步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；
步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；
步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；
步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；
步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；
步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；
步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。
结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第二种可实施方式中，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。
结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第三种可实施方式中，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。
结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第四种可实施方式中，步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。
第二方面，本申请实施例提供一种清除杂质的装置，包括：
设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；
获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；
起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；
增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；
喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；
清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；
停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。
结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第二种可实施方式中，所述装置还包括：记录单元，用于记录清洗溶剂使用量。
结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第三种可实施方式中，所述装置还包括：处理单元，用于上传数据，并对数据进行分析。
结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第四种可实施方式中，所述装置还包括：分析单元，用于根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。
本发明实施例提供的一种清除杂质的方法和装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本发明提供的清除杂质的方法和装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量，同时，还可通过记录清洗溶剂使用量：上传数据，并对数据进行分析；根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值，可节省清洗溶剂使用量，避免浪费。
附图说明
为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一种清除杂质的方法方法流程图。
具体实施方式
本下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
第一方面，请参阅图1，本申请实施例提供一种清除杂质的方法，所述方法包括：
步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；
溢胶量的上限阈值和下限阈值可根据实际生产，进行大量的数据统计后得出。
步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；
溢胶量可用厚度进行定量分析，例如溢胶量厚度为1cm。
步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；
根据上述假设，溢胶量的上限阈值为1cm。当实际溢胶量大于1cm时，则开启清洁工序。需要说明的是，当烫平辊两端溢胶量小于溢胶量上限阈值时，此时清洁工序为待机状态。
步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；
清洗溶剂放置在清洗溶剂容器中，清洗溶剂容器设置有安全体积，清洁溶剂达到容器上限，即为清洁溶剂达到清洗溶剂容器的安全体积。
步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；
清洁溶剂通过喷嘴将其喷射到清洁工具上，清洁工具可以采用包裹着布的单面刀具。
步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；
用包裹着布的单面刀具进行清洁。
步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。
假定溢胶量的下限阈值为0.1cm，当实际溢胶量低于0.1cm时，将停止清洗工序。需要说明的是，在清洗工序进行时，将对溢胶量做全程监控，获取溢胶量。
本发明提供的清除杂质的方法，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量。
进一步地，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。可以清楚的知道清洗溶剂的使用情况。
进一步地，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。数据为清洗溶剂使用量以及清洗的溢胶量。
进一步地，步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。可对设备生产运行提出指导性的意见，避免清洗溶剂过量使用。
通过以上技术方案可知：本发明实施例提供的一种清除杂质的方法，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本发明提供的清除杂质的方法，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量，同时，还可通过记录清洗溶剂使用量：上传数据，并对数据进行分析；根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值，可节省清洗溶剂使用量，避免浪费。
第二方面，本申请实施例提供一种清除杂质的装置，包括：
设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；
获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；
起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；
增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；
喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；
清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；
停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。
本发明提供的清除杂质的装置，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量。
进一步地，所述装置还包括：记录单元，用于记录清洗溶剂使用量。
进一步地，所述装置还包括：处理单元，用于上传数据，并对数据进行分析。
进一步地，所述装置还包括：分析单元，用于根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。
通过上述技术方案可知：本发明实施例提供的一种清除杂质的装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本发明提供的清除杂质的装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量，同时，还可通过记录清洗溶剂使用量：上传数据，并对数据进行分析；根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值，可节省清洗溶剂使用量，避免浪费。
本发明实施例提供的一种清除杂质的方法和装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本发明提供的清除杂质的方法和装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量，同时，还可通过记录清洗溶剂使用量；上传数据，并对数据进行分析；根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值，可节省清洗溶剂使用量，避免浪费。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (8)
1.一种清除杂质的方法，其特征在于，所述方法包括：
步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；
步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；
步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；
步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；
步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；
步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；
步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。
5.一种清除杂质的装置，其特征在于，包括：
设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；
获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；
起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；
增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；
喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；
清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；
停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：记录单元，用于记录清洗溶剂使用量。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：处理单元，用于上传数据，并对数据进行分析。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：分析单元，用于根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。
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| CN104553252A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-29 | 厦门三维丝环保股份有限公司 | 一种用于高温热辊的自动在线清洗方法 |
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2017
- 2017-12-14 CN CN201711341269.6A patent/CN108032509A/zh active Pending
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