CN107962877A - 真空干燥设备及显示面板的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空干燥设备及显示面板的制备方法。真空干燥设备包括真空腔室、恒温装置、电场发生装置以及真空泵。恒温装置位于真空腔室的下方;电场发生装置具有设在真空腔室内的第一金属板以及第二金属板,第一金属板位于真空腔室的底面,第二金属板平行设在第一金属板的上方,第二金属板将真空腔室分隔成位于第一金属板与第二金属板之间的第一子腔室以及第二金属板另一侧的第二子腔室,第二金属板上具有多个连通第一子腔室与第二子腔室的挥发通孔,第一金属板与第二金属板用于连接电路;真空泵连通于第二子腔室。该真空干燥设备能够使溶剂在均匀挥发的同时,实现分子排列取向的有效可控,从而最大程度地提高有机薄膜迁移率。
Description
技术领域
本发明涉及喷墨打印领域,特别是涉及一种真空干燥设备及显示面板的制备方法。
背景技术
有机发光二极管在全色显示、背光源及固态照明等方面有着广阔的应用前景而受到人们的广泛关注。基于喷墨打印技术的溶液加工型有机发光二极管由于具有成本低、容易实现大面积制作等优势而更加受到人们的青睐,但是器件性能(如:工作电压高,电流效率低等)与蒸镀型有机发光二极管还有一定的距离,因此,溶液型有机发光二极管需要在提高载流子迁移率和平衡载流子注入与传输方面大幅改善以提高器件整体性能。
喷墨打印技术所形成的像素内的薄膜会有咖啡环现象(薄膜中间薄边缘厚),这主要是由于边缘溶剂挥发速度较快形成由内到外的液流造成,为了消除或者减弱这种效应,喷墨打印技术所用的墨水体系一般都是由高低沸点的混合溶剂组成,高沸点溶剂由于挥发速度慢,在边缘处的高沸点溶剂组分高于内部而使局部蒸汽压低于内部,从而使液体由外向内流动。这种通过使用高低沸点溶剂的墨水在成膜干燥过程中,从宏观上可以提升薄膜的均匀性,但是墨水中的分子的排列取向无法控制,呈现出一种无序的状态,从而导致有机薄膜迁移率低,进一步地会降低喷墨打印机器件的性能。
发明内容
基于此,有必要提供一种能够使溶剂在均匀挥发的同时,实现分子排列取向的有效可控,从而最大程度地提高有机薄膜迁移率的真空干燥设备。
一种真空干燥设备,包括真空腔室、恒温装置以及电场发生装置;所述恒温装置位于所述真空腔室内以用于对待加工基板进行温度处理;所述电场发生装置具有第一金属板以及第二金属板,所述第一金属板以及所述第二金属板均设在所述真空腔室的内腔,所述第一金属板位于所述内腔的底面以用于放置待加工基板,所述第二金属板平行设在所述第一金属板的上方,所述第二金属板将所述真空腔室的内腔分隔成位于所述第一金属板与所述第二金属板之间的第一子腔室以及所述第二金属板另一侧的第二子腔室,所述第二金属板上具有多个连通所述第一子腔室与所述第二子腔室的挥发通孔,所述第一金属板与所述第二金属板用于连接电路。
在其中一个实施例中,所述真空泵通过抽气管路与所述真空腔室连接,所述抽气管路连通于所述第二子腔室。
在其中一个实施例中,所述第二子腔室从靠近所述第二金属板的一侧至靠近所述抽气管路的一侧逐渐收窄。
在其中一个实施例中,还包括真空泵,所述真空泵连通于所述第二子腔室以用于对所述第一子腔室与所述第二子腔室抽真空。
一种显示面板的制备方法,包括如下步骤:
(1)将有图案化阳极层的基板在紫外灯下紫外照射处理预设时间;
(2)制备空穴注入层:将配好墨水装入打印设备中,调节打印参数,使墨滴落入步骤(3)紫外处理后的所述有图案化阳极层的基板的像素区内,将该有图案化阳极层的基板转入权利要求1-4任意一项所述的真空干燥设备的真空腔室的内腔中,通过真空泵将真空腔室抽至压强为50Pa,电场发生装置的第一金属板与第二金属板之间的电场强度为3kv/cm,电场方向向上,使得有图案化阳极层的基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的薄膜以得到第一薄膜化基板;将所述第一薄膜化基板在空气中150℃加热30min;
(3)制备空穴传输层:将配好墨水装入打印设备中,调节打印参数,使墨滴沉积在所述第一薄膜化基板上的薄膜上,并将该第一薄膜化基板转入所述真空腔室内腔中,通过所述真空泵将所述真空腔室抽至压强为30Pa,所述电场发生装置的所述第一金属板与所述第二金属板之间的电场强度为5kv/cm,电场方向向上,使得所述第一薄膜化基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的薄膜以得到第二薄膜化基板;将所述第二薄膜化基板在空气中120℃加热20min;
(4)制备发光层:将荧光聚合物墨水装入打印设备中,调节打印参数,使三种墨滴分别沉积在所述第二薄膜化基板上的对应的像素区内,将该第二薄膜化基板转入所述真空腔室中,通过所述真空泵将所述真空腔室抽至压强为10Pa,所述电场发生装置的所述第一金属板与所述第二金属板之间的电场强度为5kv/cm,电场方向向上,使得所述第二薄膜化基板上的溶剂均匀挥发分别形成60nm、80nm以及80nm厚度均匀的发光层薄膜以得到第三薄膜化基板;将该第三薄膜化基板在氮气中120℃加热10min;
(5)制备电子注入层:在所述第三薄膜化基板的发光层薄膜上蒸镀一层1.5nm厚的空穴注入材料LiF形成电子注入层,蒸镀速率为真空度为2X10-4Pa;
