CN107887321A - 一种微观电子器件的转印刷方法 - Google Patents

一种微观电子器件的转印刷方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107887321A
CN107887321A CN201711153690.4A CN201711153690A CN107887321A CN 107887321 A CN107887321 A CN 107887321A CN 201711153690 A CN201711153690 A CN 201711153690A CN 107887321 A CN107887321 A CN 107887321A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
transferred
tensile force
electronic device
printing process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201711153690.4A
Other languages
English (en)
Inventor
许杨剑
潘常良
马天杰
单庆鹏
韩威
许雷
李攀磊
唐哲韬
赵帅
王效贵
梁利华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang University of Technology ZJUT
Original Assignee
Zhejiang University of Technology ZJUT
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang University of Technology ZJUT filed Critical Zhejiang University of Technology ZJUT
Priority to CN201711153690.4A priority Critical patent/CN107887321A/zh
Publication of CN107887321A publication Critical patent/CN107887321A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68372Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to support a device or wafer when forming electrical connections thereto

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Decoration By Transfer Pictures (AREA)

Abstract

一种微观电子器件的转印刷方法,将待转移物料张紧,保持第二薄膜张紧力大于待转移物料的张紧力,将第二薄膜的粘结面与待转移物料粘结,分离第二薄膜与待转移物料;保持第三薄膜的张紧力大于第二薄膜的张紧力,将第三薄膜的粘结面与第二薄膜粘结有物料的一面进行粘结,分离第三、第二薄膜,实现物料转移到第三薄膜。本发明通过张紧力大的薄膜带走张紧力小的薄膜上的物料,实现物料的转移,方法简单、操作方便。本发明利用薄膜的张紧程度的变化使其与物料间拉脱力大小产生变化这一原理,实现薄膜对物料粘结强度的控制,从而完成转印刷工作。

Description

一种微观电子器件的转印刷方法
技术领域
本发明主要涉及涉及一种半导体器件的制造方法,特别涉及一种微观电子器件的转印刷方法。
背景技术
待转移的物料主要指的是把金属或半导体器件等电子元器件覆盖在一个微结构的薄片上之后,使之形成一个整体的片状薄板结构;再通过转印刷的方式将电子器件转移到电路板上。
转印刷关键的控制参数是薄膜和物料之间的粘结强度,即在薄膜需要粘结物料的时候可以通过控制使两者之间的粘结强度增强,而在需要脱离的时候可以通过控制使两者之间的粘结强度变小。
已有的可以控制薄膜和物料之间的粘结强度设计方案主要有以下5种:
1、运动控制转印刷。通过利用薄膜和物料之间的拉脱速度不同导致所需拉脱力不同(拉脱力大小反应粘结强度大小)这一特点实现对粘结强度的控制。
2、表面凹凸辅助控制转印刷。通过利用薄膜和物料之间接触面的凹凸变化程度不同导致拉脱力不同这一特点来实现控制。
3、切应力增强控制转印刷。薄膜与物料间裂纹起始位置剪应力越大,粘结强度越小,反之亦然。
4、激光驱动控制转印刷。激光脉冲产生接触面的局部高温,从而改变粘结强度。
5、气动控制转印刷。粘结强度由接触面附近加压密封的微通道调节控制。
如何能使转印刷更简便一直是需要改进的问题。
发明内容
为解决已有技术的问题,提供一种微观电子器件的转印刷方法,这种方法简单高效,实施方便。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种微观电子器件的转印刷方法,将待转移物料张紧,保持第二薄膜张紧力大于待转移物料的张紧力,将第二薄膜的粘结面与待转移物料粘结,分离第二薄膜与待转移物料;保持第三薄膜的张紧力大于第二薄膜的张紧力,将第三薄膜的粘结面与第二薄膜粘结有物料的一面进行粘结,分离第三、第二薄膜,实现物料转移到第三薄膜的粘结面。
薄膜的粘结面是指带粘胶的一面。本发明通过张紧力大的薄膜带走张紧力小的薄膜上的物料,实现物料的转移,方法简单、操作方便。
本发明区别与现有的5种方案,利用薄膜的张紧程度的变化使其与物料间拉脱力大小产生变化这一原理,实现薄膜对物料粘结强度的控制,从而完成转印刷工作。
附图说明
图1为本发明转印刷起始状态示意图。
图2为本发明第二薄膜与待转移物料粘结时的状态示意图。
图3为本发明第二薄膜与待转移物料分离时的状态示意图。
图4为本发明待转移物料在薄膜上的排列示意图。
图5为本发明薄膜与物料的脱离示意图。
图6为本发明第二薄膜与待转移物料的粘结装置结构示意图。
图中标记为:1电子器件,2待转移物料,3第二薄膜,21、31滑块,22、32支架,23、33滑轨。
具体实施方式
参照附图,将待转移物料2张紧,保持第二薄膜3张紧力大于待转移物料的张紧力,将第二薄膜的粘结面与待转移物料粘结,分离第二薄膜与待转移物料,此时电子器件已转移到第二薄膜;保持第三薄膜的张紧力大于第二薄膜的张紧力,将第三薄膜的粘结面与第二薄膜粘结有物料的一面进行粘结,分离第三、第二薄膜,实现物料转移到第三薄膜的粘结面。
薄膜的张紧力越大,其粘结力就越大。张紧程度大的薄膜与电子器件间的拉脱力比和紧程度小的薄膜与电子器件间的拉脱力大,因此当两薄膜被缓慢拉开后,拉紧程度小的薄膜先跟物料脱离,张紧程度大的薄膜将把张紧程度小的薄膜上的电子器件带走,从而实现微观电子器件的转印刷。
将第二薄膜两侧在支架32上夹紧,在滑轨33上横向移动滑块31,使第二薄膜张紧。同样,将待转移物料的两侧在支架22上夹紧,在滑轨23上横向移动滑块21,使之张紧。本例中,两张薄膜的长度相同,从而可以通过将薄膜拉伸不同的长度,使薄膜的张紧力发生变化,拉伸越长,张紧力越大。薄膜张紧后,移动支架使两张薄膜相互粘结,再将二者分离,实现电子器件的转印。

