CN107653450A - 彩色膜片的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及新材料技术领域,尤其是一种彩色膜片,包括如下步骤:提供一铝基底;利用阳极氧化着色的方法在所述铝基底表面形成一层基膜;利用微波等离子体化学气相沉积方法,在反应腔中通入甲烷、氢气和氧气的混合气体,选择微波频率为915MHz的固体微波源、温度为400℃、微波功率为1.5kw~4kw,气压20~45mbar,在所述基膜表面形成类金刚石薄膜作为保护层。本发明通过在现有的彩色基膜上形成亲水性/疏水性类金刚石薄膜,提高了彩色基膜的硬度和持久性具有很好的应用。
Description
技术领域
本发明涉及新材料技术领域,尤其是一种类金刚石薄膜的制备方法。
背景技术
类金刚石薄膜(DLC,DIAMOND-LIKE CARBON)是一种由碳元素构成、在性质上和钻石类似,同时又具有石墨原子组成结构的物质。DLC是一种非晶态薄膜,由于具有高硬度和高弹性模量,被广泛研究和应用。
现有的DLC薄膜透光性不佳、疏水性或亲水性难以控制,限制了其应用领域的进一步拓展。
另外,通过着色的工艺获得的彩色膜片由于其颜色丰富多变,可塑形等优点,被广泛应用于包装工业、机械工业中。但是,由于彩色膜片的硬度很低,在使用过程中容易刮花或破损,影响产品外观的持久美观效果。
如果能将类金刚石薄膜、彩色膜片的优点相互,获得一种新的材料成为我人们研究的重点。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供一种彩色膜片的制备方法,包括如下步骤:
提供一铝基底;
利用阳极氧化着色方法在所述铝基底表面形成一层基膜;
利用微波等离子体化学气相沉积方法,在反应腔中通入甲烷、氢气和氧气的混合气体,选用微波频率为915MHz的固体微波源、温度为400℃、微波功率为1.5kw~4kw,气压20~45mbar,在所述基膜表面形成类金刚石薄膜作为保护层。
有益效果:
本发明在彩色基膜上再制备一层类金刚石薄膜作为保护膜,能够大大提高彩色基膜的抗刮花能力,而且类金刚石薄膜透光性良好,对彩色基膜本身的色彩无影响。本发明还在彩色基膜与类金刚石薄膜之间引入结合层,大大提高进金刚石薄膜的附着力,延长实用寿命。本发明提供的彩色膜片能够应用于包装技术领域、机械工业领域等,具有良好的应用前景。
附图说明
图1a为本发明实施例1彩色膜片中亲水性类金刚石薄膜的扫描电镜(SEM)图;图1b为本发明实施例2彩色膜片中疏水性类金刚石薄膜的扫描电镜(SEM)图。
图2为本发明实施例1彩色膜片中亲水性类金刚石薄膜的透光率测试结果图。
图3为本发明实施例2彩色膜片中疏水性类金刚石薄膜的透光率测试结果图。
图4为本发明实施例3的彩色膜片结构示意图。
图5a为本发明实施例2镜片单体中疏水性类金刚石薄膜的摩擦系数测试结果图;图5b为本发明实施例2镜片单体中疏水性类金刚石薄膜的磨损率测试结果图。
具体实施例方式
实施例1
本实施例提供一种亲水性类金刚石薄膜的制备方法,包括如下步骤:
将所述准备好的铝基底置于反应腔中,在反应腔中按照体积流量比为3:100:1通入甲烷、氢气和氧气的混合气体。优选地,在本实施例中控制甲烷、氢气和氧气的标准气体流量分别为:甲烷12sccm和氢气400sccm,氧气4sccm。进一步地,控制反应条件:选用微波频率为915MHz的固体微波源、温度400℃、微波功率1.5kw~2.5kw、气压20~30mbar,在所述铝基底的表面形成亲水性类金刚石薄膜。具体地,镀膜速度优选为45~60min沉积1μm,形成厚度接近5μm(最大厚度不超过10μm)的亲水性类金刚石薄膜。结合图1a所示,这种亲水性类金刚石薄膜的晶体粒径大小为50~100nm,显示出良好的亲水性。
另外,本实施例还提供了这种亲水性类金刚石薄膜的透光率测试。现有的类金刚石薄膜,由于受生产工艺所限,均是有颜色的。而本实施例所生产的类金刚石薄膜是透明无色的。结合图2所示,其在400~700nm的可见光区域透光率均达到90%以上,说明疏水性类金刚石薄膜具有很高的透光率。另外,这种亲水性类金刚石薄膜还具有很好的硬度,硬度值能达到9H。
实施例2
本实施例提供一种疏水性类金刚石薄膜的制备方法,包括如下步骤:
将所述准备好的铝基底置于反应腔中,在反应腔中按照体积流量比为3:100:1通入甲烷、氢气和氧气的混合气体。优选地,在本实施例中控制甲烷、氢气和氧气的标准气体流量分别为:甲烷12sccm和氢气400sccm,氧气4sccm。进一步地,控制反应条件:选用微波频率为915MHz的大功率固体微波源、温度400℃、功率3kw~4kw,气压35~45mbar,在所述铝基底的表面形成疏水性类金刚石薄膜。具体地,镀膜速度优选为45~60min沉积1μm,形成厚度接近5μm(最大厚度不超过10μm)的疏水性类金刚石薄膜。结合图1b所示,这种疏水性类金刚石薄膜的晶体粒径大小为10~50nm,与亲水性类金刚石薄膜相比,晶体粒径更小更致密,显示出良好的疏水性。另外,本实施例还提供了这种疏水性类金刚石薄膜的透光率测试。现有的类金刚石薄膜,由于受生产工艺所限,均是有颜色的。而本实施例所生产的类金刚石薄膜是透明无色的。结合图3所示,其在400~700nm的可见光区域透光率均达到90%以上,平均透光率为98.31%,说明疏水性类金刚石薄膜具有很高的透光率。
另外,这种疏水性类金刚石薄膜还具有很好的硬度。采用美国UMT-3摩擦磨损试验机,测试有机玻璃表面的类金刚石薄膜的摩擦磨损性能。采用GCr15对磨副,实验时间20min,环形轨道磨损(轨道半径6mm),摩擦速度200Rpm,载荷0.5N。通过上述磨损测试,获得的结果如图5a、5b所示:类金刚石薄膜的摩擦系数约为0.2,磨损率为7.75×10-17m3N-1m-1。类似地,采用《GB/T6739-1996涂膜硬度铅笔测定法》测定,硬度值能达到9H。
实施例3
本实施例介绍一种彩色膜片及其制备方法。
如图4所示,本实施例的彩色膜片101包括:从下而上依次设置铝基底102、基膜103、保护层104。其中,铝基底102的材质可例如为金属铝或铝合金。基膜103可为市面上颜色多变的彩色镀膜。
优选地,所述保护层104的材质为亲水性或疏水性的类金刚石薄膜,厚度不大于5μm。为了提高类金刚石薄膜于基膜的附着力,在保护层104和基膜103之间还包括一结合层105,本实施例中结合层105的材质可例如为纳米二氧化硅-环氧树脂、有机硅树脂,厚度约为0.5~2μm。
下面介绍这种彩色膜片的制备方法,包括如下步骤:
步骤1:提供一铝基底,所述铝基底经过必要的清洁步骤除去表面杂质。
步骤2:利用阳极氧化着色方法在所述铝基底表面形成一层基膜。
基膜的获得可借用目前较为成熟的电镀技术或阳极氧化着色技术,获得例如塑料彩膜、金属电镀膜或者各种颜色的氧化铝保护膜等,均可以达到本发明目的。本实施例仅提供示例性的制备方法,不作为对本发明的限制。
本实施例的所述阳极氧化着色的方法,参考自机械工业出版社出版的、王学武主编的《金属表面处理技术》第2版。具体地,包括如下步骤:
将所述铝基底作为阳极,阴极为铅;
提供硫酸以及着色剂作为电解液,使所述阳极、阴极同时置于所述电解液中;其中,硫酸和着色剂可例如为硝酸银0.4~10g/L、硫酸5~30g/L。
通以直流电的电源后,控制电压8~20V、在室温下电解0.5~20min;使所述铝基底形成一层金色的基膜。当然,现有技术中还需要对形成的彩色基膜进行封闭处理,但在本实施例中,后续还需要附着结合层和保护层,该步骤可省略。
在其他实施例中,本领域技术人员可根据实际需要调整反应过程的参数、电解液类型获得不同颜色的的氧化铝基膜。
步骤3:在彩色基膜上形成结合层。由于,类金刚石薄膜存在与其他材料附着力不够的问题,直接形成在彩色基膜上使用寿命较短。而结合层与大部分的材料的附着性较好,因此本实施例中将引入结合层。
具体地,先对彩色基膜进行清洁,去除彩色基膜表面杂质。必要时对所述彩色基膜进行电晕处理,提高彩色基膜的附着力。
本实施例采用喷淋的方法在所述基膜表面喷涂材料,通过自流平使基膜的淋涂材料平整。所述喷淋装置中装有纳米二氧化硅-环氧树脂分散液,所述基底对应于所述喷淋装置移动,以承接所述淋涂液。在透明基底13的上下表面喷涂淋涂液,经过自流平过程,使得淋涂液均匀、平整地形成在彩色基膜表面。其中,所述淋涂液选用纳米二氧化硅-环氧树脂分散液,调节淋涂液的粘稠度为5~20mpa.s,彩色基膜经过喷淋装置的喷淋速度为1~5cm/s;淋涂液的喷出流量速度为20~30ml/s。
最后通过红外线预烘烤、紫外线固化后,在彩色基膜表面形成纳米二氧化硅-环氧树脂作为结合层。结合层的引入使得类金刚石薄膜克服附着力不高的问题,在彩色基膜上能稳定附着,起到保护彩色基膜的作用。
步骤4,参考实施例1,利用微波等离子体化学气相沉积方法,在所述基膜上沉积亲水性类金刚石薄膜作为保护层。