(6)制备金属阴极:在经过步骤(5)蒸镀后的电子注入层上蒸镀一层120nm厚的阴极Mg:Ag合金层,即得显示面板,其中Mg:Ag的重量比为1:9,Mg:Ag蒸镀速率分别控制为和真空度为2X10-4Pa。
在其中一个实施例中,荧光聚合物墨水可以是PFO、P-PPV以及MEH-PPV三种荧光聚合物墨水,或者是PFO:Firpc:OXD-7、PFO:Ir(mppy)3:PBD、PFO:Ir(piq)3:PBD组成的磷光墨水体系。
在其中一个实施例中,步骤(1)所述的紫外处理是将所述图案化基板在150w的紫外灯下紫外照射处理3min。
上述的真空干燥设备,包括真空腔室、恒温装置、电场发生装置以及真空泵。恒温装置位于真空腔室内以用于对待加工基板进行温度处理,当基板放入真空腔室后,恒温装置用于加热并保持温度。电场发生装置具有第一金属板以及第二金属板,第一金属板位于真空腔室的底面以用于放置待加工基板,第二金属板平行设在第一金属板的上方,第一金属板与第二金属板之间用于产生匀强电场。真空泵用于对第一子腔室与第二子腔室抽真空。基板置于匀强电场中,可以保证基板上的有机薄膜较高的迁移率,能够提升得到的显示面板的器件性能,致密的有机薄膜,可以减少金属原子的扩散,减少扩散中心。上述的真空干燥设备,通过在真空腔室中增加一个场强方向垂直于基板的电场,使溶剂在均匀挥发的同时,实现分子排列取向的有效可控,从而最大程度地提高有机薄膜的迁移率,平衡得到的显示基板的器件内部载流子的复合,提升显示基板的器件性能。
附图说明
图1为一实施例真空干燥设备示意图;
图2为经过图1所示的真空干燥设备制得的显示面板各层示意图。
附图标记说明
10、真空干燥设备;100、真空腔室;110、第一子腔室;120、第二子腔室;200、恒温装置;310、第一金属板;320、第二金属板;321、挥发通孔;400、真空泵;500、抽气管路;20、显示面板。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
参见图1所示,本实施例涉及了一种真空干燥设备10。该真空干燥设备10包括真空腔室100、恒温装置200、电场发生装置以及真空泵400。
参见图1所示,所述恒温装置200位于所述真空腔室100内以用于对待加工基板进行温度处理。所述电场发生装置具有第一金属板310以及第二金属板320,所述第一金属板310以及所述第二金属板320均设在所述真空腔室100的内腔中,所述第一金属板310位于所述真空腔室100的内腔底面以用于放置待加工基板。
参见图1所示,所述第二金属板320平行设在所述第一金属板310的上方,所述第二金属板320将所述真空腔室100的内腔分隔成位于所述第一金属板310与所述第二金属板320之间的第一子腔室110以及所述第二金属板320另一侧的第二子腔室120。所述第二金属板320上具有多个连通所述第一子腔室110与所述第二子腔室120的挥发通孔321,所述第一金属板310与所述第二金属板320用于连接电路。所述第二子腔室120的尺寸由靠近所述第二金属板320的一侧至靠近所述抽气管路500的一侧逐渐收窄。
参见图1所示,所述真空泵400连通于所述第二子腔室120以用于对所述第一子腔室110与所述第二子腔室120抽真空。优选地,所述真空泵400通过抽气管路500与所述真空腔室100连接,所述抽气管路500连通于所述第二子腔室120。
本实施例还涉及一种显示面板20的制备方法。
一种显示面板20的制备方法,包括如下步骤:
(1)制备打印用图案化基板:在基板上旋涂一层厚度1μm-2μm的光刻胶,使用与红、绿、蓝像素开口对应的光照对所述基板以及所述光刻胶进行曝光、显影,曝光、显影之后进行热处理,形成图案化基板;所述的热处理条件为温度200℃,热处理20min。
(2)将经步骤(1)得到的图案化基板超声清洗,超声清洗之后将图案化基板烘干备用;图案化基板经过去离子水超声清洗10min。
(3)将步骤(2)烘干后的图案化基板在150w的紫外灯下紫外照射处理3min。
(4)制备空穴注入层:将配好的聚(3,4-乙撑二氧基噻吩):聚(苯乙烯磺酸)(PEDOT:PSS)墨水装入打印设备中,调节好打印参数,使墨滴落入图案化基板的像素区内,将该图案化基板转入真空干燥设备10的真空腔室100中,通过真空泵400将真空腔室100抽至压强为50Pa,电场发生装置的第一金属板310与第二金属板320之间的电场强度为3kv/cm,电场方向向上,使得图案化基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的空穴注入层薄膜以得到第一薄膜化基板;将第一薄膜化基板在空气中150℃加热30min。
(5)制备空穴传输层:将配好的聚乙烯基咔唑(PVK)墨水装入打印设备中,调节好打印参数,使墨滴沉积在第一薄膜化基板上的薄膜上,并将该第一薄膜化基板转入真空腔室100中,通过真空泵400将真空腔室100抽至压强为30Pa,电场发生装置的第一金属板310与第二金属板320之间的电场强度为5kv/cm,电场方向向上,使得第一薄膜化基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的空穴传输层薄膜以得到第二薄膜化基板;将第二薄膜化基板在氮气中120℃加热20min。