Claims (1)

1.一种微观电子器件的转印刷方法,其特征在于将待转移物料张紧,保持第二薄膜张紧力大于待转移物料的张紧力,将第二薄膜的粘结面与待转移物料粘结,分离第二薄膜与待转移物料;保持第三薄膜的张紧力大于第二薄膜的张紧力,将第三薄膜的粘结面与第二薄膜粘结有物料的一面进行粘结,分离第三、第二薄膜,实现物料转移到第三薄膜的粘结面。
CN201711153690.4A 2017-11-20 2017-11-20 一种微观电子器件的转印刷方法 Pending CN107887321A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711153690.4A CN107887321A (zh) 2017-11-20 2017-11-20 一种微观电子器件的转印刷方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711153690.4A CN107887321A (zh) 2017-11-20 2017-11-20 一种微观电子器件的转印刷方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107887321A true CN107887321A (zh) 2018-04-06

Family

ID=61777967

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711153690.4A Pending CN107887321A (zh) 2017-11-20 2017-11-20 一种微观电子器件的转印刷方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107887321A (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101554819A (zh) * 2008-04-08 2009-10-14 华硕电脑股份有限公司 模内转印方法及应用其的壳体框件
CN102113089A (zh) * 2008-03-05 2011-06-29 伊利诺伊大学评议会 可拉伸和可折叠的电子器件
CN102498544A (zh) * 2009-09-16 2012-06-13 株式会社普利司通 光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法
CN102522361A (zh) * 2011-12-19 2012-06-27 清华大学 一种无机柔性电子器件***集成方法
CN102810360A (zh) * 2012-07-31 2012-12-05 中国科学院物理研究所 一种减薄碳纳米管薄膜的方法
CN103219280A (zh) * 2013-03-20 2013-07-24 华中科技大学 利用静电纺丝工艺制备延性电路互联结构的方法及产品
KR20140134828A (ko) * 2013-05-15 2014-11-25 노바테크인더스트리 주식회사 직물 기판에 박막을 형성하기 위한 유리―점착제 척
US20170207193A1 (en) * 2014-07-20 2017-07-20 X-Celeprint Limited Apparatus and methods for micro-transfer-printing

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102113089A (zh) * 2008-03-05 2011-06-29 伊利诺伊大学评议会 可拉伸和可折叠的电子器件
CN101554819A (zh) * 2008-04-08 2009-10-14 华硕电脑股份有限公司 模内转印方法及应用其的壳体框件
CN102498544A (zh) * 2009-09-16 2012-06-13 株式会社普利司通 光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法
CN102522361A (zh) * 2011-12-19 2012-06-27 清华大学 一种无机柔性电子器件***集成方法
CN102810360A (zh) * 2012-07-31 2012-12-05 中国科学院物理研究所 一种减薄碳纳米管薄膜的方法
CN103219280A (zh) * 2013-03-20 2013-07-24 华中科技大学 利用静电纺丝工艺制备延性电路互联结构的方法及产品
KR20140134828A (ko) * 2013-05-15 2014-11-25 노바테크인더스트리 주식회사 직물 기판에 박막을 형성하기 위한 유리―점착제 척
US20170207193A1 (en) * 2014-07-20 2017-07-20 X-Celeprint Limited Apparatus and methods for micro-transfer-printing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009066435A1 (ja) 樹脂積層体、粘着シート、該粘着シートを用いた被着体の加工方法、及びその剥離装置
WO2009057710A1 (ja) 基板保持部材、基板接合装置、積層基板製造装置、基板接合方法、積層基板製造方法および積層型半導体装置製造方法
MY155191A (en) Method of forming single face corrugated board
TW200624975A (en) Apparatus and method for reducing slippage between structures in an interferometric modulator
WO2009078347A1 (ja) 平面プレス装置および積層装置ならびにそれらを用いた積層方法
CN102144287A (zh) 薄片剥离装置及剥离方法
CN108694891A (zh) 异形曲面盖板与柔性屏的贴合方法
CN106469658A (zh) 片材粘附装置及粘附方法
JP6336312B2 (ja) 積層装置および積層方法
WO2013005530A1 (ja) シート貼付装置及び貼付方法
JP2006047575A5 (zh)
CN107887321A (zh) 一种微观电子器件的转印刷方法
CN107863310B (zh) 一种栅极驱动区域的弯折装置及弯折方法
KR20140115167A (ko) 전사 인쇄용 스탬프 구조체 및 이를 이용한 전사 인쇄 방법
CN104210218A (zh) 基板粘合方法
JP2009196248A (ja) スクリーン印刷版クリーニング方法
CN207783289U (zh) 一种微观物料的转印刷装置
CN216330697U (zh) 一种贴合装置
TWI713138B (zh) 薄片黏貼裝置及黏貼方法與黏著薄片料捲
TWI690398B (zh) 吸料貼合機
JP2014086697A (ja) シート剥離装置および剥離方法
TWM427752U (en) Adhesion apparatus
JP2014116422A (ja) シート貼付装置およびシート貼付方法
ATE469953T1 (de) Filmklebstoffverbindungsvorrichtung und - verfahren
CN107910290A (zh) 一种微观物料的转印刷方法及装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20180406