将形成在铝基底上的基膜置于反应腔中,在反应腔中按照体积流量比为3:100:1通入甲烷、氢气和氧气的混合气体。优选地,在本实施例中控制甲烷、氢气和氧气的标准气体流量分别为:甲烷12sccm和氢气400sccm,氧气4sccm。进一步地,控制反应条件:选用微波频率为915MHz的大功率固体微波源、温度400℃、微波功率1.5kw~2.5kw、气压20~30mbar,在所述基膜表面形成亲水性类金刚石薄膜。具体地,亲水性类金刚石薄膜的镀膜速度优选为45~60min沉积1μm,形成厚度接近5m(最大厚度不超过10μm)的亲水性类金刚石薄膜作为保护层。
当然,该保护层也可以是疏水性类金刚石薄膜。则可参考实施例2所示:
将形成在铝基底上的基膜置于反应腔中,在反应腔中按照体积流量比为3:100:1通入甲烷、氢气和氧气的混合气体。优选地,在本实施例中控制甲烷、氢气和氧气的标准气体流量分别为:甲烷12sccm和氢气400sccm,氧气4sccm。进一步地,选用微波频率为915MHz的固体微波源、温度400℃、功率3kw~4kw,气压35~45mbar,在所述基膜表面形成疏水性类金刚石薄膜作为保护层。具体地,疏水性类金刚石薄膜的镀膜速度优选为45~60min沉积1μm,形成厚度接近5μm(最大厚度不超过10μm)的疏水性类金刚石薄膜作为保护层。
此时,获得覆盖有类金刚石薄膜保护层的彩色膜片。
采用本实施例所获得的彩色膜片,由于类金刚石薄膜保护层的引入使得表面具有较高的硬度,不容易被刮花;而且类金刚石薄膜保护层具有良好的透光率,不会影响基膜自身的颜色或花纹,能够长时间保护基膜,维持基膜持久美观。
Claims (10)
1.一种彩色膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供一铝铝基底;
利用阳极氧化着色方法在所述铝基底表面形成一层基膜;
利用微波等离子体化学气相沉积方法,在反应腔中通入甲烷、氢气和氧气的混合气体,选用微波频率为915MHz的固体微波源、温度为400℃、微波功率为1.5kw~4kw,气压20~45mbar,在所述基膜表面形成类金刚石薄膜作为保护层。
2.根据权利要求1所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,利用微波等离子体化学气相沉积方法,在反应腔中通入甲烷、氢气和氧气的混合气体,选用微波频率为915MHz的固体微波源、温度为400℃、微波功率为3kw~4kw,气压35~45mbar,在所述基膜表面形成疏水性类金刚石薄膜作为保护层。
3.根据权利要求1所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,利用微波等离子体化学气相沉积方法,在反应腔中通入甲烷、氢气和氧气的混合气体,选用微波频率为915MHz的固体微波源、温度为400℃、微波功率为1.5kw~2.5kw,气压20~30mbar,在所述基膜表面形成亲水性类金刚石薄膜作为保护层。
4.根据权利要求1所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,还包括在所述基膜上形成结合层,再在所述结合层上形成所述保护层。
5.根据权利要求4所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,所述结合层选自纳米二氧化硅-环氧树脂复合材料、有机硅树脂。
6.根据权利要求4或5所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,所述结合层的厚度为0.5~2μm。
7.根据权利要求1所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,所述混合气体中:所述甲烷、氢气和氧气的体积流量之比为3:100:1。
8.根据权利要求1或7所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,所述混合气体中:所述甲烷、氢气和氧气的体积流量分别为12sccm、400sccm、4sccm。
9.根据权利要求1所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,所述类金刚石薄膜的形成速度为1μm/45~60min。
10.根据权利要求1所述彩色膜片的制备方法,其特征在于,所述阳极氧化着色方法包括:将所述铝基底作为阳极,阴极为铅;
提供硫酸以及着色剂作为电解液,使所述阳极、阴极同时置于所述电解液中;
通以直流电的电源后,控制电压8~20、在室温下电解0.5~20min;使所述铝基底形成一层彩色基膜。
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