(6)制备发光层:将PFO(蓝色)、P-PPV(绿色)以及MEH-PPV(红色)三种荧光聚合物墨水装入打印设备中,调节好打印参数,使三种墨滴分别沉积在经过步骤(5)处理后的第二薄膜化基板上的对应的像素区内,将该第二薄膜化基板转入真空腔室100中,通过真空泵400将真空腔室100抽至压强为10Pa,电场发生装置的第一金属板310与第二金属板320之间的电场强度为5kv/cm,电场方向向上,使得第二薄膜化基板上的溶剂均匀挥发分别形成60nm、80nm以及80nm厚度均匀的发光层薄膜以得到第三薄膜化基板;将该第三薄膜化基板在氮气中120℃加热10min。进一步地,荧光聚合物墨水还可以是PFO:Firpc:OXD-7、PFO:Ir(mppy)3:PBD、PFO:Ir(piq)3:PBD组成的磷光墨水体系。
(7)制备电子注入层:在第三薄膜化基板的发光层薄膜上蒸镀一层1.5nm厚的空穴注入材料LiF形成电子注入层,蒸镀速率为真空度为2X10-4Pa。
(8)制备金属阴极:在经过步骤(7)蒸镀后的电子注入层上蒸镀一层120nm厚的阴极Mg:Ag合金层,即得显示面板20,参见图2所示。其中Mg:Ag的重量比为1:9,Mg:Ag蒸镀速率分别控制为和真空度为2X10-4Pa。
上述的真空干燥设备10,包括真空腔室100、恒温装置200、电场发生装置以及真空泵400。恒温装置200位于真空腔室100的下方以用于对真空腔室100加热,当基板放入真空腔室100后,恒温装置200用于加热并保持温度。电场发生装置具有第一金属板310以及第二金属板320,第一金属板310位于真空腔室100的底面以用于放置待加工基板,第二金属板320平行设在第一金属板310的上方,第一金属板310与第二金属板320之间用于产生匀强电场。真空泵400用于对第一子腔室110与第二子腔室120抽真空。基板置于匀强电场中,可以保证基板上的有机薄膜较高的迁移率,能够提升得到的显示面板20的器件性能,致密的有机薄膜,可以减少金属原子的扩散,减少扩散中心。上述的真空干燥设备10,通过在真空腔室100中增加一个场强方向垂直于基板的电场,使溶剂在均匀挥发的同时,实现分子排列取向的有效可控,从而最大程度地提高有机薄膜的迁移率,平衡得到的显示基板的器件内部载流子的复合,提升显示基板的器件性能。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (7)
1.一种真空干燥设备,其特征在于,包括真空腔室、恒温装置以及电场发生装置;所述恒温装置位于所述真空腔室内以用于对待加工基板进行温度处理;所述电场发生装置具有第一金属板以及第二金属板,所述第一金属板以及所述第二金属板均设在所述真空腔室的内腔,所述第一金属板位于所述内腔的底面以用于放置待加工基板,所述第二金属板平行设在所述第一金属板的上方,所述第二金属板将所述真空腔室的内腔分隔成位于所述第一金属板与所述第二金属板之间的第一子腔室以及所述第二金属板另一侧的第二子腔室,所述第二金属板上具有多个连通所述第一子腔室与所述第二子腔室的挥发通孔,所述第一金属板与所述第二金属板用于连接电路。
2.根据权利要求1所述的真空干燥设备,其特征在于,所述真空泵通过抽气管路与所述真空腔室连接,所述抽气管路连通于所述第二子腔室。
3.根据权利要求2所述的真空干燥设备,其特征在于,所述第二子腔室从靠近所述第二金属板的一侧至靠近所述抽气管路的一侧逐渐收窄。
4.根据权利要求1所述的真空干燥设备,其特征在于,还包括真空泵,所述真空泵连通于所述第二子腔室以用于对所述第一子腔室与所述第二子腔室抽真空。
5.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将有图案化阳极层的基板在紫外灯下紫外照射处理预设时间;
(2)制备空穴注入层:将配好墨水装入打印设备中,调节打印参数,使墨滴落入步骤(1)紫外处理后的所述有图案化阳极层的基板的像素区内,将该有图案化阳极层的基板转入权利要求1-4任意一项所述的真空干燥设备的真空腔室的内腔中,通过真空泵将真空腔室抽至压强为50Pa,电场发生装置的第一金属板与第二金属板之间的电场强度为3kv/cm,电场方向向上,使得有图案化阳极层的基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的薄膜以得到第一薄膜化基板;将所述第一薄膜化基板在空气中150℃加热30min;
(3)制备空穴传输层:将配好墨水装入打印设备中,调节打印参数,使墨滴沉积在所述第一薄膜化基板上的薄膜上,并将该第一薄膜化基板转入所述真空腔室内腔中,通过所述真空泵将所述真空腔室抽至压强为30Pa,所述电场发生装置的所述第一金属板与所述第二金属板之间的电场强度为5kv/cm,电场方向向上,使得所述第一薄膜化基板上的溶剂均匀挥发形成40nm厚度均匀的薄膜以得到第二薄膜化基板;将所述第二薄膜化基板在空气中120℃加热20min;
(4)制备发光层:将荧光聚合物墨水装入打印设备中,调节打印参数,使三种墨滴分别沉积在所述第二薄膜化基板上的对应的像素区内,将该第二薄膜化基板转入所述真空腔室中,通过所述真空泵将所述真空腔室抽至压强为10Pa,所述电场发生装置的所述第一金属板与所述第二金属板之间的电场强度为5kv/cm,电场方向向上,使得所述第二薄膜化基板上的溶剂均匀挥发分别形成60nm、80nm以及80nm厚度均匀的发光层薄膜以得到第三薄膜化基板;将该第三薄膜化基板在氮气中120℃加热10min;
(5)制备电子注入层:在所述第三薄膜化基板的发光层薄膜上蒸镀一层1.5nm厚的空穴注入材料LiF形成电子注入层,蒸镀速率为真空度为2X10-4Pa;
(6)制备金属阴极:在经过步骤(5)蒸镀后的电子注入层上蒸镀一层120nm厚的阴极Mg:Ag合金层,即得显示面板,其中Mg:Ag的重量比为1:9,Mg:Ag蒸镀速率分别控制为和真空度为2X10-4Pa。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,荧光聚合物墨水可以是PFO、P-PPV以及MEH-PPV三种荧光聚合物墨水,或者是PFO:Firpc:OXD-7、PFO:Ir(mppy)3:PBD、PFO:Ir(piq)3:PBD组成的磷光墨水体系。
7.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的紫外处理是将所述图案化基板在150w的紫外灯下紫外照射处理3min。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109932771A (zh) * | 2019-02-18 | 2019-06-25 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 量子点滤色器的制备方法 |
CN110920271A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-03-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种喷墨打印设备及其使用方法 |
WO2020215512A1 (zh) * | 2019-04-23 | 2020-10-29 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 真空干燥设备 |
CN111873648A (zh) * | 2019-08-16 | 2020-11-03 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 喷墨打印真空干燥装置及喷墨打印方法 |
CN113410419A (zh) * | 2021-08-18 | 2021-09-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的制作方法以及干燥设备 |
CN113829765A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-24 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 干燥机、干燥方法、发光二极管及其制作方法 |
CN113948666A (zh) * | 2020-07-15 | 2022-01-18 | Tcl科技集团股份有限公司 | 显示器件及其制备方法、干燥装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1825663A (zh) * | 2005-01-07 | 2006-08-30 | 株式会社丰田自动织机 | 有机电致发光装置及其生产方法 |
CN1828965A (zh) * | 2004-11-27 | 2006-09-06 | 三星Sdi株式会社 | 有机发光器件 |
KR20070096363A (ko) * | 2006-03-23 | 2007-10-02 | 삼성전자주식회사 | 표시장치의 제조장치 및 제조방법 |
CN101295771A (zh) * | 2007-04-27 | 2008-10-29 | 群康科技(深圳)有限公司 | 有机发光二极管制造方法 |
CN102760845A (zh) * | 2012-07-27 | 2012-10-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 有机发光二极管的薄膜成形方法及设备 |
CN102765261A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-11-07 | 合肥工业大学 | 一种喷墨打印机控制墨滴干燥过程的方法及装置 |
CN103579525A (zh) * | 2012-07-23 | 2014-02-12 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 有机电致发光器件及其制备方法 |
CN205344141U (zh) * | 2015-12-31 | 2016-06-29 | 威格气体纯化科技(苏州)股份有限公司 | Oled显示屏真空干膜装置 |
-
2017
- 2017-04-17 CN CN201710249642.9A patent/CN107962877A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1828965A (zh) * | 2004-11-27 | 2006-09-06 | 三星Sdi株式会社 | 有机发光器件 |
CN1825663A (zh) * | 2005-01-07 | 2006-08-30 | 株式会社丰田自动织机 | 有机电致发光装置及其生产方法 |
KR20070096363A (ko) * | 2006-03-23 | 2007-10-02 | 삼성전자주식회사 | 표시장치의 제조장치 및 제조방법 |
CN101295771A (zh) * | 2007-04-27 | 2008-10-29 | 群康科技(深圳)有限公司 | 有机发光二极管制造方法 |
CN103579525A (zh) * | 2012-07-23 | 2014-02-12 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 有机电致发光器件及其制备方法 |
CN102760845A (zh) * | 2012-07-27 | 2012-10-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 有机发光二极管的薄膜成形方法及设备 |
CN102765261A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-11-07 | 合肥工业大学 | 一种喷墨打印机控制墨滴干燥过程的方法及装置 |
CN205344141U (zh) * | 2015-12-31 | 2016-06-29 | 威格气体纯化科技(苏州)股份有限公司 | Oled显示屏真空干膜装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109932771A (zh) * | 2019-02-18 | 2019-06-25 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 量子点滤色器的制备方法 |
CN109932771B (zh) * | 2019-02-18 | 2021-06-29 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 量子点滤色器的制备方法 |
WO2020215512A1 (zh) * | 2019-04-23 | 2020-10-29 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 真空干燥设备 |
CN111873648A (zh) * | 2019-08-16 | 2020-11-03 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 喷墨打印真空干燥装置及喷墨打印方法 |
CN111873648B (zh) * | 2019-08-16 | 2022-03-29 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 喷墨打印真空干燥装置及喷墨打印方法 |
CN110920271A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-03-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种喷墨打印设备及其使用方法 |
CN113948666A (zh) * | 2020-07-15 | 2022-01-18 | Tcl科技集团股份有限公司 | 显示器件及其制备方法、干燥装置 |
CN113410419A (zh) * | 2021-08-18 | 2021-09-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的制作方法以及干燥设备 |
WO2023019635A1 (zh) * | 2021-08-18 | 2023-02-23 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板的制作方法以及干燥设备 |
CN113829765A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-24 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 干燥机、干燥方法、发光二极管及其制作方法 |
CN113829765B (zh) * | 2021-08-30 | 2024-04-05 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 干燥机、干燥方法、发光二极管及其制作方法 |
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